WO2018181476A1

WO2018181476A1 - 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及び、デバイス製造方法

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Publication number: WO2018181476A1
Application number: PCT/JP2018/012767
Authority: WO
Inventors: 青木　保夫; 瑛彦冨江
Original assignee: 株式会社ニコン
Priority date: 2017-03-31
Filing date: 2018-03-28
Publication date: 2018-10-04
Also published as: CN110546572B; TW201903532A; KR20230110827A; TWI758452B; KR20190124806A; CN110546572A; KR102630304B1

Abstract

露光装置（１）は、光学系（１３）を介して照明光（ＥＬ）を物体（Ｐ）に照射し、物体を走査露光して、マスク（Ｍ）が有する所定パターンを物体上に形成する露光装置において、光学系を支持する支持装置（１４）と、支持装置に設けられ、物体を非接触支持する物体支持部（１５２）とを備える。

Description

露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及び、デバイス製造方法

　本発明は、例えば、物体を露光する露光装置及び露光方法、この露光装置を用いるフラットパネルディスプレイの製造方法、並びに、この露光装置を用いるデバイス製造方法の技術分野に関する。

　液晶表示素子や半導体素子等の電子デバイスを製造するためのリソグラフィ工程において、露光装置が用いられている。露光装置は、所望のパターンが形成されたマスクを介した照明光を、投影光学系を用いてプレート（例えば、レジストが塗布されたガラス基板）に投影することで、プレートにパターンを形成する。露光装置は、プレートを移動させながらプレートに照明光を投影する。このため、プレートの位置精度が悪化すると、パターンをプレートに適切に形成することができない可能性がある。

米国特許出願公開第２０１０／０２６６９６１号明細書

　第１の態様によれば、光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光して、マスクが有する所定パターンを前記物体上に形成する露光装置において、前記光学系を支持する支持装置と、前記支持装置に設けられ、前記物体を非接触支持する物体支持部とを備える露光装置が提供される。

　第２の態様によれば、光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光しマスクに設けられた所定パターンを前記物体上に形成する露光装置において、前記物体を非接触支持する物体支持部と、前記マスク又は前記マスクを駆動するマスク駆動部を非接触支持するマスク支持部と、前記マスク支持部と前記光学系との少なくとも何れか一方と前記物体支持部とを支持する支持装置とを備える露光装置が提供される。

　第３の態様によれば、光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光しマスクに設けられた所定パターンを前記物体上に形成する露光装置において、前記物体を非接触支持する物体支持部と、前記マスク又は前記マスクを駆動するマスク駆動部を非接触支持するマスク支持部と、前記物体支持部と前記マスク支持部とを支持する支持装置とを備える露光装置が提供される。

　第４の態様によれば、物体の所定面を非接触支持する物体支持部と、前記所定面を走査露光し、所定パターンを前記所定面上に形成する処理部とを備える露光装置が提供される。

　第５の態様によれば、上述した第１の態様から第４の態様の露光装置のいずれかを用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することとを含むフラットパネルディスプレイの製造方法が提供される。

　第６の態様によれば、上述した第１の態様から第４の態様の露光装置のいずれかを用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することとを含むデバイス製造方法が提供される。

　第７の態様によれば、光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光して、マスクが有する所定パターンを前記物体上に形成する露光方法において、前記光学系を支持する支持装置に設けられた物体支持部により、前記物体を非接触支持することと、を含む露光方法が提供される。

　第８の態様によれば、光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光しマスクに設けられた所定パターンを前記物体上に形成する露光方法において、前記マスク又は前記マスクを駆動するマスク駆動部を非接触支持するマスク支持部と前記光学系との少なくとも何れか一方と、前記物体を非接触支持する物体支持部とを支持装置により支持することと、を含む露光方法が提供される。

　第９の態様によれば、光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光しマスクに設けられた所定パターンを前記物体上に形成する露光方法において、前記物体を非接触支持する物体支持部と、前記マスク又は前記マスクを駆動するマスク駆動部を非接触支持するマスク支持部とを支持装置により支持することと、を含む露光方法が提供される。

　第１０の態様によれば、物体の所定面を非接触支持することと、前記所定面を走査露光し、所定パターンを前記所定面上に形成することと、を含む露光方法が提供される。

図１は、第１実施形態の露光装置のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図２は、第１実施形態の露光装置のＸＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図３（ａ）は、定盤を上方から観察した平面図であり、図３（ｂ）は、定盤を下方から観察した平面図である。図４は、第１実施形態の露光装置の変形例のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図５は、第２実施形態の露光装置のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図６は、第２実施形態の露光装置の変形例のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図７は、第３実施形態の露光装置のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図８は、第４実施形態の露光装置のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図９は、第４実施形態の露光装置のＸＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図１０は、定盤を下方から観察した平面図である。図１１は、第５実施形態の露光装置のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図１２は、第６実施形態の露光装置のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図１３は、第６実施形態の露光装置のＸＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図１４は、第７実施形態の露光装置のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図１５は、第７実施形態の露光装置のＸＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図１６は、定盤を上方から観察した平面図である。図１７は、第８実施形態の露光装置のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図１８は、第９実施形態の露光装置のＸＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図１９は、定盤を上方から観察した平面図である。図２０は、定盤を上方から観察した平面図である。図２１は、定盤を上方から観察した平面図である。図２２は、第１０実施形態の露光装置のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図２３は、定盤を上方から観察した平面図である。図２４（ａ）は、保持部の下面を示す平面図であり、図２４（ｂ）は、保持部の側面を示す平面図である。図２５は、保持部のＹＺ断面を示す断面図である。図２６（ａ）は、チャック部のＹＺ断面を示す断面図であり、図２６（ｂ）は、チャック部を下方から観察した平面図である。図２７は、保持部の下面において複数のチャック部の移動方向を示す平面図である。図２８は、露光装置を用いて表示パネルを製造するデバイス製造方法の流れを示すフローチャートである。

　以下、図面を参照しながら、露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及び、デバイス製造方法について説明する。但し、本発明が以下に説明する実施形態に限定されることはない。

　以下の説明では、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸から定義されるＸＹＺ直交座標系を用いて、露光装置を構成する構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、説明の便宜上、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々が水平方向（つまり、水平面内の所定方向）であり、Ｚ軸方向が鉛直方向（つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向ないしは重力が作用する重力方向）であるものとする。また、＋Ｚ側が上方（上側）であり、－Ｚ側が下方（下側）であるものとする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転方向（言い換えれば、傾斜方向）を、夫々、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向と称する。

　（１）第１実施形態の露光装置１
　はじめに、図１から図３（ｂ）を参照しながら、第１実施形態の露光装置１について説明する。図１は、第１実施形態の露光装置１のＹＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図２は、第１実施形態の露光装置１のＸＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図３（ａ）は、定盤１４を上方から観察した平面図である。図３（ｂ）は、定盤１４を下方から観察した平面図である。

　第１実施形態の露光装置１は、フォトレジスト（つまり、感光剤）が塗布された平板ガラスであるプレートＰを、マスクＭに形成されたマスクパターンの像で露光する。その結果、プレートＰには、マスクパターンに対応するデバイスパターンが転写（言い換えれば、形成）される。露光装置１によって露光されたプレートＰは、例えば、表示装置（例えば、液晶ディスプレイや、有機ＥＬディスプレイ等）の表示パネルを製造するために使用される。この場合、プレートＰは、例えば、１辺または対角線の長さが５００ｍｍ以上となる矩形の平板ガラスとなる。但し、プレートＰのサイズはどのようなサイズであってもよい。

　露光装置１は、マスクＭとプレートＰとを所定の走査方向（第１実施形態では、Ｘ軸方向）に沿って移動させながらマスクＭに照明光ＥＬを照射することで、プレートＰ上の一のショット領域を露光する。一のショット領域の露光が終了した後、他のショット領域の露光を開始するために、露光装置１は、プレートＰを走査方向に直交する非走査方向（第１実施形態では、Ｙ軸方向）に沿って移動させる。その後、マスクＭとプレートＰとを走査方向に沿って移動させながらマスクＭに照明光ＥＬを照射することで、プレートＰ上の他のショット領域を露光する。以降、同様の動作が、プレートＰ上の全てのショット領域に対して繰り返される。つまり、露光装置１は、いわゆる、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置である。

　図１から図３（ｂ）に示すように、このような露光装置１は、照明光学系１１と、マスクステージ１２と、投影光学系１３と、定盤１４と、マスク支持部１５１と、プレート支持部１５２と、プレートステージ１６とを備えている。

　照明光学系１１は、不図示の光源（例えば、水銀ランプ）から射出された光を、不図示の光学素子を介して、露光用の照明光ＥＬとしてマスクＭに照射する。不図示の光学素子は、反射鏡、ダイクロイックミラー、シャッタ、波長選択フィルタ及びレンズの少なくとも一つを含む。照明光ＥＬとしては、例えば、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｇ線（波長４３６ｎｍ）若しくはｈ線（波長４０５ｎｍ）、又は、これらのうちの少なくとも二つの合成光が用いられる。尚、照明光学系１１の一具体例は、例えば、米国特許第５，７２９，３３１号明細書等に記載されている。照明光学系１１が照射した照明光ＥＬは、照明光学系１１よりも下方に位置するマスクＭ及び投影光学系１３を介してＺ軸方向に沿って－Ｚ側に向かって進行することで、マスクＭ及び投影光学系１３よりも下方に位置するプレートＰに照射される。従って、第１実施形態では、照明光ＥＬの進行方向は、重力方向（つまり、＋Ｚ側から－Ｚ側に向かう方向）となる。

　照明光学系１１は、支持フレーム１１１を介して床面Ｇ等に支持される。支持フレーム１１１は、空気ばね等の防振装置を介して床面Ｇに支持される。このため、照明光学系１１は、床面Ｇに対して振動的に分離されている。なお、支持フレーム１１１は、空気ばね等の防振装置を介して床面Ｇに支持されていなくてもよい。更に、照明光学系１１は、投影光学系１３を支持する定盤１４（更には、後述するマスクステージ１２を支持する支持フレーム１２５及びプレートステージ１６を支持する支持フレーム１６０）とは離間して配置される。このため、照明光学系１１は、投影光学系１３、マスクＭ及びプレートＰに対して振動的に分離されている。

　マスクステージ１２は、マスクＭを保持可能である。マスクＭを保持するために、マスクステージ１２は、マスクホルダ１２１と、固定部１２２と、ホルダ支持部１２３とを含む。マスクホルダ１２１は、ＸＹ平面に沿って広がる板状の部材である。マスクホルダ１２１の下面（つまり、－Ｚ側の面）の中央部には、マスクＭを収容可能な凹部が形成されている。マスクホルダ１２１は、マスクホルダ１２１を収容可能な開口が形成された板状の部材であるホルダ支持部１２３によって支持される。マスクホルダ１２１の凹部に収容されたマスクＭは、マスクホルダ１２１によって吸着保持される。マスクＭを吸着保持するために、マスクホルダ１２１の凹部には、不図示の気体吸引孔が形成されている。更に、マスクホルダ１２１の凹部に収容されたマスクＭの下面の一部は、ホルダ支持部１２３の下面からマスクホルダ１２１に向かって（つまり、マスクホルダ１２１が収容された開口に向かって）延びるようにホルダ支持部１２３に配置された着脱自在な固定部１２２上に位置する。従って、マスクホルダ１２１からのマスクＭの落下は、マスクホルダ１２１による吸着及び固定部１２２によって防止される。

　マスクホルダ１２１は、マスクＭを保持したまま、少なくともＸ軸方向（つまり、走査方向）に沿ってホルダ支持部１２３と共に移動可能である。このため、マスクホルダ１２１の移動に伴い、マスクホルダ１２１が保持しているマスクＭもまた、少なくともＸ軸方向に沿って移動可能である。マスクホルダ１２１を移動させるために、マスクステージ１２は、マスクステージ駆動系１２４を含む。マスクステージ駆動系１２４は、例えば、ボイルコイルモータを含む駆動系であるが、その他のモータ（或いは、駆動源）を含む駆動系であってもよい。マスクステージ駆動系１２４がボイルコイルモータを含む駆動系である場合には、マスクステージ駆動系１２４は、定盤１４とは離間して設けられる支持フレーム１２５に固定され且つＸ軸方向に沿って延びるＸガイド部１２４１と、ホルダ支持部１２３に固定される可動子（例えば、磁石及びコイルの一方）１２４２と、Ｘガイド部１２４１に固定される固定子（例えば、磁石及びコイルの他方）１２４３を含む。尚、Ｘガイド部１２４１が固定子１２４３に固定されているようマスクステージ駆動系に限らず、Ｘガイド部１２４１を備えていない一方でＸ軸方向に延びる固定子１２４３を備えるマスクステージ駆動系が用いられてもよい。図１から図２に示す例では、露光装置１は、Ｙ軸方向に沿ってマスクステージ１２を挟み込むように配置される一対のマスクステージ駆動系１２４を備えているが、露光装置１は、任意の数のマスクステージ駆動系１２４を任意の位置に備えていてもよい。尚、支持フレーム１２５は、空気ばね等を含む不図示の防振装置を介して床面Ｇによって支持される。このため、マスクステージ１２は、床面Ｇに対して振動的に分離されている。但し、支持フレーム１２５は、空気ばね等を含む不図示の防振装置を介して床面Ｇによって支持されていなくてもよい。マスクステージ駆動系１２４の一例であるリニアモータ（或いは、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ：Ｖｏｉｃｅ　Ｃｏｉｌ　Ｍｏｔｏｒ）は、固定子と可動子とが互いに非接触な状態でローレンツ力によって繋がっているため、たとえ防振装置がなくても床面Ｇからの振動がマスクステージ１２に伝わらない。

　投影光学系１３は、マスクステージ１２の下方において、定盤１４によって支持されている。投影光学系１３は、例えば、米国特許第６，５５２，７７５号明細書等に記載されたマルチレンズ方式の投影光学系である。具体的には、投影光学系１３は、プレートＰ上に設定される複数の所定形状（例えば、台形）の投影領域ＩＡにマスクＭのパターン像の一部を夫々投影可能な複数の光学系を含む。

　定盤１４は、架台部１４１と、複数の脚部１４２とを含む。架台部１４１は、マスクステージ１２とプレートステージ１６との間の空間においてＸＹ平面に沿って広がる板状の（或いは、枠状の）部材である。架台部１４１のＸＹ平面上における形状は矩形であるが、その他の形状等であってもよい。ＸＹ平面上における架台部１４１の中央部（特に、照明光ＥＬが通過する領域）には、Ｚ軸方向に沿って架台部１４１を貫通する開口が形成されている。開口には、投影光学系１３が収容される。架台部１４１は、開口に投影光学系１３を収容することで、マスクステージ１２の下方及びプレートステージ１６の上方において投影光学系１３を支持する。つまり、投影光学系１３は、架台部１４１に固定されている。複数の脚部１４２の夫々は、Ｚ軸方向に沿って延びる柱状（言い換えれば、棒状）の部材である。複数の脚部１４２は、ＸＹ平面上における架台部１４１の外縁（例えば、四隅）付近において、架台部１４１を下方から支持する。複数の脚部１４２の夫々は、空気ばね等を含む不図示の防振装置を介して床面Ｇによって支持される。このため、定盤１４は、床面Ｇに対して振動的に分離されている。

　架台部１４１の上面（つまり、＋Ｚ側の面、言いかえれば、マスクステージ１２に対向可能な面）の少なくとも一部には、マスク支持部１５１が配置されている（言い換えれば、固定されている）。マスク支持部１５１は、マスク支持部１５１の上面（つまり、＋Ｚ側の面、言いかえれば、マスクステージ１２に対向可能な面）が架台部１４１の上面から露出するように配置される。マスク支持部１５１の上面が架台部１４１の上面から露出する限りは、マスク支持部１５１の少なくとも一部が架台部１４１に埋め込まれていてもよい。

　マスク支持部１５１は、Ｚ軸方向に沿ってマスク支持部１５１の少なくとも一部がマスクステージ１２の少なくとも一部に対向することが可能な位置に配置される。つまり、マスク支持部１５１は、マスク支持部１５１の少なくとも一部がマスクステージ１２の少なくとも一部の下方に位置することが可能な位置に配置される。図１から図３（ａ）に示す例では、マスク支持部１５１は、マスク支持部１５１の少なくとも一部がホルダ支持部１２３の少なくとも一部に対向する（つまり、ホルダ支持部１２３の少なくとも一部の下方に位置する）ことが可能な位置に配置される。

　上述したように、マスクステージ１２はＸ軸方向に沿って移動可能である。この場合、マスク支持部１５１は、マスクステージ１２の位置に関わらずにマスク支持部１５１の少なくとも一部がマスクステージ１２の少なくとも一部の下方に位置することが可能な位置に配置される。つまり、マスク支持部１５１は、マスクステージ１２がどこに位置している場合であっても、マスク支持部１５１の少なくとも一部がマスクステージ１２の少なくとも一部の下方に位置することが可能な位置に配置される。この場合、例えば、マスク支持部１５１は、Ｘ軸方向に沿って延びる形状（例えば、Ｘ軸方向が長手方向となる形状）を有していてもよい。

　マスク支持部１５１は、照明光ＥＬの光路には形成されない。マスク支持部１５１は、照明光ＥＬの光路と重なる位置には形成されない。マスク支持部１５１は、照明光ＥＬが投影光学系１３に入射するように形成される。従って、照明光ＥＬがマスク支持部１５１に遮蔽されることはない。

　以上の条件を満たすマスク支持部１５１の配置位置の一例が、図３（ａ）に示されている。図３（ａ）に示す例では、マスク支持部１５１は、夫々がマスク支持部１５１の一部を構成する支持部１５１１と支持部１５１２とを含む。支持部１５１１は、ホルダ支持部１２３の下面のうちの－Ｙ側の面部分の下方においてＸ軸方向に沿って延びる。支持部１５１２は、ホルダ支持部１２３の下面のうちの＋Ｙ側の面部分の下方においてＸ軸方向に沿って延びる。つまり、支持部１５１１及び１５１２の夫々は、平面視において、Ｘ軸方向が長手方向となる矩形の形状を有する。このように、架台部１４１上には、マスクＭを介した照明光ＥＬの光路（或いは、投影光学系１３の光軸）をＹ軸方向に沿って挟み込むように２つの支持部に分離されたマスク支持部１５１が配置されている。もちろん、架台部１４１上には、単一の支持部を含むマスク支持部１５１又は３つ以上の支持部に分離されたマスク支持部１５１が配置されていてもよい。

　マスク支持部１５１は、定盤１４の上方において、マスクステージ１２の下方からマスクステージ１２を非接触で支持する。つまり、マスク支持部１５１は、定盤１４の上方においてマスクステージ１２がマスク支持部１５１に対して浮上するようにマスクステージ１２を支持する。マスクステージ１２を非接触で支持するために、少なくともマスク支持部１５１の上面には、不図示の複数の第１気体噴出孔及び不図示の複数の第１気体吸引孔が形成されている。このような複数の第１気体噴出孔及び複数の第１気体吸引孔が形成されたマスク支持部１５１として、例えば、多孔体が利用可能である。複数の第１気体噴出孔には、定盤１４内（図１から図２に示す例では、架台部１４１内）に形成される気体供給管１４３を介して、気体（例えば、空気）が供給される。気体供給管１４３には、定盤１４の外面に形成された気体供給口１４４を介して、露光装置１の外部の気体供給装置Ｓから、温度調整がなされた気体が供給される。その結果、複数の第１気体噴出孔からは、マスクステージ１２の下面に向けて（言い換えれば、マスク支持部１５１とマスクステージ１２との間の空間に向けて）気体が噴出される。マスク支持部１５１とマスクステージ１２との間の空間の気体の少なくとも一部は、複数の第１気体吸引孔を介して吸引される。複数の第１気体吸引孔を介して吸引された気体は、定盤１４内（図１から図２に示す例では、架台部１４１内）に形成される気体吸引管１４５及び定盤１４の外面に形成された気体吸引口１４６を介して、露光装置１の外部の気体吸引装置Ｒによって吸引される。マスク支持部１５１は、複数の第１気体噴出孔からマスクＭの下面に噴出される気体の圧力と、複数の第１気体吸引孔から気体を吸引する際に発生する負圧とのバランスにより、マスクステージ１２を非接触で支持する。

　気体供給装置Ｓは、供給する気体の流量（或いは、圧力等のその他の任意の特性）を制御することで、マスク支持部１５１に対するマスクステージ１２のＺ軸方向に沿った相対位置を制御可能である。マスク支持部１５１が投影光学系１３を支持する定盤１４に固定されており且つマスクステージ１２がマスクＭを保持しているがゆえに、気体供給装置Ｓは、供給する気体の流量を制御することで、投影光学系１３に対するマスクＭのＺ軸方向に沿った相対位置を制御可能である。同様に、気体吸引装置Ｒは、吸引する気体の流量（或いは、圧力等のその他の任意の特性）を制御することで、マスク支持部１５１に対するマスクステージ１２のＺ軸方向に沿った相対位置を制御可能である。気体吸引装置Ｒは、吸引する気体の流量を制御することで、投影光学系１３に対するマスクＭのＺ軸方向に沿った相対位置を制御可能である。

　気体供給装置Ｓ及び気体吸引装置Ｒの少なくとも一方は、マスクＭが投影光学系１３の物体面に配置されるように、気体の流量を制御してもよい。気体供給装置Ｓ及び気体吸引装置Ｒの少なくとも一方は、マスクＭがプレートＰと光学的に共役な位置に配置されるように、気体の流量を制御してもよい。

　架台部１４１の下面（つまり、－Ｚ側の面、言いかえれば、プレートＰに対向可能な面）の少なくとも一部には、プレート支持部１５２が配置されている（言い換えれば、固定されている）。プレート支持部１５２は、プレート支持部１５２の下面（つまり、－Ｚ側の面、言いかえれば、プレートＰに対向可能な面）が架台部１４１の下面から露出するように配置される。プレート支持部１５２の下面が架台部１４１の下面から露出する限りは、プレート支持部１５２の少なくとも一部が架台部１４１に埋め込まれていてもよい。

　プレート支持部１５２は、Ｚ軸方向に沿ってプレート支持部１５２の少なくとも一部がプレートＰの少なくとも一部に対向することが可能な位置に配置される。つまり、プレート支持部１５２は、プレート支持部１５２の少なくとも一部がプレートＰの少なくとも一部の上方に位置することが可能な位置に配置される。後述するように、プレートＰはＸ軸方向及びＹ軸方向の夫々に沿って（つまり、ＸＹ平面に沿って）移動可能である。この場合、プレート支持部１５２は、プレートＰの位置に関わらずにプレート支持部１５２の少なくとも一部がプレートＰの少なくとも一部の上方に位置することが可能な位置に配置される。つまり、プレート支持部１５２は、プレートＰがどこに位置している場合であっても、プレート支持部１５２の少なくとも一部がプレートＰの少なくとも一部の上方に位置することが可能な位置に配置される。この場合、例えば、プレート支持部１５２は、ＸＹ平面に沿って広がる形状を有していてもよい。

　プレート支持部１５２は、照明光ＥＬの光路には形成されない。プレート支持部１５２は、照明光ＥＬの光路と重なる位置には形成されない。プレート支持部１５２は、照明光ＥＬがプレートＰに照射されるように形成される。従って、照明光ＥＬがプレート支持部１５２に遮蔽されることはない。

　以上の条件を満たすプレート支持部１５２の配置位置の一例が、図３（ｂ）に示されている。図３（ｂ）に示す例では、プレート支持部１５２は、プレートＰの移動範囲をカバーするようにＸＹ平面に沿って広がる、平面視板状の部材である。但し、プレート支持部１５２には、照明光ＥＬがプレート支持部１５２に遮蔽されないように、照明光ＥＬが投影する台形の投影領域ＩＡに対応する台形の開口１５２１（つまり、Ｚ軸方向に沿ってプレート支持部１５２を貫通する開口１５２１）が、投影領域ＩＡの数だけ形成されている。

　プレート支持部１５２は、定盤１４の下方において、プレートＰの上方からプレートＰを非接触で支持する。プレート支持部１５２がプレートＰの上方からプレートＰを支持するがゆえに、プレート支持部１５２は、プレートＰの上面を支持している。プレートＰの上面は、照明光ＥＬが投影されるプレートＰの露光面（つまり、投影領域ＩＡが設定される面、レジストが塗布された面）である。このため、プレート支持部１５２は、プレートＰの露光面を非接触で支持している。つまり、プレート支持部１５２は、プレートＰの露光面を介してプレートＰを非接触で支持している。

　プレートＰを非接触で支持するために、少なくともプレート支持部１５２の下面には、不図示の複数の第２気体噴出孔及び不図示の複数の第２気体吸引孔が形成されている。このような複数の第２気体噴出孔及び複数の第２気体吸引孔が形成されたプレート支持部１５２として、例えば、多孔体が利用可能である。複数の第２気体噴出孔には、気体供給管１４３及び気体供給口１４４を介して、気体供給装置Ｓから温度調整がなされた気体（例えば、空気）が供給される。つまり、第１実施形態では、マスク支持部１５１に気体を供給するための気体供給管１４３、気体供給口１４４及び気体供給装置Ｓを用いて、プレート支持部１５２に対しても気体が供給される。その結果、複数の第２気体噴出孔からは、プレートＰの上面に向けて（言い換えれば、プレート支持部１５２とプレートＰとの間の空間に向けて）気体が噴出される。プレート支持部１５２とプレートＰとの間の空間の気体の少なくとも一部は、複数の第２気体吸引孔を介して吸引される。複数の第２気体吸引孔を介して吸引された気体は、気体吸引管１４５及び気体吸引口１４６を介して、気体吸引装置Ｒによって吸引される。つまり、第１実施形態では、マスク支持部１５１を介して気体を吸引するための気体吸引管１４５、気体吸引口１４６及び気体吸引装置Ｒを用いて、プレート支持部１５２を介して気体が吸引される。プレート支持部１５２は、複数の第２気体噴出孔からプレートＰの上面に噴出される気体の圧力と、複数の第２気体吸引孔から気体を吸引する際に発生する負圧とのバランスにより、プレートＰを非接触で支持する。プレート支持部１５２は、プレートＰのＺ軸方向に平行な方向の位置について、拘束することが可能である。

　気体供給装置Ｓは、供給する気体の流量（或いは、圧力等のその他の任意の特性）を制御することで、プレート支持部１５２に対するプレートＰのＺ軸方向に沿った相対位置を制御可能である。プレート支持部１５２が投影光学系１３を支持する定盤１４に固定されているがゆえに、気体供給装置Ｓは、供給する気体の流量を制御することで、投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置を制御可能である。同様に、気体吸引装置Ｒは、吸引する気体の流量（或いは、圧力等のその他の任意の特性）を制御することで、プレート支持部１５２に対するプレートＰのＺ軸方向に沿った相対位置を制御可能である。気体吸引装置Ｒは、吸引する気体の流量を制御することで、投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置を制御可能である。

　気体供給装置Ｓ及び気体吸引装置Ｒの少なくとも一方は、プレートＰが投影光学系１３の像面に配置されるように、気体の流量を制御してもよい。気体供給装置Ｓ及び気体吸引装置Ｒの少なくとも一方は、プレートＰがマスクＭと光学的に共役な位置に配置されるように、気体の流量を制御してもよい。

　プレートステージ１６は、プレート支持部１５２により非接触支持され、Ｚ軸方向の位置が拘束されたプレートＰを、少なくともＸ軸方向及びＹ軸方向の夫々に沿って（つまり、ＸＹ平面に沿って）移動させることが可能な装置である。プレートＰを移動させるために、プレートステージ１６は、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙ及びＸ粗動ステージ１６１Ｘを含む粗動ステージ１６１と、微動ステージ１６４とを備える。Ｙ粗動ステージ１６１Ｙ、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘ及び微動ステージ１６４を含むプレートステージ１６は、支持フレーム１６０によって支持される。支持フレーム１６０は、空気ばね等を含む不図示の防振装置を介して床面Ｇによって支持される。このため、プレートステージ１６（更には、プレートステージ１６が移動させるプレートＰ）は、床面Ｇに対して振動的に分離されている。更には、つまり、支持フレーム１６０は、投影光学系１３を支持する定盤１４及びマスクステージ１２を支持する支持フレーム１２５の夫々とは離間して設けられているがゆえに、プレートステージ１６（更には、プレートステージ１６が移動させるプレートＰ）は、定盤１４（更には、定盤１４に固定されている投影光学系１３）及びマスクステージ１２（更には、マスクステージ１２が保持するマスクＭ）に対して振動的に分離されている。尚、支持フレーム１６０は、空気ばね等を含む不図示の防振装置を介さず床面Ｇに支持されるようにしてもよい。粗動ステージ１６１（つまり、Ｙ粗動ステージ１６１ＹとＸ粗動ステージ１６１Ｘ）は、後述するＸ微動ステージ駆動系１６５Ｘ及びＹ微動ステージ駆動系１６５Ｙを介して、非接触な状態で微動ステージ１６４とローレンツ力により繋がっている。そのため、粗動ステージ１６１の振動は、微動ステージ１６４に伝わらない。

　尚、図１及び図２に示す例では、支持フレーム１６０の少なくとも一部の上方（或いは、外側）に定盤１４（特に、架台部１４１）の少なくとも一部が位置し、定盤１４の少なくとも一部の上方（或いは、外側）に支持フレーム１２５の少なくとも一部が位置する。つまり、定盤１４の少なくとも一部（特に、架台部１４１の少なくとも一部）は、Ｚ軸方向に沿って支持フレーム１２５と支持フレーム１６０との間に位置する。

　Ｙ粗動ステージ１６１Ｙは、Ｘ軸方向に沿って延びる（例えば、Ｘ軸方向が長手方向となる形状を有する）板状の部材である。Ｙ粗動ステージ１６１Ｙは、Ｙ粗動ステージ駆動系１６２Ｙを介して、支持フレーム１６０によって支持される。Ｙ粗動ステージ１６１Ｙは、Ｙ粗動ステージ駆動系１６２Ｙによって、少なくともＹ軸方向に沿って移動可能である。Ｙ粗動ステージ駆動系１６２Ｙは、例えば、リニアモータを含む駆動系であるが、その他のモータ（或いは、駆動源）を含む駆動系であってもよい。Ｙ粗動ステージ駆動系１６２Ｙがリニアモータを含む駆動系である場合には、Ｙ粗動ステージ駆動系１６２Ｙは、支持フレーム１６０の上面に固定され且つＹ軸方向に沿って延びる一対のＹガイド部１６２１Ｙと、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙの下面に固定され且つ一対のＹガイド部１６２１Ｙを夫々挟み込むように断面がＵ字形状になる一対のスライド部材１６２２Ｙと、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙの下面に固定される可動子（例えば、磁石及びコイルの一方）１６２３Ｙと、支持フレーム１６０の上面に固定され且つ可動子１６２３Ｙに対向する固定子（例えば、磁石及びコイルの他方）１６２４Ｙとを含む。図１から図２に示す例では、露光装置１は、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙの＋Ｘ側の端部付近に配置されるＹ粗動ステージ駆動系１６２Ｙと、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙの－Ｘ側の端部付近に配置されるＹ粗動ステージ駆動系１６２Ｙとを備えているが、露光装置１は、任意の数のＹ粗動ステージ駆動系１６２Ｙを任意の位置に備えていてもよい。更に、図１から図２に示す例では、Ｘ軸方向に沿ったＹ粗動ステージ１６１Ｙの中央部付近に、主としてＹ粗動ステージ１６１Ｙの変形（典型的には、Ｚ軸方向の変形）を抑制するために、一対のＹガイド部１６２１Ｙ及び一対のスライド部材１６２２Ｙが配置されている。

　Ｘ粗動ステージ１６１Ｘは、板状の部材と当該板状の部材のＹ軸方向に沿った両端部から＋Ｚ側に向かって延びる一対の壁部材とを含む部材である。Ｘ粗動ステージ１６１Ｘは、Ｘ粗動ステージ駆動系１６２Ｘを介して、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙによって支持される。Ｘ粗動ステージ１６１Ｘは、Ｘ粗動ステージ駆動系１６２Ｘによって、少なくともＸ軸方向に沿って移動可能である。Ｘ粗動ステージ駆動系１６２Ｘは、例えば、リニアモータを含む駆動系であるが、その他のモータ（或いは、駆動源）を含む駆動系であってもよい。Ｘ粗動ステージ駆動系１６２Ｘがリニアモータを含む駆動系である場合には、Ｘ粗動ステージ駆動系１６２Ｘは、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙの上面に固定され且つＸ軸方向に沿って延びる一対のＸガイド部１６２１Ｘと、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘの下面に固定され且つ一対のＸガイド部１６２１Ｘを夫々挟み込むように断面がＵ字形状になる一対のスライド部材１６２２Ｘと、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘの下面に固定される可動子（例えば、磁石及びコイルの一方）１６２３Ｘと、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙの上面に固定され且つ可動子１６２３Ｘに対向する固定子（例えば、磁石及びコイルの他方）１６２４Ｘとを含む。図１から図２に示す例では、露光装置１は、単一のＸ粗動ステージ駆動系１６２Ｘを備えているが、露光装置１は、任意の数のＸ粗動ステージ駆動系１６２Ｘを任意の位置に備えていてもよい。

　微動ステージ１６４は、保持部１６４１と、軸部１６４２とを含む。軸部１６４２は、Ｚ軸方向に沿って延びる柱状の（或いは、壁状の）部材である。軸部１６４２は、保持部１６４１の下方から保持部１６４１を支持する。保持部１６４１は、平面視板状の部材である。保持部１６４１の上面は、プレートＰの下面（つまり、プレート支持部１５２によって支持されているプレートＰの露光面とは反対側の面、裏面）に接触可能である。保持部１６４１は、プレートＰの下面を吸着保持する。従って、保持部１６４１の上面には、不図示の気体吸引孔が形成されている。このような気体吸引孔が形成された保持部１６４１として、例えば多孔体を用いることができる。第１実施形態では、保持部１６４１は、ＸＹ平面上におけるプレートＰの中央部を含む領域を保持する。

　微動ステージ１６４は、Ｘ微動ステージ駆動系１６５Ｘによって、プレートＰを保持したまま少なくともＸ軸方向に沿って移動可能である。微動ステージ１６４は、更に、Ｙ微動ステージ駆動系１６５Ｙによって、プレートＰを保持したまま少なくともＹ軸方向に沿って移動可能である。Ｘ微動ステージ駆動系１６５Ｘ及びＹ微動ステージ駆動系１６５Ｙの夫々は、例えば、ボイルコイルモータを含む駆動系であるが、その他のモータ（或いは、駆動源）を含む駆動系であってもよい。Ｘ微動ステージ駆動系１６５Ｘがボイルコイルモータを含む駆動系である場合には、Ｘ微動ステージ駆動系１６５Ｘは、軸部１６４２に固定されるＸガイド部１６５１Ｘと、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘに固定される固定子（例えば、磁石及びコイルの一方）１６５２Ｘと、Ｘガイド部１６５１Ｘに固定される可動子（例えば、磁石及びコイルの他方）１６５３Ｘ（但し、図１から図２では、図面の簡略化のために不図示）とを含む。Ｙ微動ステージ駆動系１６５Ｙがボイルコイルモータを含む駆動系である場合には、Ｙ微動ステージ駆動系１６５Ｙは、軸部１６４２に固定されるＹガイド部１６５１Ｙと、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘに固定される固定子（例えば、磁石及びコイルの一方）１６５２Ｙと、Ｙガイド部１６５１Ｙに固定される可動子（例えば、磁石及びコイルの他方）１６５３Ｙ（但し、図１から図２では、図面の簡略化のために不図示）とを含む。図１から図２に示す例では、露光装置１は、単一のＸ微動ステージ駆動系１６５Ｘ及び単一のＹ微動ステージ駆動系１６５Ｙを備えているが、任意の数のＸ微動ステージ駆動系１６５Ｘ及び任意の数のＹステージ駆動系１６５Ｙを任意の位置に備えていてもよい。

　Ｘ微動ステージ駆動系１６５Ｘ及びＹ微動ステージ駆動系１６５Ｙは、微動ステージ１６４を支持する支持部としても機能する。つまり、微動ステージ１６４は、Ｘ微動ステージ駆動系１６５Ｘ及びＹ微動ステージ駆動系１６５Ｙを介して、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘによって支持されている。

　Ｘ粗動ステージ１６１ＸのＸ軸方向に沿った移動に伴い、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘによって支持されている微動ステージ１６４もまた、Ｘ軸方向に沿って移動する。Ｙ粗動ステージ１６１ＹのＹ軸方向に沿った移動に伴い、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙによって支持されている微動ステージ１６４もまた、Ｙ軸方向に沿って移動する。更に、Ｘ微動ステージ駆動系１６５Ｘ及びＹ微動ステージ駆動系１６５Ｙによって、微動ステージ１６４は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に沿って移動する。微動ステージ１６４のＸ軸方向及びＹ軸方向の夫々の移動に伴い、微動ステージ１６４の保持部１６４１が保持しているプレートＰもまた、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々に沿って移動する。その結果、プレートＰは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々に沿って移動可能となる。

　上述したように、プレートＰは、プレート支持部１５２によって非接触で支持されている。従って、プレートＰを保持する保持部１６４１の移動に伴ってプレートＰが移動したとしても、プレート支持部１５２自体が移動することはない。このため、プレートステージ１６は、プレート支持部１５２に対してプレートＰを相対的に移動させているとも言える。

　第１実施形態では、保持部１６４１は、プレートＰの下方からプレートＰを保持している。つまり、保持部１６４１は、プレートＰの上方からプレートＰを保持していない。このため、照明光ＥＬによるプレートＰの露光が保持部１６４１によって妨げられることはない。このため、保持部１６４１は、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘ、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙ及び微動ステージ１６４の少なくとも一つの移動に伴い、照明光ＥＬを投影する投影光学系１３とＺ軸方向に沿って対向する位置を、プレートＰを保持したまま通過することができる。保持部１６４１は、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘ、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙ及び微動ステージ１６４の少なくとも一つの移動に伴い、投影光学系１３の光軸（つまり、光学中心）を、プレートＰを保持したまま通過することができる。

　Ｙ粗動ステージ駆動系１６２ＹによるＹ粗動ステージ１６１Ｙの単位移動量（いわゆる、ストローク量）は、Ｙ微動ステージ駆動系１６５Ｙによる微動ステージ１６４のＹ軸方向のストローク量よりも大きい。同様に、Ｘ粗動ステージ駆動系１６２ＸによるＸ粗動ステージ１６１Ｘのストローク量は、Ｘ微動ステージ駆動系１６５Ｘによる微動ステージ１６４のＸ軸方向のストローク量よりも大きい。従って、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙは、プレートＰをＹ軸方向に沿って相対的に大きく移動させることで、プレートＰのＹ軸方向の位置を相対的に大まかに制御する。Ｘ粗動ステージ１６１Ｘは、プレートＰをＸ軸方向に沿って相対的に大きく移動させることで、プレートＰのＸ軸方向の位置を相対的に大まかに制御する。一方で、微動ステージ１６４は、プレートＰをＸ軸方向及びＹ軸方向の夫々に沿って相対的に細かく移動させることで、プレートＰのＸ軸方向及びＹ軸方向の夫々の位置を相対的に細かく制御する。

　以上説明した第１実施形態の露光装置１によれば、投影光学系１３を支持する定盤１４に、プレートＰを支持するプレート支持部１５２が配置されている。また、定盤１４に対して中間部材を介して連結された（つまり、定盤１４から離れた位置にある）支持フレームによって、プレート支持部１５２が支持されるようにしてもよい。定盤１４に支持された投影光学系１３にたまった熱がプレート支持部１５２に伝わらないという効果が得られる。

　第１実施形態では、投影光学系１３を支持する定盤１４に、マスクＭを支持するマスク支持部１５１が配置されている。また、定盤１４に対して中間部材を介して連結された（つまり、定盤１４から離れた位置にある）支持フレームによって、マスク支持部１５１が支持されるようにしてもよい。定盤１４に支持された投影光学系１３にたまった熱がマスク支持部１５１に伝わらないという効果が得られる。

　第１実施形態では、プレート支持部１５２及びマスク支持部１５１の双方が同じ部材、たとえば定盤１４に配置されている。また、中間部材を介して互いに連結された異なる部材にプレート支持部１５２及びマスク支持部１５１が夫々配置されるようにしてもよい。

　更に、第１実施形態では、プレート支持部１５２によってプレートＰが非接触で支持される。従って、プレートステージ１６は、プレート支持部１５２に接触支持されていない実質的に浮上しているプレートＰを移動することができる。更には、プレートステージ１６は、相対的に重いプレートホルダによってプレートＰが保持されていない状態で、プレートＰを移動することができる。つまり、プレートステージ１６は、プレートステージ１６にとっては相対的に軽い移動対象物となっているプレートＰを移動することができる。このため、プレートステージ１６は、相対的に小さい力をプレートＰに加えるだけで、プレートＰを移動することができる。このため、プレートステージ１６の構造の簡略化に繋がる。更には、プレートＰの移動に伴ってプレートステージ１６等に発生し得る反力や振動もまた相対的に小さくなる。或いは、プレートＰの移動に伴ってプレートステージ１６等に発生し得る反力や振動自体が発生しにくくなる。このような反力や振動がプレートＰの位置決めの精度の悪化に繋がり得ることを考慮すれば、プレートＰを非接触で支持することは、プレートＰの位置決めの精度の悪化の抑制につながり得る。

　更に、第１実施形態では、マスク支持部１５１によってマスクＭが非接触で支持される。従って、マスクステージ１２は、実質的に浮上しているマスクＭを移動することができる。このため、マスクテージ１２は、相対的に小さい力をマスクＭに加えるだけで、マスクＭを移動することができる。このため、マスクステージ１２の構造の簡略化に繋がる。更には、マスクＭの移動に伴ってマスクステージ１２等に発生し得る反力や振動もまた相対的に小さくなる。或いは、マスクＭの移動に伴ってマスクステージ１２等に発生し得る反力や振動自体が発生しにくくなる。このような反力や振動がマスクＭの位置決めの精度の悪化に繋がり得ることを考慮すれば、マスクＭを非接触で支持することは、マスクＭの位置決めの精度の悪化の抑制につながり得る。

　更に、第１実施形態では、プレート支持部１５２は、プレートＰの上面（つまり、露光面、表面）を非接触で支持する。このため、プレートＰの露光面とプレート支持部１５２との間の間隔が相対的に小さくなる。このため、露光に悪影響を与える可能性があるゴミ（或いは、任意のダスト）がプレートＰの露光面とプレート支持部１５２との間に進入しにくくなる。このため、プレートＰの露光面と投影光学系１３との間（特に、照明光ＥＬの光路）にもまたゴミが進入しにくくなる。従って、ゴミに起因した露光精度の悪化又は不良露光の発生が適切に抑制される。

　更に、第１実施形態では、プレート支持部１５２は、プレートＰを支持するために、プレートＰの露光面に対して気体を噴出する。このため、プレートＰの露光面とプレート支持部１５２との間へのゴミの進入が、プレート支持部１５２から噴出される気体によって適切に抑制される。更には、プレートＰの露光面とプレート支持部１５２との間に侵入してしまったゴミが、プレート支持部１５２から噴出される気体によって、プレートＰの露光面とプレート支持部１５２との間の空間の外側に排出される。従って、ゴミに起因した露光精度の悪化又は不良露光の発生が適切に抑制される。

　更に、第１実施形態では、気体供給管１４３が、プレート支持部１５２に気体を供給するための気体供給管としても用いられ、且つ、マスク支持部１５１に気体を供給するための気体供給管としても用いられる。このため、気体供給管１４３の構造を簡略化することができる。同様に、気体吸引管１４５は、プレート支持部１５２を介して気体を吸引するための気体吸引管としても用いられ、且つ、マスク支持部１５１を介して気体を吸引するための気体吸引管としても用いられる。このため、気体吸引管１４５の構造を簡略化することができる。その結果、気体供給管１４３及び気体吸引管１４５が形成される定盤１４の構造をも簡略化することができる。

　更に、第１実施形態では、プレート支持部１５２から供給される気体の流量及びプレート支持部１５２を介して吸引される気体の流量の少なくとも一方の制御によって、投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置が制御可能である。このため、プレートステージ１６は、プレートＰのＺ軸方向に沿った位置を調整するための駆動系（例えば、プレートＰを保持する保持部１６４１をＺ軸方向に沿って移動させる駆動系）を備えていなくてもよい。このため、プレートステージ１６の簡略化が可能となる。但し、プレートステージ１６は、プレートＰのＺ軸方向に沿った位置を調整するための駆動系を備えていてもよい。

　更に、第１実施形態では、マスク支持部１５１から供給される気体の流量及びマスク支持部１５１を介して吸引される気体の流量の少なくとも一方の制御によって、投影光学系１３に対するマスクＭの相対位置が制御可能である。このため、マスクステージ１２は、マスクＭのＺ軸方向に沿った位置を調整するための駆動系（例えば、マスクＭを保持するマスクホルダ１２１をＺ軸方向に沿って移動させる駆動系）を備えていなくてもよい。このため、マスクステージ１２の簡略化が可能となる。但し、マスクステージ１２は、マスクＭのＺ軸方向に沿った位置を調整するための駆動系を備えていてもよい。

　更に、第１実施形態では、プレートステージ１６の保持部１６４１は、プレートＰの中央部を含む領域を保持する。このため、保持部１６４１がプレートＰの中央部を含む領域以外の領域を保持する場合と比較して、プレートＰの撓み（或いは、しわや、凹凸等の変形）の発生が抑制可能である。

　尚、上述した説明では、架台部１４１とプレート支持部１５２とが物理的に分離可能である。しかしながら、架台部１４１とプレート支持部１５２とが一体化されていてもよい。言い換えれば、架台部１４１の一部がプレート支持部１５２として機能してもよい。例えば、架台部１４１の下面に、気体供給管１４３に連結された気体噴出孔及び気体吸引管１４５に連結された気体吸引孔が形成されていてもよい。この場合、架台部１４１の一部（具体的には、気体噴出孔及び気体吸引孔が形成された部分）がプレート支持部１５２として機能する。或いは、架台部１４１の下面の第１領域にプレート支持部１５２が配置されると共に、架台部１４１の下面の第２領域を含む部分がプレート支持部１５２として機能してもよい。架台部１４１の下面の第３領域に、気体噴出孔が形成されている一方で気体吸引孔が形成されていないプレート支持部１５２が配置されると共に、架台部１４１の下面の第４領域に、気体吸引孔が形成されていてもよい。架台部１４１の下面の第５領域に、気体吸引孔が形成されている一方で気体噴出孔が形成されていないプレート支持部１５２が配置されると共に、架台部１４１の下面の第６領域に、気体噴出孔が形成されていてもよい。

　上述した説明では、架台部１４１とマスク支持部１５１とが物理的に分離可能である。しかしながら、架台部１４１とマスク支持部１５１とが一体化されていてもよい。言い換えれば、架台部１４１の一部がマスク支持部１５１として機能してもよい。例えば、架台部１４１の上面に、気体供給管１４３に連結された気体噴出孔及び気体吸引管１４５に連結された気体吸引孔が形成されていてもよい。この場合、架台部１４１の一部（具体的には、気体噴出孔及び気体吸引孔が形成された部分）がマスク支持部１５１として機能する。或いは、架台部１４１の上面の第７領域にマスク支持部１５１が配置されると共に、架台部１４１の上面の第８領域を含む部分がマスク支持部１５１として機能してもよい。架台部１４１の上面の第９領域に、気体噴出孔が形成されている一方で気体吸引孔が形成されていないマスク支持部１５１が配置されると共に、架台部１４１の下面の第１０領域に、気体吸引孔が形成されていてもよい。架台部１４１の下面の第１１領域に、気体吸引孔が形成されている一方で気体噴出孔が形成されていないマスク支持部１５１が配置されると共に、架台部１４１の下面の第１２領域に、気体噴出孔が形成されていてもよい。

　マスク支持部１５１の少なくとも一部が、Ｚ軸方向に沿ってマスクＭの少なくとも一部に対向していてもよい（言い換えれば、マスクＭの少なくとも一部の下方に位置していてもよい）。例えば、マスク支持部１５１の少なくとも一部が、マスクパターンが形成されていないマスクＭの外周部に対向していてもよい。後述する第８実施形態の露光装置８は、マスク支持部１５１の少なくとも一部がＺ軸方向に沿ってマスクＭの少なくとも一部に対向している露光装置の一例である。尚、マスク支持部１５１の少なくとも一部がマスクＭの少なくとも一部に対向する場合には、マスク支持部１５１の少なくとも他の一部は、マスクステージ１２に対向していてもよいし、対向していなくてもよい。

　上述した説明では、プレート支持部１５２には、照明光ＥＬがプレート支持部１５２に遮蔽されないように、投影領域ＩＡに対応する開口１５２１が形成されている。しかしながら、図４の変形例の露光装置１－１に示すように、この開口１５２１が、透明部材１５３によって埋められていてもよい。透明部材１５３は、照明光ＥＬが通過可能な部材である。従って、開口１５２１が透明部材１５３によって埋められていても、照明光ＥＬが透明部材１５３によって遮蔽されることはない。更に、開口１５２１が透明部材１３１によって埋められるがゆえに、プレート支持部１５２からプレートＰの上面に噴出される気体の圧力や、プレート支持部１５２から気体を吸引する際に発生する負圧が、透明部材１５３とプレートＰの上面との間にも作用する。その結果、開口１５２１の直下（つまり、透明部材１５３の直下）においても、プレートＰを支持する力がプレートＰに作用する。このため、プレートＰがより適切に支持可能となる。或いは、開口１５２１が透明部材１５３によって埋められることに代えて、プレート支持部１５２自体が、照明光ＥＬを通過可能な材料（つまり、透明材料）から形成されていてもよい。投影領域ＩＡに対応するプレート支持部１５２の一部が、透明材料から形成されていてもよい。この場合であっても、投影領域ＩＡの直上においてもプレートＰを支持する力がプレートＰに作用するため、プレートＰがより適切に支持可能となる。

　気体供給管１４３及び気体吸引管１４５の少なくとも一方は、架台部１４１内に形成されていなくてもよい。気体供給管１４３及び気体吸引管１４５の少なくとも一方は、架台部１４１（或いは、脚部１４２）の外面又は外部に配置されていてもよい。気体供給管１４３及び気体吸引管１４５の少なくとも一方は、定盤１４とは無関係に配置されていてもよい。

　上述した説明では、気体供給管１４３は、マスク支持部１５１及びプレート支持部１５２の双方に気体を供給する。このため、気体供給装置Ｓが、投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置を制御するために気体の流量を制御すると、プレート支持部１５２から噴出する気体の流量のみならず、マスク支持部１５１から噴出する気体の流量もまた変化する可能性がある。その結果、投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置が制御されるだけでなく、投影光学系１３に対するマスクＭの相対位置が意図せず変化してしまう可能性がある。同様に、気体供給装置Ｓが、投影光学系１３に対するマスクＭの相対位置を制御するために気体の流量を制御すると、マスク支持部１５１から噴出する気体の流量のみならず、プレート支持部１５２から噴出する気体の流量もまた変化する可能性がある。その結果、投影光学系１３に対するマスクＭの相対位置が制御されるだけでなく、投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置が意図せず変化してしまう可能性がある。このため、気体供給管１４３は、気体供給口１４４に連結された第１の気体供給管と、第１の気体供給管からマスク支持部１５１に連結される第２の気体供給管と、第１の気体供給管から第２の気体供給管に供給される気体の流量を調整可能な第１の調整装置（例えば、バルブ）と、第１の気体供給管からプレート支持部１５２に連結される第３の気体供給管と、第１の気体供給管から第３の気体供給管に供給される気体の流量を調整可能な第２の調整装置（例えば、バルブ）とを備えていてもよい。この場合、マスク支持部１５１から噴出する気体の流量及びプレート支持部１５２から噴出する気体の流量が別個に制御可能であるがゆえに、投影光学系１３に対するマスクＭの相対位置及び投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置を別個に制御可能である。

　或いは、マスク支持部１５１に気体を供給する気体供給管と、プレート支持部１５２に気体を供給する気体供給管とが別個に形成されていてもよい。この場合も、マスク支持部１５１から噴出する気体の流量及びプレート支持部１５２から噴出する気体の流量が別個に制御可能であるがゆえに、投影光学系１３に対するマスクＭの相対位置及び投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置を別個に制御可能である。尚、この場合には、マスク支持部１５１に気体を供給する気体供給口と、プレート支持部１５２に気体を供給する気体供給口とが別個に形成されていてもよい。マスク支持部１５１に気体を供給する気体供給装置と、プレート支持部１５２に気体を供給する気体供給装置とが別個に用意されていてもよい。

　上述した説明では、気体吸引管１４５は、マスク支持部１５１及びプレート支持部１５２の双方を介して気体を吸引する。このため、気体吸引装置Ｒが、投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置を制御するために気体の流量を制御すると、プレート支持部１５２を介して吸引される気体の流量のみならず、マスク支持部１５１を介して吸引される気体の流量もまた意図せず変化する可能性がある。同様に、気体吸引装置Ｒが、投影光学系１３に対するマスクＭの相対位置を制御するために気体の流量を制御すると、マスク支持部１５１を介して吸引される気体の流量のみならず、プレート支持部１５２を介して吸引される気体の流量もまた意図せず変化する可能性がある。このため、気体吸引管１４５は、気体吸引口１４６に連結された第１の気体吸引管と、第１の気体吸引管からマスク支持部１５１に連結される第２の気体吸引管と、第２の気体吸引管から第１の気体吸引管に吸引される気体の流量を調整可能な第３の調整装置（例えば、バルブ）と、第１の気体吸引管からプレート支持部１５２に連結される第３の気体吸引管と、第３の気体供給管から第１の気体供給管に吸引される気体の流量を調整可能な第４の調整装置（例えば、バルブ）とを備えていてもよい。この場合、マスク支持部１５１を介して吸引される気体の流量及びプレート支持部１５２を介して吸引される気体の流量が別個に制御可能であるがゆえに、投影光学系１３に対するマスクＭの相対位置及び投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置を別個に制御可能である。或いは、マスク支持部１５１を介して気体を吸引する気体吸引管と、プレート支持部１５２を介して気体を吸引する気体吸引管とが別個に形成されていてもよい。この場合、マスク支持部１５１を介して気体を吸引する気体吸引口と、プレート支持部１５２を介して気体を吸引する気体吸引口とが別個に形成されていてもよい。マスク支持部１５１を介して気体を吸引する気体吸引装置と、プレート支持部１５２を介して気体を吸引する気体吸引装置とが別個に用意されていてもよい。

　プレートステージ１６の保持部１６４１は、プレートＰの中央部を含む領域以外の領域を保持してもよい。例えば、保持部１６４１は、プレートＰの外縁付近の領域を保持してもよい。この場合であっても、プレートステージ１６がプレートＰを移動させることができる。

　露光装置１は、マスクＭを非接触で支持するマスク支持部１５１に加えて又は代えて、マスク支持部１５１から気体を供給したり吸引したりせずに、マスクステージ１２側からマスク支持部１５１（或いは、定盤１４の上面）側に向けて気体を供給したり、吸引したりして、マスクステージ１２をマスク支持部１５１（或いは、定盤１４の上面）に対して非接触に支持するようにしてもよい。露光装置１は、マスク支持部１５１に加えて又は代えて、マスクＭ又はマスクステージ１２に接触してマスクＭを支持する支持部（例えば、マスクＭ又はマスクステージ１２を吸着して支持する支持部）を備えていてもよい。

　（２）第２実施形態の露光装置２
　続いて、図５を参照しながら、第２実施形態の露光装置２について説明する。図５は、第２実施形態の露光装置２のＹＺ平面に沿った断面（図面の便宜上、一部の側面を含む）を示す断面図である。

　尚、上述した第１実施形態の露光装置１が備える構成要素と同一の構成要素については、同一の参照符号を付してその詳細な説明を省略する。更に、図５では、図面を見やすくするために、上述した第１実施形態の露光装置１が備える構成要素と同一の構成要素の一部の記載を省略している。しかしながら、特段の説明がない場合は、露光装置２は、露光装置１が備える構成要素と同一の構成要素を備えている。以下に説明する第３実施形態以降においても同様である。

　図５に示すように、第２実施形態の露光装置２は、第１実施形態の露光装置１と比較して、定盤１４とは離間した定盤２４を更に備えているという点で異なっている。更に、第２実施形態の露光装置２は、第１実施形態の露光装置１と比較して、マスク支持部１５１が定盤１４に代えて定盤２４に配置されているという点で異なっている。露光装置２のその他の構造は、露光装置１のその他の構造と同一であってもよい。

　定盤２４は、架台部２４１と、複数の脚部２４２とを含む。架台部２４１は、マスクステージ１２と架台部１４１との間の空間においてＸＹ平面に沿って広がる板状の（或いは、枠状の）部材である。架台部２４１は、架台部１４１の上方（或いは、外側）に位置する。従って、第２実施形態では、架台部１４１の少なくとも一部とマスクステージ１２の少なくとも一部との間に、架台部２４１の少なくとも一部が位置する。架台部２４１のＸＹ平面上における形状は矩形であるが、その他の形状等であってもよい。ＸＹ平面上における架台部２４１の中央部（特に、照明光ＥＬが通過する領域）には、Ｚ軸方向に沿って架台部２４１を貫通する開口が形成されている。マスクＭを介した照明光ＥＬは、架台部２４１に形成された開口を通過して投影光学系１３に入射する。架台部２４１に形成された開口は、透明部材によって埋められていてもよい。マスクＭを介した照明光ＥＬは、透明部材を介しているため遮光されることはなく、投影光学系１３に入射する。複数の脚部２４２の夫々は、Ｚ軸方向に沿って延びる柱状の部材である。複数の脚部２４２は、複数の脚部１４２の外側に位置するが、外側に位置していなくてもよい。複数の脚部２４２は、ＸＹ平面上における架台部２４１の外縁（例えば、四隅）付近において、架台部２４１を下方から支持する。複数の脚部２４２の夫々は、空気ばね等を含む不図示の防振装置を介して床面Ｇによって支持される。このため、定盤２４は、床面Ｇに対して振動的に分離されている。

　架台部２４１の上面（つまり、＋Ｚ側の面、言いかえれば、マスクステージ１２に対向可能な面）の少なくとも一部には、マスク支持部１５１が配置されている（言い換えれば、固定されている）。マスク支持部１５１が架台部２４１の上面に配置される点を除いて、第２実施形態におけるマスク支持部１５１の構造等は、第１実施形態におけるマスク支持部１５１の構造等と同一である。

　マスク支持部１５１は、定盤２４の上方において、マスクステージ１２の下方からマスクステージ１２を非接触で支持する。マスク支持部１５１に形成された複数の第１気体噴出孔には、気体供給管１４３に代えて、定盤２４内（図５に示す例では、架台部２４１内）に形成される気体供給管２４３を介して、気体が供給される。気体供給管２４３には、定盤２４の外面に形成された気体供給口２４４を介して、気体供給装置Ｓ（但し、図５では不図示）から気体が供給される。従って、第１実施形態では、定盤１４に形成された気体供給管１４３及び気体供給口１４４は、プレート支持部１５２に気体を供給するために用いられる一方で、マスク支持部１５１に気体を供給するために用いられなくてもよい。マスク支持部１５１に形成された複数の第１気体吸引孔を介して吸引された気体は、気体吸引管１４５に代えて、定盤２４内（図５に示す例では、架台部２４１内）に形成される気体吸引管２４５及び定盤２４の外面に形成された気体吸引口２４６を介して、気体吸引装置Ｒ（但し、図５では不図示）によって吸引される。従って、第１実施形態では、定盤１４に形成された気体吸引管１４５及び気体吸引口１４６は、プレート支持部１５２を介して気体を吸引するために用いられる一方で、マスク支持部１５１を介して気体を吸引するために用いられなくてもよい。

　このような第２実施形態の露光装置２によれば、第１実施形態の露光装置１と同様に、投影光学系１３を支持する定盤１４に、プレートＰを支持するプレート支持部１５２が配置されている。このため、第１実施形態と同様に、プレートＰの位置決め（特に、投影光学系１３に対するプレートＰの相対的な位置決め）の精度の悪化が適切に抑制される。更に、第２実施形態の露光装置２は、第１実施形態の露光装置１が享受可能な効果（但し、定盤１４にマスク支持部１５１が配置されることで享受可能な効果を除く）と同様の効果を享受することができる。

　尚、上述した説明では、マスクステージ１２が架台部２４１の上方に配置され、且つ、マスク支持部１５１が架台部２４１の上面に配置されている。しかしながら、図６の変形例の露光装置２－１に示すように、マスクステージ１２が架台部２４１の下方であって且つ架台部１４１の上方に配置されていてもよい。この場合、マスク支持部１５１は、架台部２４１の下面に配置されていてもよい。更に、マスク支持部１５１は、定盤２４の下方において、マスクステージ１２の上方からマスクステージ１２を非接触で支持してもよい。この場合には、マスクホルダ１２１からマスクＭが落下する可能性が相対的に小さくなるため、マスクステージ１２は、固定具１２２を含んでいなくてもよい。

　（３）第３実施形態の露光装置３
　続いて、図７を参照しながら、第３実施形態の露光装置３について説明する。図７は、第３実施形態の露光装置３のＹＺ平面に沿った断面（図面の便宜上、一部の側面を含む）を示す断面図である。

　図７に示すように、第３実施形態の露光装置３は、第１実施形態の露光装置１と比較して、定盤１４とは離間した定盤３４を更に備えているという点で異なっている。更に、第３実施形態の露光装置３は、第１実施形態の露光装置１と比較して、マスク支持部１５１及びステージ支持部１５２の夫々が定盤１４に代えて定盤３４に配置されているという点で異なっている。更に、第３実施形態の露光装置３は、第１実施形態の露光装置１と比較して、定盤１４に気体供給管１４３、気体供給口１４４、気体吸引管１４５及び気体吸引口１４６が形成されていなくてもよいという点で異なっている。露光装置３のその他の構造は、露光装置１のその他の構造と同一であってもよい。

　定盤３４は、架台部３４１と、複数の脚部３４２とを含む。架台部３４１は、マスクステージ１２とプレートステージ１６との間の空間においてＸＹ平面に沿って広がる板状の（或いは、枠状の）部材である。架台部３４１のＸＹ平面上における形状は矩形であるが、その他の形状等であってもよい。複数の脚部３４２の夫々は、Ｚ軸方向に沿って延びる柱状の部材である。複数の脚部３４２は、複数の脚部１４２の内側に位置するが、内側に位置していなくてもよい。複数の脚部３４２は、ＸＹ平面上における架台部３４１の外縁（例えば、四隅）付近において、架台部３４１を下方から支持する。複数の脚部３４２の夫々は、空気ばね等を含む不図示の防振装置を介して床面Ｇによって支持される。このため、定盤３４は、床面Ｇに対して振動的に分離されている。

　架台部３４１は、架台部１４１と干渉しない（つまり、衝突しない又は接触しない）位置に配置される。架台部３４１は、架台部１４１と干渉しない構造を有している。例えば、図７に示す例では、架台部３４１の内部に、架台部１４１の少なくとも一部及び当該架台部１４１が支持する投影光学系１３が配置可能な空間３４７が形成されている。このため、架台部３４１の上面は、架台部１４１の上面よりも上方に位置する。架台部３４１の下面は、架台部１４１の下面よりも下方に位置する。更に、図７に示す例では、脚部１４２と連結される架台部１４１の一部が架台部３４１の外部に配置される一方で、架台部１４１のその他の一部が架台部３４１の内部の空間３４７に配置される。このため、空間３４７は、架台部３４１の外面（特に、側面）に形成された開口３４７１を介して架台部３４１の外部の空間に連通している。但し、架台部３４１が架台部１４１に干渉しない限りは、架台部３４１は、どのような構造を有していてもよい。

　ＸＹ平面上における架台部３４１の中央部（特に、照明光ＥＬが通過する領域）には、Ｚ軸方向に沿って架台部３４１を貫通する開口が形成されている。Ｚ軸方向に沿って架台部３４１を貫通する開口は、Ｚ軸方向に沿って架台部１４１を貫通する開口（つまり、投影光学系１３が配置される開口）と、Ｚ軸方向に沿って重なる。このため、マスクＭを介した照明光ＥＬは、架台部３４１を貫通する開口を通過して投影光学系１３に入射する。

　架台部３４１の上面の少なくとも一部には、マスク支持部１５１が配置されている（言い換えれば、固定されている）。マスク支持部１５１が架台部２４１の上面に配置される点を除いて、第３実施形態におけるマスク支持部１５１の構造等は、第１実施形態におけるマスク支持部１５１の構造等と同一である。更に、架台部３４１の下面の少なくとも一部には、プレート支持部１５２が配置されている（言い換えれば、固定されている）。プレート支持部１５２が架台部３４１の下面に配置される点を除いて、第３実施形態におけるプレート支持部１５２の構造等は、第１実施形態におけるプレート支持部１５２の構造等と同一である。

　マスク支持部１５１は、定盤３４の上方において、マスクステージ１２の下方からマスクステージ１２を非接触で支持する。プレート支持部１５２は、定盤３４の下方において、プレートＰの上方からプレートＰを非接触で支持する。マスク支持部１５１に形成された複数の第１気体噴出孔及びプレート支持部１５２に形成された複数の第２気体噴出孔には、気体供給管１４３に代えて、定盤３４内（図７に示す例では、架台部３４１内）に形成される気体供給管３４３を介して、気体が供給される。気体供給管３４３には、定盤３４の外面に形成された気体供給口３４４を介して、気体供給装置Ｓ（但し、図７では不図示）から気体が供給される。マスク支持部１５１に形成された複数の第１気体吸引孔及びプレート支持部１５２に形成された複数の第２気体吸引孔を介して吸引された気体は、気体吸引管１４５に代えて、定盤３４内（図７に示す例では、架台部３４１内）に形成される気体吸引管３４５及び定盤３４の外面に形成された気体吸引口３４６を介して、気体吸引装置Ｒ（但し、図７では不図示）によって吸引される。

　このような第３実施形態の露光装置３によれば、第１実施形態の露光装置１と同様に、プレート支持部１５２及びマスク支持部１５１の双方が同じ定盤３４に配置されている。このため、第１実施形態と同様に、マスクＭに対するプレートＰの位置決めの精度の悪化が適切に抑制される。更に、第３実施形態の露光装置３は、マスクＭやプレートＰの移動により生じる振動を、投影光学系１３に伝えないという効果を享受することができる。更に、第３実施形態の露光装置３は、第１実施形態の露光装置１が享受可能な効果（但し、定盤１４にマスク支持部１５１及びプレート支持部１５２の夫々が配置されることで享受可能な効果を除く）と同様の効果を享受することができる。

　尚、第３実施形態においても、第２実施形態と同様に、マスクステージ１２が架台部３４１の上面よりも下方であって且つ架台部１４１の上方に配置されていてもよい。マスク支持部１５１が、架台部３４１の内面（つまり、空間３４７を規定する内面）のうちマスクステージ１２に対向可能な面部分に配置されていてもよい。

　（４）第４実施形態の露光装置４
　続いて、図８から図１０を参照しながら、第４実施形態の露光装置４について説明する。図８は、第４実施形態の露光装置４のＹＺ平面に沿った断面（図面の便宜上、一部の側面を含む）を示す断面図である。図９は、第４実施形態の露光装置４のＸＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図１０は、定盤４４を下方から観察した平面図である。

　図８から図１０に示すように、第４実施形態の露光装置４は、第１実施形態の露光装置１と比較して、エンコーダシステム４７を更に備えているという点で異なっている。更に、第４実施形態の露光装置４は、第１実施形態の露光装置１と比較して、エンコーダシステム４７を配置するために、定盤４４及びプレートステージ４６の一部の構造が定盤１４及びプレートステージ１６の一部の構造と夫々異なるという点で異なっている。具体的には、第４実施形態の露光装置４は、第１実施形態の露光装置１と比較して、定盤４４の架台部４４１及びプレートステージ４６の微動ステージ４６４の一部の構造が架台部１４１及び微動ステージ１６４の一部の構造と夫々異なるという点で異なっている。露光装置４のその他の構造は、露光装置１のその他の構造と同一であってもよい。

　エンコーダシステム４７は、プレートＰの位置を計測する。エンコーダシステム４７は、エンコーダヘッド４７１と、エンコーダスケール４７２と、エンコーダヘッド４７３と、エンコーダスケール４７４とを含む。

　エンコーダヘッド４７１は、Ｘヘッド４７１Ｘと、Ｙヘッド４７１Ｙとを含む。エンコーダスケール４７２は、Ｙ軸方向に沿って延びる複数の格子線がＸ軸方向に所定ピッチで形成された回折格子を含むＸスケール４７２Ｘと、Ｘ軸方向に沿って延びる複数の格子線がＹ軸方向に所定ピッチで形成された回折格子を含むＹスケール４７２Ｙとを含む。Ｘヘッド４７１Ｘは、Ｘスケール４７２Ｘに対して計測ビームを照射し、Ｘスケール４７２Ｘからの干渉ビームを受光する。このため、Ｘヘッド４７１Ｘ及びＸスケール４７２Ｘは、互いに対向可能な位置（特に、Ｚ軸方向に沿って対向可能な位置）に配置される。Ｙヘッド４７１Ｙは、Ｙスケール４７２Ｙに対して計測ビームを照射し、Ｙスケール４７２Ｙからの干渉ビームを受光する。このため、Ｙヘッド４７１Ｙ及びＹスケール４７２Ｙは、互いに対向可能な位置（特に、Ｚ軸方向に沿って対向可能な位置）に配置される。

　エンコーダヘッド４７１は、例えば、プレートステージ４６に配置される。特に、エンコーダヘッド４７１は、プレートステージ４６のうちプレートＰと同様に移動する部材に配置される。例えば、エンコーダヘッド４７１は、プレートＰを保持する微動ステージ４６４（例えば、保持部１６４１）に配置される。図８から図９に示す例では、エンコーダヘッド４７１は、保持部１６４１の下面に配置される。一方で、エンコーダスケール４７２は、例えば、定盤４４及びプレートステージ４６（或いは、微動ステージ４６４）とは異なる物体に配置される。第４実施形態では、エンコーダスケール４７２が配置される物体として、定盤４４に対して相対的に移動可能（特に、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のうちの少なくとも一方に沿って移動可能）な移動体が用いられる。以下では、このような移動体として、定盤４４に対してＹ軸方向に沿って相対的に移動可能な支持フレーム４７５が用いられる例について説明するが、エンコーダスケール４７２の配置位置が以下の例に限定されることはない。

　支持フレーム４７５は、ビーム部４７５１と、一対の柱部４７５２と、一対の終端部４７５３とを含む。ビーム部４７５１は、架台部４４１の下方でＸ軸方向に沿って延びる棒状の部材である。図８から図１０に示す例では、ビーム部４７５１は、プレートＰの下方でＸ軸方向に沿って延びている。Ｘ軸方向に沿ったビーム部４７５１の長さは、Ｘ軸方向に沿ったプレートステージ４６の最大移動範囲（特に、微動ステージ４６４の最大移動範囲）の長さよりも長い。ビーム部４７５１の両端は、プレート支持部１５２よりも外側に位置する。つまり、ビーム部４７５１は、Ｘ軸方向に沿ったプレート支持部１５２の両端部を横切るように、プレート支持部１５２の下方においてＸ軸方向に沿って延びる。一対の柱部４７５２は、ビーム部４７５１の両端から上方に向かって（つまり、架台部４４１に向かって）延びる柱状の部材である。一対の柱部４７５２は、ビーム部４７５１の上方からビーム部４７５１を吊り下げるように支持する。一対の終端部４７５３は、一対の柱部４７５２の上方の端部に連結される平面視板状の部材である。終端部４７５３の上面は、架台部４４１の下面（特に、当該下面のうちプレート支持部１５２が配置されていない部分）に対向する。ＸＹ平面上における終端部４７５３のサイズは、ＸＹ平面上における柱部４７５２のサイズよりも一回り大きい。従って、終端部４７５３の下面は、柱部４７５２の側面から外側に向かって突き出る。一対の終端部４７５３の下面は、Ｘ軸方向に沿ったプレート支持部１５２の両端部よりも外側にある架台部４４１の下面において一対の終端部４７５３に対応するように配置される一対のＹガイド部４４７によって下方から支持される。具体的には、Ｙガイド部４４７は、架台部４４１の下面から下方に突き出ており且つＸ軸方向に沿って互いに対向する一対の壁部４４７１と、当該一対の壁部４４７１の下方の端部からＸ軸方向に沿って互いに近づくように突き出る一対の底部４４７２とを含む。一対の底部４４７２の間には、間隙４４７３が確保される。一対の終端部４７５３の下面は、Ｙガイド部４４７の底部４４７２によって下方から支持される。その結果、支持フレーム４７５は、架台部４４１の下方においてＹガイド部４４７によって吊り下げられるように支持される。また、底部４４７２は、＋Ｚ方向へ気体を噴出して終端部４７５３を浮上支持する。

　このような構造を有する支持フレーム４７５において、エンコーダスケール４７２は、ビーム部４７５１に配置される。具体的には、ビーム部４７５１の上面において、Ｘ軸方向に沿って延びる第１Ｘスケール領域にＸスケール４７２Ｘが配置され、更に、第１Ｘスケール領域に隣接するようにＸ軸方向に沿って延びる第１Ｙスケール領域にＹスケール４７２Ｙが配置される。保持部１６４１に配置されるエンコーダヘッド４７１とビーム部４７５１に配置されるエンコーダスケール４７２とが対向するように、ビーム部４７５１は、ビーム部４７５１が保持部１６４１に対向する（特に、Ｚ軸方向に沿って対向する）ように配置される。特に、第４実施形態では、エンコーダヘッド４７１が保持部１６４１の下面に配置され且つエンコーダスケール４７２がビーム部４７５１の上面に配置されるため、ビーム部４７５１は、ビーム部４７５１の上面が保持部１６４１の下面の下方に位置するように配置される。このように保持部１６４１に対してビーム部４７５１を配置するために、微動ステージ４６４は、上述した軸部１６４２に代えて、保持部１６４１を下方から支持可能であって且つビーム部４７５１が保持部１６４１の下方に配置されることを妨げない構造を有する構造体を含む。図８から図１０に示す例では、このような構造体として、保持部１６４１の下方に配置される底部４６４３と、当該底部４６４３のＹ軸方向の両端から保持部１６４１の下面に向かって延びる一対の壁部４６４４とを含む筐体４６４２が用いられる。筐体４６４２は、一対の壁部４６４４を用いて保持部１６４１を下方から支持可能である。更に、筐体４６４２は、保持部１６４１の下面の下方に、底部４６４３と一対の壁部４６４４とによって囲まれる空間４６４５を規定可能である。ビーム部４７５１は、保持部１６４１の下方においてこの空間４６４５を通過するように、微動ステージ４６４に対して配置される。その結果、ビーム部４７５１は、エンコーダヘッド４７１がエンコーダスケール４７２に対向するように、プレートステージ４６に対して配置可能となる。

　Ｙガイド部４４７は、支持フレーム４７５を支持する機能に加えて、支持フレーム４７５のＹ軸方向に沿った移動をガイドするガイド機能を有する。具体的には、Ｙガイド部４４７の一対の壁部４４７１及び一対の底部４４７２の夫々は、Ｙ軸方向に沿って延びる（図１０参照）。終端部４７５３は、一対の壁部４４７１及び一対の底部４４７２によりエア浮上支持（または非接触支持）されており、その間の距離は数１０マイクロメートル程度のエアギャップにより支持されている。この場合、間隙４４７３は、Ｙ軸方向に沿って延びるスリットとなる。その結果、支持フレーム４７５は、終端部４７５３が壁部４４７１及び底部４４７２に沿って移動し且つ柱部４７５２が間隙４４７３に沿って浮上支持されながら移動することで、Ｙ軸方向に沿って移動する。

　支持フレーム４７５は、エンコーダヘッド４７１がエンコーダスケール４７２に対向する状態が維持されるように移動する。エンコーダヘッド４７１がプレートステージ４６（特に、微動ステージ４６４）に配置されているため、支持フレーム４７５は、エンコーダヘッド４７１がエンコーダスケール４７２に対向する状態を維持するために、微動ステージ４６４と同様に移動する。つまり、支持フレーム４７５は、微動ステージ４６４に追従するように移動する。但し、上述したように、支持フレーム４７５のビーム部４７５１がＸ軸方向に沿って延びる形状を有しており且つエンコーダスケール４７２もまたＸ軸方向に沿って延びる形状を有している。このため、微動ステージ４６４のＸ軸方向に沿った移動に支持フレーム４７５が追従しなくとも、エンコーダヘッド４７１がエンコーダスケール４７２に対向する状態が維持される。このため、支持フレーム４７５は、微動ステージ４６４のＹ軸方向に沿った移動を追従するように移動する。つまり、支持フレーム４７５は、Ｘ軸方向に沿って移動しなくてもよい。支持フレーム４７５は、微動ステージ４６４のＸ軸方向に沿った移動を追従するように移動しなくてもよい。

　露光装置４は、支持フレーム４７５を移動させるためのフレーム駆動系を備えていてもよい。フレーム駆動系は、リニアモータを含む駆動系であってもよいし、その他のモータを含む駆動系（例えば、支持フレーム４７５に連結された回転ベルトと、当該回転ベルトを支持するプーリーと、当該プーリーを回転駆動するためのモータとを含む駆動系）であってもよい。或いは、露光装置４は、支持フレーム４７５を移動させるためのフレーム駆動系を備えていなくてもよい。この場合、支持フレーム４７５は、プレートステージ４６の少なくとも一部によって物理的に押し出される（或いは、牽引される）ことで移動してもよい。例えば、支持フレーム４７５は、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙによって物理的に押し出される（或いは、牽引される）ことで、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙに追従する（その結果、微動ステージ４６４に追従する）ように移動してもよい。例えば、支持フレーム４７５は、微動ステージ４６４によって物理的に押し出される（或いは、牽引される）ことで、微動ステージ４６４に追従するように移動してもよい。

　エンコーダヘッド４７３は、Ｘヘッド４７３Ｘと、Ｙヘッド４７３Ｙとを含む。エンコーダスケール４７４は、Ｙ軸方向に沿って延びる複数の格子線がＸ軸方向に所定ピッチで形成された回折格子を含むＸスケール４７４Ｘと、Ｘ軸方向に沿って延びる複数の格子線がＹ軸方向に所定ピッチで形成された回折格子を含むＹスケール４７４Ｙとを含む。Ｘヘッド４７３Ｘは、Ｘスケール４７４Ｘに対して計測ビームを照射し、Ｘスケール４７４Ｘからの干渉ビームを受光する。このため、Ｘヘッド４７３Ｘ及びＸスケール４７４Ｘは、互いに対向可能な位置（特に、Ｚ軸方向に沿って対向可能な位置）に配置される。Ｙヘッド４７３Ｙは、Ｙスケール４７４Ｙに対して計測ビームを照射し、Ｙスケール４７４Ｙからの干渉ビームを受光する。このため、Ｙヘッド４７３Ｙ及びＸスケール４７４Ｙは、互いに対向可能な位置（特に、Ｚ軸方向に沿って対向可能な位置）に配置される。

　エンコーダヘッド４７３は、例えば、エンコーダスケール４７２が配置される物体（つまり、支持フレーム４７５）に配置される。図８から図１０に示す例では、エンコーダヘッド４７３は、支持フレーム４７５の終端部４７５３に配置される。具体的には、終端部４７５３の上面には、凹部４７５４が形成される。エンコーダヘッド４７３は、この凹部４７５４に収容されるように配置される。一方で、エンコーダスケール４７４は、例えば、定盤４４に配置される。図８から図１０に示す例では、エンコーダスケール４７４は、定盤４４の下面に配置される。具体的には、定盤４４の下面（特に、下面のうちプレート支持部１５２が配置されていない部分であって、支持フレーム４７５の終端部４７５３が対向する部分）には、凹部４４８が形成される。エンコーダスケール４７４は、この凹部４４８に収容されるように配置される。

　更に、上述したように、支持フレーム４７５がＹ軸方向に沿って移動するがゆえに、支持フレーム４７５に配置されるエンコーダヘッド４７３もまたＹ軸方向に沿って移動する。支持フレーム４７５が移動する場合であってもエンコーダヘッド４７３がエンコーダスケール４７４に対向する状態が維持されるように、エンコーダスケール４７４は、Ｙ軸方向に沿って延びる第２Ｘスケール領域に配置されるＸスケール４７４Ｘと、当該第２Ｘスケール領域に隣接するようにＹ軸方向に沿って延びる第２Ｙスケール領域に配置されるＹスケール４７４Ｙとを含む。

　Ｘヘッド４７１Ｘの受光結果は、Ｘスケール４７２Ｘに対するＸヘッド４７１Ｘの相対位置（特に、Ｘ軸方向に沿った相対位置）に関する情報を含む。Ｘスケール４７２Ｘが支持フレーム４７５に配置され且つＸヘッド４７１Ｘが微動ステージ４６４に配置されているため、Ｘヘッド４７１Ｘの受光結果は、実質的には、支持フレーム４７５に対する微動ステージ４６４のＸ軸方向に沿った相対位置に関する情報を含む。更に、微動ステージ４６４がプレートＰを保持しているため、Ｘヘッド４７１Ｘの受光結果は、実質的には、支持フレーム４７５に対するプレートＰのＸ軸方向に沿った相対位置に関する情報を含む。同様の理由から、Ｙヘッド４７１Ｙの受光結果は、実質的には、支持フレーム４７５に対するプレートＰのＹ軸方向に沿った相対位置に関する情報を含む。

　Ｘヘッド４７３Ｘの受光結果は、Ｘスケール４７４Ｘに対するＸヘッド４７３Ｘの相対位置（特に、Ｘ軸方向に沿った相対位置）に関する情報を含む。Ｘスケール４７４Ｘが定盤４４に配置され且つＸヘッド４７３Ｘが支持フレーム４７５に配置されているため、Ｘヘッド４７３Ｘの受光結果は、実質的には、定盤４４に対する支持フレーム４７５のＸ軸方向に沿った相対位置に関する情報を含む。同様の理由から、Ｙヘッド４７３Ｙの受光結果は、実質的には、定盤４４に対する支持フレーム４７５のＹ軸方向に沿った相対位置に関する情報を含む。

　このため、Ｘヘッド４７１Ｘの受光結果及びＸヘッド４７３Ｘの受光結果は、実質的には、定盤４４に対するプレートＰのＸ軸方向に沿った相対位置に関する情報を含む。投影光学系１３が定盤４４に配置されているため、Ｘヘッド４７１Ｘの受光結果及びＸヘッド４７３Ｘの受光結果は、実質的には、投影光学系１３に対するプレートＰのＸ軸方向に沿った相対位置に関する情報を含む。同様の理由から、Ｙヘッド４７１Ｙの受光結果及びＹヘッド４７３Ｙの受光結果は、実質的には、投影光学系１３に対するプレートＰのＹ軸方向に沿った相対位置に関する情報を含む。従って、エンコーダシステム４７は、プレートＰの位置（特に、投影光学系１３に対するプレートＰの相対位置）を計測するための計測システムである。

　エンコーダシステム４７の計測結果は、プレートＰが露光される際に、露光装置４の動作を制御する制御装置によって適宜参照される。制御装置は、エンコーダシステム４７の計測結果に基づいて、プレートＰの位置を制御する。その結果、露光装置４は、プレートＰの位置を相対的に高精度に制御しながら、プレートＰを露光することができる。つまり、露光装置４は、第１実施形態の露光装置１が享受可能な効果と同様の効果を享受しつつも、プレートＰの位置を相対的に高精度に制御することができる。

　尚、図８及び図９に示すように、第４実施形態では、プレートステージ４６は、Ｚ微動ステージ駆動系４６５Ｚを更に備えている。Ｚ微動ステージ駆動系４６５Ｚは、プレートＰを保持したまま微動ステージ４６４を少なくともＺ軸方向に沿って移動させるための駆動系である。Ｚ微動ステージ駆動系４６５Ｚは、例えば、ボイルコイルモータを含む駆動系であるが、その他のモータ（或いは、駆動源）を含む駆動系であってもよい。Ｚ微動ステージ駆動系４６５Ｚがボイルコイルモータを含む駆動系である場合には、Ｚ微動ステージ駆動系４６５Ｚは、例えば、筐体４６４２に固定されるＺガイド部と、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘに固定される固定子（例えば、磁石及びコイルの一方）と、Ｚガイド部１６５１Ｘに固定される可動子（例えば、磁石及びコイルの他方）とを含む。このＺ微動ステージ駆動系４６５Ｚは、いわゆる重量キャンセル装置として機能する。このため、プレートステージ４６は、Ｚ微動ステージ駆動系４６５Ｚに限らず、重量キャンセル装置として機能可能な装置（例えば、バネ等）を備えていてもよい。尚、第４実施形態以外の各実施形態においても、プレートステージ１６が重量キャンセル装置を備えていてもよい。

　露光装置４は、エンコーダシステム４７に加えて又は代えて、プレートＰの位置を計測可能な任意の計測装置を備えていてもよい。任意の計測装置の一例として、例えば、干渉計があげられる。

　（５）第５実施形態の露光装置５
　続いて、図１１を参照しながら、第５実施形態の露光装置５について説明する。図１１は、第５実施形態の露光装置５のＹＺ平面に沿った断面（図面の便宜上、一部の側面を含む）を示す断面図である。

　図１１に示すように、第５実施形態の露光装置５は、第１実施形態の露光装置１と比較して、複数の（図１１に示す例では、２つの）プレートステージ５６を備えているという点で異なっている。尚、第５実施形態では、必要に応じて、２つのプレートステージ５６を、プレートステージ５６－１及び５６－２と称して互いに区別する。更に、第５実施形態の露光装置５は、第１実施形態の露光装置１と比較して、エンコーダシステム５７を備えているという点で異なっている。露光装置５のその他の構造は、露光装置１のその他の構造と同一であってもよい。

　プレートステージ５６－１及び５６－２の夫々は、上述したプレートステージ１６と同様に、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘと、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙと、Ｘ粗動ステージ駆動系１６２Ｘと、Ｙ粗動ステージ駆動系１６２Ｙと、微動ステージ１６４とを備える。但し、図１１に示す例では、Ｙ粗動ステージ駆動系１６２ＹのＹガイド部１６２１Ｙが、プレートステージ５６－１及び５６－２によって共用されている。

　プレートステージ５６－１及び５６－２の夫々は、微動ステージ１６４の保持部１６４１を用いてプレートＰを保持する。従って、プレートＰは、プレートＰの下面の２箇所においてプレートステージ５６－１及び５６－２によって保持される。図１１に示す例では、プレートステージ５６－１及び５６－２は、Ｙ軸方向に沿って並んでいる。このため、プレートステージ５６－１及び５６－２は、プレートＰの下面上においてＹ軸方向に沿って並ぶ２つの位置においてプレートＰを保持する。

　プレートステージ５６－１及び５６－２は、プレートＰの中心に対して対称な２箇所においてプレートＰを保持してもよい。例えば、プレートステージ５６－１及び５６－２は、Ｘ軸方向又はＹ軸方向に沿って対向するプレートＰの２つの辺の近傍においてプレートＰを保持してもよい。この場合、プレートステージ５６－１及び５６－２は、Ｘ軸方向又はＹ軸方向に沿って並ぶ。例えば、プレートステージ５６－１及び５６－２は、プレートＰの対角方向に沿って並ぶプレートＰの２つの頂点の近傍においてプレートＰを保持してもよい。この場合、プレートステージ５６－１及び５６－２は、対角方向に沿って並ぶ。例えば、プレートステージ５６－１及び５６－２は、プレートＰの下面をプレートＰの中心を通る仮想的な線で２つの同じ形状の領域に分割し、当該２つの領域の中心（或いは、重心）においてプレートＰを保持してもよい。この場合、プレートステージ５６－１及び５６－２は、２つの領域が並ぶ方向に沿って並ぶ。但し、プレートステージ５６－１及び５６－２は、プレートＰの下面のランダムに選択される位置においてプレートＰを保持してもよい。

　更に、露光装置５は、露光装置４と同様に、エンコーダシステム５７を備えている。但し、露光装置５は、プレートステージ５６－１及び５６－２に対応するように２つのエンコーダシステム５７－１及び５７－２を備えている。エンコーダシステム５７－１及び５７－２の夫々は、エンコーダシステム４７と同様に、エンコーダヘッド４７１と、エンコーダスケール４７２と、エンコーダヘッド４７３と、エンコーダスケール４７４とを含む。エンコーダシステム５７－１及び５７－２の夫々は、エンコーダシステム４７と比較して、エンコーダヘッド４７１、エンコーダスケール４７２、エンコーダヘッド４７３及びエンコーダスケール４７４の配置位置が異なるという点で異なっている。但し、第５実施形態における配置位置が、第４実施形態における配置位置と同じであってもよい。エンコーダシステム５７－１及び５７－２の夫々のその他の構造は、エンコーダシステム４７のその他の構造と同一であってもよい。

　具体的には、第５実施形態では、エンコーダヘッド４７１は、第４実施形態と同様に、プレートステージ５６（特に、微動ステージ１６４）に配置される。但し、第５実施形態では、第４実施形態とは異なり、エンコーダヘッド４７１は、微動ステージ１６４の保持部１６４１から外側（つまり、プレートＰから離れる側）に向かって突き出るように保持部１６４１に配置された突出部５６１１（図１１に示す例では、その下面）に配置される。更に、第５実施形態では、エンコーダスケール４７２は、第４実施形態と同様に、定盤１４及び微動ステージ１６４とは異なる装置に配置される。但し、第５実施形態では、第４実施形態とは異なり、エンコーダスケール４７２は、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘの外側においてＹ粗動ステージ１６１Ｙの上面から上方に向かって突き出ると共に突出部５６１１に対向するようにＹ粗動ステージ１６１Ｙに配置された突出部５６１２（図１１に示す例では、その上面）に配置される。更に、第５実施形態では、エンコーダヘッド４７３は、第４実施形態と同様に、エンコーダスケール４７２が配置されるＹ粗動ステージ１６１Ｙに配置される。但し、第５実施形態では、第４実施形態とは異なり、エンコーダヘッド４７３は、突出部５６１２の側面から側方に向かって突き出た後に上方に向かって突き出るように突出部５６１２に配置された突出部５６１３（図１１に示す例では、その上面）に配置される。更に、第５実施形態では、エンコーダスケール４７４は、第４実施形態と同様に、定盤１４に配置される。

　このような第５実施形態の露光装置５によれば、第１実施形態の露光装置１が享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。更に、露光装置５が複数のプレートステージ５６（特に、複数の保持部１６４１）を備えているため、露光装置５が単一のプレートステージ５６（特に、単一の保持部１６４１）を備えている場合と比較して、複数のプレートステージ５６によって保持されているプレートＰの撓みが抑制又は防止される。つまり、プレートＰの平面度が適切に維持される。更に、露光装置５は、エンコーダシステム５７を備えているがゆえに、第４実施形態の露光装置４が享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。

　尚、露光装置５は、３つ以上のプレートステージ５６を備えていてもよい。露光装置５が備えるプレートステージ５６の数が多くなるほど、プレートＰの下面のより多くの箇所でプレートＰが保持される。従って、プレートＰの平面度がより適切に維持される。或いは、プレートＰの平面度を維持するためには、露光装置５が複数のプレートステージ５６を備えることに加えて又は代えて、各プレートステージ５６が複数の保持部１６４１を含んでいてもよい。この場合であっても、複数の保持部１６４１によってプレートＰの下面の複数の箇所でプレートＰが保持されるため、露光装置５が複数のプレートステージ５６を備える場合と同様にプレートＰの平面度が適切に維持される。尚、プレートステージ５６が複数の保持部１６４１を含んでいる場合には、露光装置５は、単一のプレートステージ５６を備えていてもよい。

　上述した説明では、複数のプレートステージ５６は、Ｙ粗動ステージ駆動系１６２ＹのＹガイド部１６２１Ｙを共用している。しかしながら、複数のプレートステージ５６の夫々が個別のＹガイド部１６２１Ｙを備えていてもよい。或いは、複数のプレートステージ５６は、Ｙ粗動ステージ駆動系１６２Ｙ全体を共用してもよい。或いは、複数のプレートステージ５６は、Ｙガイド部１６２１Ｙ以外のＹ粗動ステージ駆動系１６２Ｙの一部を共用してもよい。複数のプレートステージ５６は、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘの少なくとも一部を共用してもよい。複数のプレートステージ５６は、Ｘ粗動ステージ駆動系１６２Ｘの少なくとも一部を共用してもよい。複数のプレートステージ５６は、微動ステージ１６４の少なくとも一部を共用してもよい。尚、後述する第９実施形態の露光装置９は、Ｙ粗動ステージ１６１Ｙ、Ｙ粗動ステージ駆動系１６２Ｙ、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘ及びＸ粗動ステージ駆動系１６２Ｘを複数のプレートステージ５６で共用する（具体的には、複数の微動ステージ１６４で共用する）露光装置の一具体例に相当する。

　（６）第６実施形態の露光装置６
　続いて、図１２から図１３を参照しながら、第４実施形態の露光装置４について説明する。図１２は、第６実施形態の露光装置６のＹＺ平面に沿った断面（図面の便宜上、一部の側面を含む）を示す断面図である。図１３は、第６実施形態の露光装置６のＸＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。

　図１２から図１３に示すように、第６実施形態の露光装置６は、第４実施形態の露光装置４と比較して、マスクステージ１２及び照明光学系１１が定盤６４の下方に配置される一方で、プレートステージ４６が定盤６４の上方に配置されるという点で異なっている。更に、第６実施形態の露光装置６は、第４実施形態の露光装置４と比較して、マスクステージ１２の落下を防止するための落下防止装置６２を備えているという点で異なっている。更に、第６実施形態の露光装置６は、第４実施形態の露光装置４と比較して、定盤６４の一部の構造が定盤４４の一部の構造と異なるという点で異なっている。露光装置６のその他の構造は、露光装置４のその他の構造と同一であってもよい。

　第６実施形態では、照明光学系１１が照射した照明光ＥＬは、照明光学系１１よりも上方に位置するマスクＭ及び投影光学系１３を介してＺ軸方向に沿って＋Ｚ側に向かって進行することで、マスクＭ及び投影光学系１３よりも上方に位置するプレートＰに照射される。従って、第６実施形態では、照明光ＥＬの進行方向は、重力方向と反対の方向（つまり、－Ｚ側から＋Ｚ側に向かう方向）となる。

　マスクステージ１２が定盤６４の下方に配置されるため、投影光学系１３は、マスクステージ１２の上方において定盤６４によって支持される。更に、マスク支持部１５１は、定盤６４の架台部６４１の下面の少なくとも一部に配置される。マスク支持部１５１は、マスク支持部１５１の下面が架台部６４１の下面から露出するように配置される。マスク支持部１５１は、マスク支持部１５１の少なくとも一部がマスクステージ１２の少なくとも一部の上方に位置することが可能な位置に配置される。マスク支持部１５１は、定盤６４の下方において、マスクステージ１２の上方からマスクステージ１２を非接触で支持する。

　更に、マスクホルダ１２１の凹部が上方を向いているがゆえに、マスクホルダ１２１の凹部が上方を向いている場合と比較して、マスクホルダ１２１からマスクＭが下方に落下する可能性が小さくなる。このため、マスクステージ１２は、固定具１２２を備えていなくてもよい。

　一方で、マスク支持部１５１がマスクステージ１２の上方からマスクステージ１２を支持しているがゆえに、マスク支持部１５１がマスクステージ１２の下方からマスクステージ１２を支持している場合と比較して、マスクステージ１２自体が下方に落下する可能性が大きくなる。このため、露光装置６は、マスクステージ１２の落下を防止するための落下防止装置６２を備えている。落下防止装置６２は、複数のフレーム部６２１と、複数の連結部６２２と、一対の落下防止板６２３とを含む。フレーム部６２１は、支持フレーム１２５からＹ軸方向に沿って突き出すように延びる部材である。フレーム部６２１は、支持フレーム１２５からマスクＭに近づく方向に向かって延びる。フレーム部６２１の先端は、マスクステージ１２の下方に配置される。第６実施形態では、マスクステージ１２の＋Ｙ側及び－Ｙ側の夫々に一対の支持フレーム１２５が配置される。このため、落下防止装置６２は、フレーム部６２１として、マスクステージ１２の＋Ｙ側に配置される支持フレーム１２５から、先端がマスクステージ１２の下方に位置するようになるまで－Ｙ側に向かって延びるフレーム部６２１－１と、マスクステージ１２の－Ｙ側に配置される支持フレーム１２５から、先端がマスクステージ１２の下方に位置するようになるまで＋Ｙ側に向かって延びるフレーム部６２１－２とを含む。落下防止装置６２は、フレーム部６２１－１及び６２１－２の夫々を、複数含む。複数のフレーム部６２１－１は、Ｘ軸方向に沿って並ぶ。複数のフレーム部６２１－２もまた、Ｘ軸方向に沿って並ぶ。連結部６２２は、各フレーム部６２１と落下防止板６２３とを連結する。従って、落下防止装置６２は、フレーム部６２１と同じ数の連結部６２２を含む。落下防止板６２３は、平面視板状の部材である。一対の落下防止板６２３は、マスクステージ１２の下方において、照明光ＥＬの光路と重ならない位置に配置される。上述したようにマスクステージ１２がＸ軸方向に沿って移動するため、落下防止板６２３は、Ｘ軸方向に沿って移動するマスクステージ１２の落下を適切に防止するために、Ｘ軸方向に沿って延びる板状の部材となる。このような落下防止装置６２により、仮にマスクホルダ１２が落下したとしても（つまり、マスク支持部１５１がマスクホルダ１２を支持し続けることができなくなったとしても）、マスクホルダ１２が照明光学系１１にまで落下することが適切に防止される。なお、一対の落下防止板６２３は、照明光ＥＬがとおる箇所だけ上下貫通孔が空いている一枚板により構成するようにしてもよい。

　更に、プレートステージ４６が定盤６４の上方に位置するため、投影光学系１３は、プレートステージ４６の下方において定盤６４によって支持される。更に、プレート支持部１５２は、定盤６４の架台部６４１の上面の少なくとも一部に配置される。プレート支持部１５２は、プレート支持部１５２の上面が架台部６４１の上面から露出するように配置される。プレート支持部１５２は、プレート支持部１５２の少なくとも一部がプレートＰの少なくとも一部の下方に位置することが可能な位置に配置される。プレート支持部１５２は、定盤６４の上方において、プレートＰの下方からプレートＰを非接触で支持する。

　更に、第６実施形態のプレートステージ４６及び支持フレーム４７５は、第４実施形態のプレートステージ４６及び支持フレーム４７５における上下関係を反転することで得られるプレートステージ４６及び支持フレーム４７５と等価である。つまり、第４実施形態における説明中の「上面」、「上方」、「下面」及び「下方」を、夫々、「下面」、「下方」、「上面」及び「上方」に読み変えることで、第４実施形態のプレートステージ４６及び支持フレーム４７５に関する説明は、第６実施形態のプレートステージ４６及び支持フレーム４７５の説明になる。このため、冗長的な説明を省略するために、第６実施形態のプレートステージ４６及び支持フレーム４７５についての説明は省略する。但し、支持フレーム４７５が定盤６４の上方に配置されるため、定盤６４（特に、架台部６４１）は、定盤４４（特に、架台部４４１）と比較して、Ｙガイド部４４７が架台部６４１の上面に配置され、架台部６４１の上面に形成された凹部４４８にエンコーダスケール４７４が収容されるという点で異なる。定盤６４のその他の構造は、定盤４４のその他の構造と同一であってもよい。

　このように、定盤６４に対するマスクステージ１２及びプレートステージ４６の位置関係が第４実施形態から変わるため、第６実施形態では、プレートステージ４６を支持する支持フレーム１６０と、定盤６４と、マスクステージ１２を支持する支持フレーム１２５との間の位置関係も変わる。具体的には、支持フレーム１６０の少なくとも一部の下方（或いは、内側）に定盤６４（特に、架台部６４１）の少なくとも一部が位置し、定盤６４の少なくとも一部の下方（或いは、内側）に支持フレーム１２５の少なくとも一部が位置する。

　このような第６実施形態の露光装置６によれば、第４実施形態の露光装置４が享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。更に、第６実施形態では、照明光学系１１やマスクステージ１２が床面Ｇに相対的に近い位置に配置されるため、照明光学系１１やマスクステージ１２のメンテナンスが容易になる。更に、第６実施形態では、プレートＰの下面が露光面となるため、露光に悪影響を与える可能性があるゴミ（或いは、任意のダスト）がプレートＰの露光面に堆積（或いは、付着）する可能性が小さくなる。従って、ゴミに起因した露光精度の悪化又は不良露光の発生が適切に抑制される。更に、第６実施形態では、エンコーダスケール４７２が下方を向くように配置される（つまり、ビーム部４７５１の下面に配置される）ため、エンコーダスケール４７２にゴミ（或いは、任意のダスト）が堆積（或いは、付着）する可能性が小さくなる。従って、ゴミに起因したプレートＰの位置計測精度の悪化が適切に抑制される。更に、第６実施形態では、定盤６４の下方において非接触で支持される物体は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の双方に沿って移動するプレートＰではなく、Ｘ軸方向に沿って移動する一方でＹ軸方向に沿って移動しなくてもよいマスクステージ１２である。このため、プレートＰの落下を防止するための落下防止装置よりも構造が簡略化された落下防止装置６２を用いて、マスクステージ１２の落下を防止することができる。つまり、露光装置６は、プレートＰの落下を防止するための相対的に構造が複雑な落下防止装置を備えていなくてもよくなる。

　尚、マスク支持部１５１がマスクステージ１２の上方からマスクステージ１２を非接触で支持している場合であっても、通常であれば、マスクステージ１２の落下する可能性は殆どない。一方で、意図せぬ外乱（例えば、振動）等がマスクステージ１２に加わった場合には、通常時と比較すればマスクステージ１２の落下する可能性が大きくなる。従って、上述した落下防止装置６２は、主として、意図せぬ状況下でのマスクステージ１２の落下を防止することを目的とした装置であると言える。但し、通常であればマスクステージ１２の落下する可能性は殆どないため、露光装置６は、落下防止装置６２を備えていなくてもよい。或いは、露光装置６は、落下防止装置６２に加えて又は代えて、マスクステージ１２又はマスクＭに接触してマスクステージ１２又はマスクＭを下方から保持する保持装置を備えていてもよい。このような保持装置として、例えば、上述したプレートステージ１６のように、マスクステージ１２又はマスクＭを保持したまま移動可能な移動装置が用いられる。また、このような移動装置を備えている場合には、露光装置６は、マスクステージ駆動系１２４を備えていなくてもよい。

　（７）第７実施形態の露光装置７
　続いて、図１４から図１６を参照しながら、第７実施形態の露光装置７について説明する。図１４は、第７実施形態の露光装置７のＹＺ平面に沿った断面（図面の便宜上、一部の側面を含む）を示す断面図である。図１５は、第７実施形態の露光装置７のＸＺ平面に沿った断面を示す（図面の便宜上、一部の構成要素については、側面を示す）断面図である。図１６は、定盤１４を上方から観察した平面図である。

　図１４から図１６に示すように、第７実施形態の露光装置７は、第６実施形態の露光装置６と比較して、エンコーダヘッド４７１及びエンコーダスケール４７２の配置位置が異なるという点で異なっている。具体的には、エンコーダヘッド４７１は、微動ステージ４６４の筐体４６４２を構成する底部４６４３の下面に配置される。一方で、エンコーダスケール４７２は、支持フレーム４７５のビーム部４７５１の上面に配置される。露光装置７のその他の構造は、露光装置６のその他の構造と同一であってもよい。

　このような第７実施形態の露光装置７によれば、第６実施形態の露光装置６が享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。更に、第７実施形態では、露光装置７の組み付けの際に、エンコーダスケール４７２の組み付けが容易になる。

　（８）第８実施形態の露光装置８
　続いて、図１７を参照しながら、第８実施形態の露光装置８について説明する。図１７は、第８実施形態の露光装置８のＹＺ平面に沿った断面（図面の便宜上、一部の側面を含む）を示す断面図である。

　図１７に示すように、第８実施形態の露光装置８は、上述した第７実施形態の露光装置７と比較して、マスクステージ１２に代えて、マスク保持装置８２を備えているという点で異なっている。更に、第８実施形態の露光装置８は、上述した第７実施形態の露光装置７と比較して、マスクステージ１２を移動させるマスクステージ駆動系１２４に代えて、マスクＭ（より具体的には、マスク保持装置８２）を移動させるマスクステージ駆動系８２４を備えているという点で異なっている。露光装置８のその他の構造は、露光装置７のその他の構造と同一であってもよい。尚、図１７では、図面の簡略化のために落下防止装置６２が記載されていないが、露光装置８が落下防止装置６２を備えていてもよい。

　マスク保持装置８２は、例えば、国際公開第２０１４／０２４４６５号パンフレットに記載されたマスク保持装置である。このため、マスク保持装置８２の詳細な説明は省略するが、マスク保持装置８２の概要について簡単に説明する。マスク保持装置８２は、空気ばね等の防振装置を介して床面Ｇに支持される支持フレーム８２５によって支持される。マスク保持装置８２は、テーブル８２１と、ボイスコイルモータ８２２と、吸着保持部８２３とを含む。テーブル８２１は、マスクステージ駆動系８２４を介して支持フレーム８２５によって支持される。ボイスコイルモータ８２２は、テーブル８２１の上面に配置される。ボイスコイルモータ８２２は、吸着保持部８２３をＸ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方に沿って移動可能である。吸着保持部８２３は、テーブル８２１の上面に配置される。吸着保持部８２３は、テーブル８２１からマスクＭに向かうようにＹ軸方向に沿って延びるアーム部８２３１を含む。アーム部８２３１は、マスクＭの下面に接触すると共に、接触部においてマスクＭを吸着保持する。露光装置８は、Ｙ軸方向に沿ったマスクＭの両側からマスクＭを保持することができるように、Ｙ軸方向に沿ったマスクＭの両側で並ぶ一対のマスク保持装置８２を備えている。

　マスクステージ駆動系８２４は、マスク保持装置８２（更には、マスク保持装置８２によって保持されるマスクＭ）を、少なくともＸ軸方向に沿って移動可能である。マスク保持装置８２を移動させるために、マスクステージ駆動系８２は、例えば、支持フレーム８２５の上面に固定され且つＸ軸方向に沿って延びる一対のＸガイド部と、テーブル８２１の下面に固定され且つ一対のＸガイド部を夫々挟み込むように断面がＵ字形状になる一対のスライド部材と、テーブル８２１の下面に固定される可動子（例えば、磁石及びコイルの一方）と、支持フレーム８２５の上面に固定され且つ可動子に対向する固定子（例えば、磁石及びコイルの他方）とを含む。

　更に、露光装置８がマスクステージ１２を備えていないため、マスク支持部１５１は、Ｚ軸方向に沿ってマスク支持部１５１の少なくとも一部がマスクＭの少なくとも一部に対向することが可能な位置に配置される。つまり、マスク支持部１５１は、マスク支持部１５１の少なくとも一部がマスクＭの少なくとも一部の上方に位置することが可能な位置に配置される。その結果、マスク支持部１５１は、定盤６４の下方において、マスクＭの上方からマスクＭを非接触で支持する。但し、第８実施形態においても、マスク支持部１５１は、照明光ＥＬの光路には形成されない。

　このような第８実施形態の露光装置８によれば、第７実施形態の露光装置７が享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。

　（９）第９実施形態の露光装置９
　続いて、図１８から図１９を参照しながら、第９実施形態の露光装置９について説明する。図１８は、第９実施形態の露光装置９のＸＺ平面に沿った断面（図面の便宜上、一部の側面を含む）を示す断面図である。図１９は、定盤６４を上方から観察した平面図である。

　図１８から図１９に示すように、第９実施形態の露光装置９は、上述した第７実施形態の露光装置７と比較して、プレートステージ９６の構造の一部がプレートステージ４６の構造の一部と異なるという点で異なっている。露光装置９のその他の構造は、露光装置７のその他の構造と同一であってもよい。尚、図１８では、図面の簡略化のために落下防止装置６２が記載されていないが、露光装置９が落下防止装置６２を備えていてもよい。

　プレートステージ９６は、プレートステージ４６と比較して、複数の（図１８から図１９に示す例では、２つの）微動ステージ４６４を含むという点で異なっている。尚、第９実施形態では、必要に応じて、２つの微動ステージ４６４を、微動ステージ４６４－１及び４６４－２と称して互いに区別する。プレートステージ９６のその他の構造は、プレートステージ４６のその他の構造と同一であってもよい。

　プレートステージ９６が微動ステージ４６４－１及び４６４－２を含んでいるため、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘは、微動ステージ４６４－１及び４６４－２を支持する。更に、Ｘ粗動ステージ１６１Ｘには、微動ステージ４６４－１を移動させるためのＸ微動ステージ駆動系１６５Ｘ、Ｙ微動ステージ駆動系１６５Ｙ及びＺ微動ステージ駆動系１６５Ｚと、微動ステージ４６４－２を移動させるためのＸ微動ステージ駆動系１６５Ｘ、Ｙ微動ステージ駆動系１６５Ｙ及びＺ微動ステージ駆動系１６５Ｚとが配置される。但し、Ｘ微動ステージ駆動系１６５Ｘの少なくとも一部が微動ステージ４６４－１及び４６４－２によって共用されてもよい。Ｙ微動ステージ駆動系１６５Ｙの少なくとも一部が微動ステージ４６４－１及び４６４－２によって共用されてもよい。Ｚ微動ステージ駆動系１６５Ｚの少なくとも一部が微動ステージ４６４－１及び４６４－２によって共用されてもよい。

　微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、微動ステージ４６４－１及び４６４－２の夫々の筐体４６４２の内部の空間４６４５を支持フレーム４７５のビーム部４７５１が通過するように配置される。このため、微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、Ｘ軸方向に沿って並ぶように配置される。

　微動ステージ４６４－１及び４６４－２の夫々は、保持部１６４１を用いてプレートＰを保持する。従って、プレートＰは、プレートＰの下面の２箇所において微動ステージ４６４－１及び４６４－２によって保持される。図１８及び図１９に示す例では、微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、Ｘ軸方向に沿って並んでいる。このため、微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、プレートＰの上面（つまり、露光面に対向する面、反対面、裏面）上においてＸ軸方向に沿って並ぶ２つの位置においてプレートＰを保持する。

　微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、ＸＹ平面上におけるプレートＰの中心よりも一方側に位置する領域及びＸＹ平面上におけるプレートＰの中心よりも他方側（つまり、一方側とは反対側）に位置する領域を夫々保持する。つまり、微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、ＸＹ平面上におけるプレートＰの中心よりも一方側に位置する領域及びＸＹ平面上におけるプレートＰの中心よりも他方側に位置する領域を夫々保持することができるように配置されている（言い換えれば、位置合わせされている）。図１８及び図１９に示す例では、微動ステージ４６４－１及び４６４－２がＸ軸方向に沿って並んでいるため、微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、ＸＹ平面上におけるプレートＰの中心よりも＋Ｘ側に位置する領域及びＸＹ平面上におけるプレートＰの中心よりも－Ｘ側に位置する領域を夫々保持する。例えば、微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、プレートＰのＸ軸方向の両端部付近の領域を保持する。但し、微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、プレートＰの下面のランダムに選択される位置においてプレートＰを保持してもよい。

　このような第９実施形態の露光装置９によれば、第１実施形態の露光装置１が享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。更に、露光装置９が複数の微動ステージ４６４（特に、複数の保持部１６４１）を備えているため、第５実施形態の露光装置５と同様に、複数の微動ステージ４６４によって保持されているプレートＰの撓みが抑制又は防止される。つまり、プレートＰの平面度が適切に維持される。

　第９実施形態では更に、微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、プレートＰの撓みを抑制する又は防止するように、互いに同期しながら移動する。その結果、第９実施形態では、プレートＰの撓みがより一層適切に抑制又は防止される（つまり、プレートＰの平面度が適切に維持される）。以下、第９実施形態におけるプレートＰの撓みを抑制する又は防止するための動作について更に説明する。

　例えば、微動ステージ４６４－１及び４６４－２は、微動ステージ４６４－１と微動ステージ４６４－２とがＸＹ平面に沿って互いに離れるように作用する力が微動ステージ４６４－１及び４６４－２に加わるように移動してもよい。つまり、微動ステージ４６４－１及び４６４－２には、微動ステージ４６４－１と微動ステージ４６４－２とがＸＹ平面に沿って互いに離れるように作用する力が加えられてもよい。具体的には、微動ステージ４６４－１を＋Ｘ側に移動させることが可能な力がＸ微動ステージ駆動系１６５Ｘから微動ステージ４６４－１に加えられ、微動ステージ４６４－２を－Ｘ側に移動させることが可能な力がＸ微動ステージ駆動系１６５Ｘから微動ステージ４６４－２に加えられてもよい。その結果、微動ステージ４６４－１の保持部１６４１及び微動ステージ４６４－２の保持部１６４１にもまた、当該２つの保持部１６４１がＸＹ平面に沿って互いに離れるように作用する力が加わる。従って、２つの保持部１６４１が保持するプレートＰがＸ軸方向に沿って撓む可能性が小さくなる。或いは、２つの保持部１６４１が保持した状態でＸ軸方向に沿って既に撓んでいたプレートＰの撓みが解消される（つまり、伸ばされる）。

　或いは、プレートＰの移動方向における前方側に位置する一方の微動ステージ４６４がプレートＰを牽引するようにプレートＰの移動方向に向かって移動する一方で、プレートＰの移動方向における後方側に位置する他方の微動ステージ４６４が、プレートＰを押し出すことなく一方のプレートステージ５６に追従するように移動してもよい。或いは、他方の微動ステージ４６４は、プレートＰを押し出すことなく一方の微動ステージ４６４に牽引されてもよい。この場合、一方の微動ステージ４６４には、一方の微動ステージ４６４をプレートＰの移動方向に向かって移動させることが可能な力がＸ微動ステージ駆動系１６５Ｘから加えられ、他方の微動ステージ４６４には、Ｘ微動ステージ駆動系１６５Ｘから力が加えられなくてもよい。或いは、一方の微動ステージ４６４には、一方の微動ステージ４６４をプレートＰの移動方向に向かって移動させることが可能な力がＸ微動ステージ駆動系１６５Ｘから加えられ、他方の微動ステージ４６４には、他方の微動ステージ４６４をプレートＰの移動方向に向かって移動させることが可能な力であって且つ一方の微動ステージ４６４に加えられる力よりも小さい力がＸ微動ステージ駆動系１６５Ｘから加えられてもよい。その結果、プレートＰは、プレートＰの進行方向の前方側の領域でプレートＰを保持する一方の微動ステージ４６４によって牽引されるように移動する。従って、２つの保持部１６４１が保持するプレートＰがＸ軸方向に沿って撓む可能性が小さくなる。或いは、２つの保持部１６４１が保持した状態でＸ軸方向に沿って既に撓んでいたプレートＰの撓みが解消される（つまり、伸ばされる）。

　尚、上述した説明では、複数の微動ステージ４６４は、Ｘ軸方向に沿って並ぶように配置されている。しかしながら、複数の微動ステージ４６４は、ＸＹ平面上においてＸ軸方向とは異なる方向に沿って並ぶように配置されてもよい。例えば、図２０に示すように、複数の微動ステージ４６４は、Ｙ軸方向に沿って並ぶように配置されてもよい。例えば、図２１に示すように、複数の微動ステージ４６４は、ＸＹ平面上においてＸ軸方向及びＹ軸方向の双方に交差する方向に沿って並ぶように配置されてもよい。複数の微動ステージ４６４がＸ軸方向とは異なる方向に沿って並ぶように配置される場合には、図２０に示すように、少なくとも一つの微動ステージ４６４の筐体４６４２内を支持フレーム４７５のビーム部４７５１が通過する一方で、残りの微動ステージ４６４の筐体４６４２内をビーム部４７５１が通過しなくてもよい。この場合、筐体４６４２内をビーム部４７５１が通過しない微動ステージ４６４には、エンコーダヘッド４７１が配置されていなくてもよい。或いは、複数の微動ステージ４６４がＸ軸方向とは異なる方向に沿って並ぶように配置される場合には、図２１に示すように、露光装置９は、複数の微動ステージ４６４の筐体４６４２内を夫々通過する複数の支持フレーム４７５を備えていてもよい。

　プレートステージ９６は、３つ以上の微動ステージ４６４を備えていてもよい。プレートステージ９６が備える微動ステージ４６４の数が多くなるほど、プレートＰの下面のより多くの箇所でプレートＰが保持される。従って、プレートＰの平面度がより適切に維持される。

　上述した第５実施形態の露光装置５も、複数の保持部１６４１でプレートＰを保持するという点では、第９実施形態の露光装置９と共通する特徴を有している。このため、第５実施形態の露光装置５においても、第９実施形態におけるプレートＰの撓みを抑制する又は防止するための動作が行なわれてもよい。

　（１０）第１０実施形態の露光装置１０
　続いて、図２２から図２３を参照しながら、第１０実施形態の露光装置１０について説明する。図２２は、第１０実施形態の露光装置１０のＹＺ平面に沿った断面（図面の便宜上、一部の側面を含む）を示す断面図である。図２３は、定盤６４を上方から観察した平面図である。

　図２２から図２３に示すように、第１０実施形態の露光装置１０は、上述した第９実施形態の露光装置９と比較して、プレートステージ１０６の構造の一部がプレートステージ９６の構造の一部と異なるという点で異なっている。具体的には、第１０実施形態の露光装置１０は、上述した第９実施形態の露光装置９と比較して、微動ステージ４６４の保持部４６４１の構造の一部が、保持部１６４１の構造の一部と異なるという点で異なっている。露光装置１０のその他の構造は、露光装置９のその他の構造と同一であってもよい。

　保持部４６４１は、Ｙ軸方向に沿って延びる板状の部材である。保持部材４６４１は、Ｙ軸方向が長手方向となる平面視矩形の形状となる。保持部４６４１のＹ軸方向の長さは、保持部１６４１のＹ軸方向の長さよりも長い。保持部４６４１のＹ軸方向の長さは、プレートＰのＹ軸方向の長さよりも短いが、プレートＰのＹ軸方向の長さよりも短くなくてもよい。保持部４６４１の下面（つまり、プレートＰに対向してプレートＰを保持する面）は、プレートＰの上面を吸着保持する。

　このため、第１０実施形態では、第９実施形態と比較して、保持部４６４１とプレートＰとの接触面積が大きくなる。つまり、第９実施形態では複数の微動ステージ４６４でプレートＰを保持することでプレートＰが保持される保持位置の数を増加させているのに対して、第１０実施形態では更に、保持部４６４１でプレートＰを保持することでプレートＰの保持面積（つまり、保持部４６４１によって保持されているプレートＰの上面の領域の面積）を増加させている。このため、プレートＰの撓みがより一層適切に抑制又は防止される。つまり、プレートＰの平面度がより一層適切に維持される。加えて、Ｙ軸方向が長手方向となる形状を保持部４６４１が有しているため、プレートＰのＹ軸方向の撓みも適切に抑制又は防止される。つまり、プレートＰの平面度がより一層適切に維持される。

　このような保持部４６４１の一具体例について、図２４（ａ）から図２５を参照して更に詳細に説明する。図２４（ａ）は、保持部４６４１の下面を示す平面図であり、図２４（ｂ）は、保持部４６４１の側面を示す平面図である。図２５は、保持部４６４１のＹＺ断面を示す断面図である。

　図２４（ａ）及び図２５に示すように、保持部４６４１は、ベース部１０３０と、中間部１０３４と、保持面部１０３６と、複数の（図２４（ａ）に示す例では、３つの）チャック部１０４０とを含む。ベース部１０３２、中間部１０３４及び保持面部１０３６の夫々は、平面視板状の部材である。ベース部１０３２の下面に中間部１０３４が積層され、中間部１０３４の下面に保持面部１０３６が積層される。保持部４６４１は、チャック部１０４０がプレートＰの上面を吸着することでプレートＰを保持する。従って、チャック部１０４０の下面（つまり、下端）には、気体吸引孔が形成されている。気体吸引孔を介して吸引された気体は、ベース部１０３２及び中間部１０３４内に形成された管路１０６２を介して吸引される。

　３つのチャック部１０４０は、保持面部１０３６の内部に形成された３つの収容部１０３８に夫々収容される。収容部１０３８は、保持面部１０３６内に形成され且つ保持面部１０３６の下面側に開口した空間である。複数の収容部１０３８のうちの一つは、保持面部１０３６の中心（具体的には、ＸＹ平面上での中心）付近に形成される。以下、保持面部１０３６の中心付近に形成された収容部１０３８に収容されているチャック部１０４０を、適宜“センターチャック部１０４０Ｃ”と称する。

　ここで、図２６（ａ）から図２６（ｂ）を参照しながら、チャック部１０４０の構造について更に説明する。図２６（ａ）は、チャック部１０４０のＹＺ断面を示す断面図である。図２６（ｂ）は、チャック部１０４０を下方から観察した平面図である。

　図２６（ａ）及び図２６（ｂ）に示すように、チャック部１０４０は、突出部１０４２と、フランジ部１０４４とを含む。突出部１０４２は、円筒形状の部材である。フランジ部１０４４は、突出部１０４２の上端に一体的に接続される円盤状の部材である。収容部１０３８にチャック部１０４０が収容された状態では、突出部１０４２の下端が保持面部１０３６の下面からわずかに（例えば、数十マイクロメートル程度）突き出すように、突出部１０４２のサイズが調整されている。保持面部１０３６の下面からの突出部１０４２の突出量は、チャック部１０４０によって吸着されたプレートＰを、保持面部１０３６からの気体の噴出に起因して発生する面圧力を用いて保持面部１０３６が非接触支持可能な量に設定される。フランジ部１０４４は、チャック部１０４０が収容部１０３８から抜け出すことを防止する。

　突出部１０４２の下端には、円環状に形成された周壁部１０４８ａと、周壁部１０４８ａの内側に配置された複数のピン１０４８ｂとが形成されている。周壁部１０４８ａの下端と複数のピン１０４８ｂの下端は、Ｚ軸方向の沿った位置（つまり、高さ）が同じになるように位置合わせされている。突出部１０４２の下端には更に、周壁部１０４８ａの内側の空間の気体を吸引するための気体吸引孔１０４８ｃが形成されている。気体吸引孔１０４８ｃは、複数のピン１０４８ｂに囲まれた領域の中心付近に形成されている。周壁部１０４８ａ及び複数のピン１０４８ｂの夫々の下端がプレートＰの上面に接触した状態で、気体吸引孔１０４８ｃを介して周壁部１０４８ａの内側の空間の気体が吸引される。その結果、周壁部１０４８ａの内側の空間には、真空吸引力が発生する。この真空吸引力により、チャック部１０４０（つまり、保持部４６４１）は、プレートＰを保持する。

　再び、図２５において、チャック部１０４０が収容部１０３８に収容された状態で、収容部１０３８を形成する壁面と、チャック部１０４０の外周面（具体的には、突出部１０４２及びフランジ部１０４４の側面）との間には、所定の隙間が確保される。この隙間により、チャック部１０４０が収容部１０３８に収容された状態で、チャック部１０４０のＸＹ平面に沿った移動が保持面部１０３６によって制限されることはない。つまり、チャック部１０４０は、ＸＹ平面に沿って非拘束な状態（つまり、可動可能な状態）にある。第１０実施形態では、保持部４６４１は、チャック部１０４０の非拘束な状態を利用して、プレートＰの撓みを解消可能である。以下、この動作について更に説明する。

　管路１０６０を介して保持面部１０３６に供給された気体は、保持面部１０３６の下面の気体噴出孔から噴出される。尚、第１０実施形態では、保持面部１０３６は、多孔体であるものとする。その結果、保持面部１０３６の下面からプレートＰの上面に向けて気体が噴出される。この場合、保持面部１０３６の下面からプレートＰの上面に向けて噴出される気体に起因して、保持面部１０３６からプレートＰに対して均一な面圧力が発生する。更に、保持面部１０３６が多孔体であるため、保持面部１０３６とプレートＰとの間の空間から保持面部１０３６の下面の孔（気体吸引孔として作用し得る孔）を介して気体が吸引される。その結果、プレートＰの上面には、気体噴出孔からの気体の噴出に起因して発生する重力方向（つまり、－Ｚ側）に作用する力及び気体吸引孔からの気体の吸引に起因して発生する重力方向とは反対側（つまり、＋Ｚ側）に作用する力が発生する。この２つの力の配分は、プレートＰの上面を平坦にすることが可能な適切な配分に設定される。その結果、保持部４６４１がプレートＰを吸着することで、プレートＰの撓みが解消される。

　更に、保持面部１０３６が多孔体であるため、管路１０６０を介して保持面部１０３６に供給された気体は、更に、保持面部１０３６の下面以外の外面の気体噴出孔からも噴出される。その結果、例えば、保持面部１０３６は、チャック部１０４０（但し、センターチャック部１０４０Ｃを除く）の外周面に気体を噴出する。尚、図２５中に示す矢印は、気体の流れを示している。チャック部１０４０は、保持面部１０３６から噴出された気体の静圧により、収容部１０３８を形成する壁面とチャック部１０４０の外周面との間に隙間を確保した状態で保持される。加えて、第１０実施形態では、センターチャック部１０４０Ｃを除く他のチャック部１０４０は、多孔体である環状部材１０４６の下方に配置される。環状部材１０４６にもまた、管路１０６０を介して気体が供給される。その結果、例えば、環状部材１０４６は、例えば、チャック部１０４０（但し、センターチャック部１０４０Ｃを除く）の上面（具体的には、フランジ部１０４４の上面）に気体を噴出する。チャック部１０４０は、環状部材１０４６から噴出された気体の静圧により、収容部１０３８を形成する壁面とチャック部１０４０の上面との間に隙間を確保した状態で保持される。収容部１０３８を形成する壁面とチャック部１０４０の上面及び外周面との間に隙間が確保されている状態では、チャック部１０４０は、プレートＰを保持したままＸＹ平面に沿って自由に移動することができる。このとき、プレートＰが撓んでいる場合には、プレートＰの剛性に起因して、プレートＰの撓みを解消する方向に作用する力がプレートＰに加わる。この力に起因して、自由に移動可能なチャック部１０４０もまたＸＹ平面に沿って移動する。つまり、チャック部１０４０は、プレートＰの撓みを解消するように移動する。一方で、センターチャック部１０４０Ｃは、ＸＹ平面に沿って移動できないように拘束された状態にある。このため、センターチャック部１０４０Ｃを除く他のチャック部１０４０の移動により、センターチャック部１０４０Ｃによって保持されたプレートＰの位置を起点に、プレートＰの撓みが解消される。

　プレートＰの撓みを解消することができる程度にチャック部１０４０が移動した後には、チャック部１０４０は、ＸＹ平面に沿って非拘束な状態（つまり、可動可能な状態）から、ＸＹ平面に沿って拘束された状態（つまり、可動不可能な状態）へと変わる。具体的には、例えば、管路１０６０を介した環状部材１０４６への気体の供給が停止されるとともに、環状部材１０４６へ負圧が供給される。その結果、収容部１０３８を形成する壁面とチャック部１０４０の上面とが接触するため、当該壁面とチャック部１０４０の上面との摩擦力により、チャック部１０４０は、ＸＹ平面に沿って拘束された状態になる。

　このように、第１０実施形態の露光装置１０は、上述した第９実施形態の露光装置９が享受可能な効果と同様の効果を享受しながら、プレートＰの撓みをより適切に解消することができる。つまり、プレートＰの平面度がより適切に維持される。

　尚、上述した説明では、ＸＹ平面に沿って非拘束な状態にある複数のチャック部１０４０は、プレートＰの剛性に起因してプレートＰの撓みを解消するようにプレートＰに作用する力を用いて移動している。つまり、露光装置１０は、複数のチャック部１０４０を能動的に移動させるための駆動系を備えていない。しかしながら、露光装置１０は、複数のチャック部１０４０を能動的に移動させるための駆動系を備えていてもよい。この駆動系は、モータ等の動力源から出力される力を用いて、複数のチャック部１０４０を移動させてもよい。或いは、この駆動系は、複数のチャック部１０４０の外周面に噴出される気体の圧力を制御することで、複数のチャック部１０４０を移動させてもよい。具体的には、各チャック部１０４０のＸＹ平面上での移動方向は、各チャック部１０４０の外周面に噴出される気体の圧力によって制御可能である。例えば、各チャック部１０４０の＋Ｘ側の外周面に噴出される気体の圧力が各チャック部１０４０の－Ｘ側の外周面に噴出される気体の圧力よりも高ければ、各チャック部１０４０は、－Ｘ側に向かって移動する。このため、駆動系は、各チャック部１０４０の外周面に噴出される気体の圧力を制御することで、各チャック部１０４０を所望の移動方向に移動させてもよい。一例として、駆動系は、図２７に示すように、センターチャック部１０４０Ｃ以外の他のチャック部１０４０がセンターチャック部１０４０Ｃから離れるように、複数のチャック部１０４０を移動させてもよい。その結果、プレートＰの撓みが適切に解消される。

　但し、保持部４６４１は、プレートＰの撓みを解消可能な機構（例えば、上述したＸＹ平面に沿って非拘束な状態に設定可能なチャック部１０４０）を備えていなくてもよい。保持部４６４１は、プレートＰを保持することができる限りは、どのような構造を有していてもよい。

　保持部４６４１は、Ｘ軸方向に沿って延びる板状の部材であってもよい。保持部４６４１は、ＸＹ平面上においてＸ軸方向及びＹ軸方向の双方に交差する方向に沿って延びる板状の部材であってもよい。保持部４６４１は、ＸＹ平面に沿って広がる板状の部材であってもよい。プレートステージ１０６は、第１の方向（例えば、Ｘ軸方向）に沿って延びる板状の部材である保持部４６４１を含む微動ステージ４６４と、第１の方向とは異なる第２の方向（例えば、Ｙ軸方向）に沿って延びる板状の部材である保持部４６４１を含む微動ステージ４６４とを含んでいてもよい。

　上述した第１実施形態の露光装置１が備えるプレートステージ１６が、保持部１６４１に加えて又は代えて保持部４６４１を含んでいてもよい。第２実施形態の露光装置２から第８実施形態の露光装置８においても同様である。

　（１１）デバイス製造方法
　続いて、図２８を参照しながら、上述した露光装置１を用いて表示パネルを製造する方法について説明する。図２８は、上述した露光装置１（或いは、露光装置２から露光装置１０）を用いて表示パネルを製造するデバイス製造方法の流れを示すフローチャートである。尚、以下では、説明の便宜上、表示パネルの一例である液晶表示パネルを製造するデバイス製造方法について説明する。但し、その他の表示パネルもまた、図２８に示すデバイス製造方法又は図２８に示すデバイス製造方法の少なくとも一部を改変したデバイス製造方法を用いて製造可能である。

　図２８のステップＳ２００（マスク製造工程）では、まず、マスク１３１が製造される。その後、ステップＳ２０１（パターン形成工程）では、露光対象のプレートＰ上にレジストを塗布する塗布工程、上述した露光装置１等を用いて表示パネル用のマスクパターンをプレートＰに転写する露光工程、及び、当該プレートＰを現像する現像工程が実行される。この塗布工程、露光工程、及び現像工程を含むリソグラフィ工程によって、プレートＰ上に、マスクパターン（或いは、デバイスパターン）に対応するレジストパターンが形成される。リソグラフィ工程に続いて、レジストパターンをマスクとしたエッチング工程及びレジストパターンを除去する剥離工程等が実行される。その結果、プレートＰ上にデバイスパターンが形成される。このようなリソグラフィ工程等は、プレートＰに形成されるレイヤの数に応じて複数回実行される。

　ステップＳ２０２（カラーフィルタ形成工程）では、カラーフィルタが形成される。ステップＳ２０３（セル組立工程）では、ステップＳ２０１においてデバイスパターンが形成された基板１５１とステップＳ２０２において形成されたカラーフィルタとの間に液晶を注入される。その結果、液晶セルが製造される。

　その後のステップＳ２０４（モジュール組立工程）では、ステップＳ２０３において製造された液晶セルに所望の表示動作を行わせるための部品（例えば、電気回路及びバックライト等）が取り付けられる。その結果、液晶表示パネルが完成する。

　尚、照明光ＥＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光であってもよい。照明光ＥＬは、Ｆ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光であってもよい。照明光ＥＬとして、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域又は可視域の単一波長レーザ光を、エルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換することで得られる高調波が用いられてもよい。照明光ＥＬとして、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）等が用いられてもよい。

　上述した説明では、投影光学系１３は、複数の光学系を含むマルチレンズ方式の投影光学系である。しかしながら、投影光学系１３は、１つの光学系を含む投影光学系であってもよい。或いは、投影光学系１３は、オフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系であってもよい。

　露光装置１（或いは、露光装置２から１０、以下この段落において同じ）は、表示パネルを製造するための用途のみならず、半導体素子、薄膜磁気ヘッド若しくはマイクロマシン等の電子デバイスを製造するための用途や、ＤＮＡチップ等のデバイスを製造するための用途で使用されてもよい。露光装置１は、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する用途で使用されてもよい。露光対象となる物体は、上述した平板ガラスであるプレートＰに限らず、プレートＰ以外の他の物体（例えば、ウエハ、セラミック基板、フィルム部材、又は、マスクブランクス）であってもよい。

　上述の各実施形態の構成要件の少なくとも一部は、上述の各実施形態の構成要件の少なくとも他の一部と適宜組み合わせることができる。ある実施形態の構成要件の少なくとも一部は、他の実施形態と適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の構成要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

　本発明は、上述した実施例に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及び、デバイス製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。

　１　露光装置
　１１　照明光学系
　１２　マスクステージ
　１３　投影光学系
　１４　定盤
　１４１　架台部
　１４２　脚部
　１４３　気体供給管
　１４５　気体吸引管
　１５１　マスク支持部
　１５２　プレート支持部
　１６　プレートステージ
　Ｍ　マスク
　Ｐ　プレート

Claims

　光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光して、マスクが有する所定パターンを前記物体上に形成する露光装置において、
　前記光学系を支持する支持装置と、
　前記支持装置に設けられ、前記物体を非接触支持する物体支持部と
　を備える露光装置。
　前記物体支持部は、前記物体の露光面を非接触支持する請求項１に記載の露光装置。
　前記物体支持部により非接触支持される前記物体の第１面と対向する第２面を保持する保持部をさらに備え、
　前記保持部は、前記物体を前記物体支持部に対して相対駆動させる請求項１又は２に記載の露光装置。
　前記保持部は、前記走査露光において、前記物体を保持した状態で前記光学系と対向する位置を通過可能である請求項３に記載の露光装置。
　前記保持部は、前記走査露光において、前記物体を保持した状態で前記光学系の光学中心を通過可能である請求項４に記載の露光装置。
　前記保持部は、前記非接触支持された物体が撓まないように、前記第２面の複数箇所を保持する請求項３から５の何れか一項に記載の露光装置。
　前記複数箇所を保持する前記保持部は、前記物体が撓まないように、互いに離れる方向に駆動する請求項６に記載の露光装置。
　前記支持装置と離間して設けられ、前記保持部を支持する支持部材を更に備える請求項３から７の何れか一項に記載の露光装置。
　前記走査露光において、前記所定パターンを有するマスクを駆動するマスク駆動部と、
　前記支持装置に設けられ、前記マスク駆動部を非接触支持するマスク支持部と
　を更に備える請求項１から８の何れか一項に記載の露光装置。
　前記支持装置に設けられ、前記マスクを非接触支持するマスク支持部と、
　前記走査露光において、前記マスク支持部により非接触支持された前記マスクを駆動するマスク駆動部と
　を更に備える請求項１から８の何れか一項に記載の露光装置。
　前記支持装置は、前記物体を非接触支持する気体を前記物体支持部に供給するための気体供給部を有する請求項９又は１０に記載の露光装置。
　前記気体供給部は、前記マスク支持部に気体を供給する請求項１１に記載の露光装置
　前記支持装置は、前記物体と前記物体支持部との間の気体を吸引する吸引部を有する請求項１１又は１２に記載の露光装置。
　前記吸引部は、前記マスク支持部から気体を吸引する請求項１３に記載の露光装置。
　光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光しマスクに設けられた所定パターンを前記物体上に形成する露光装置において、
　前記物体を非接触支持する物体支持部と、
　前記マスク又は前記マスクを駆動するマスク駆動部を非接触支持するマスク支持部と、
　前記マスク支持部と前記光学系との少なくとも何れか一方と前記物体支持部とを支持する支持装置と
　を備える露光装置。
　光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光しマスクに設けられた所定パターンを前記物体上に形成する露光装置において、
　前記物体を非接触支持する物体支持部と、
　前記マスク又は前記マスクを駆動するマスク駆動部を非接触支持するマスク支持部と、
　前記物体支持部と前記マスク支持部とを支持する支持装置と
　を備える露光装置。
　前記支持装置と離間して配置され、前記光学系を支持する光学系支持部を更に備える請求項１６に記載の露光装置。
　前記物体支持部により非接触支持される前記物体の第１面と対向する第２面を保持する保持部をさらに備え、
　前記保持部は、前記物体を前記物体支持部に対して相対駆動させる請求項１５から１７の何れか一項に記載の露光装置。
　前記支持装置と離間して設けられ、前記保持部を支持する支持部材を更に備える請求項１８に記載の露光装置。
　前記物体支持部により非接触支持される前記物体を保持する保持部と、
　前記支持装置と離間して設けられ、前記保持部を支持する支持部材と、
　前記支持装置及び前記支持部材と離間して設けられ、前記マスク駆動部を支持する支持フレームと
　を更に備える請求項９から１９の何れか一項に記載の露光装置。
　前記支持装置は、前記走査露光において前記物体が駆動される走査方向と交差する所定方向に関して、前記支持フレームと前記支持部材との間に設けられる請求項２０に記載の露光装置。
　前記支持フレームは、前記所定方向に関して、前記支持装置および前記支持部材よりも外側に設けられる請求項２１に記載の露光装置。
　前記照明光の進行方向は、重力方向と平行な方向である請求項１から２２の何れか一項に記載の露光装置。
　前記支持フレームは、前記所定方向に関して、前記支持装置および前記支持部材よりも内側に設けられる請求項２１に記載の露光装置。
　前記照明光の進行方向は、重力方向と反対の方向である請求項１から２１、２４の何れか一項に記載の露光装置。
　前記マスクを照射する照明光学系を更に備え、
　前記照明光学系は、前記支持装置と前記支持フレームと前記支持部材とは離間して設けられる請求項２４又は２５に記載の露光装置。
　前記走査露光において、前記光学系に対する前記物体の位置を計測する計測系を更に備える請求項１から２６の何れか一項に記載の露光装置。
　前記計測系の一部は、前記物体支持部により非接触支持される前記物体を保持する保持部に設けられ、
　前記計測系の他部は、前記支持装置に設けられる請求項２７に記載の露光装置。
　前記物体支持部は、多孔体で形成される請求項１から２８の何れか一項に記載の露光装置。
　前記物体支持部は、前記照明光が前記物体に照射可能に構成されている請求項１から２９のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記物体支持部は、前記照明光が通過する位置に開口を有する請求項３０に記載の露光装置。
　前記物体支持部は、前記開口を埋める透明部材を有する請求項３１に記載の露光装置。
　物体の所定面を非接触支持する物体支持部と、
　前記所定面を走査露光し、所定パターンを前記所定面上に形成する処理部と
　を備える露光装置。
　前記所定面に対向する対向面を保持し、前記物体を前記物体支持部に対して相対駆動させる保持部を更に備える請求項３３に記載の露光装置。
　前記物体は、ディスプレイ装置の表示パネルに用いられる基板である請求項１から３４の何れか一項に記載の露光装置。
　前記物体は、サイズが５００ｍｍ以上である基板である請求項３５に記載の露光装置。
　請求項１から３６の何れか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
　露光された前記物体を現像することと
　を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。
　請求項１から３６の何れか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
　露光された前記物体を現像することと
　を含むデバイス製造方法。
　光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光して、マスクが有する所定パターンを前記物体上に形成する露光方法において、
　前記光学系を支持する支持装置に設けられた物体支持部により、前記物体を非接触支持することと、を含む露光方法。
　前記非接触支持することでは、前記物体の露光面を非接触支持する請求項３９に記載の露光方法。
　前記物体支持部により非接触支持される前記物体の第１面と対向する第２面を保持部により保持し、前記保持部に保持された前記物体を前記物体支持部に対して相対駆動させることと、を更に含む請求項３９又は４０に記載の露光方法。
　前記相対駆動させることでは、前記走査露光において、前記物体を保持した前記保持部を、前記光学系と対向する位置を通過させる請求項４１に記載の露光方法。
　前記支持装置と離間して設けられ、支持部材により前記保持部を支持することと、を更に含む請求項４１又は４２に記載の露光方法。
　前記支持装置に設けられたマスク支持部により、前記所定パターンを有するマスクを駆動する前記マスク駆動部を非接触支持することと、を更に含む請求項３９から４３の何れか一項に記載の露光方法。
　前記支持装置に設けられたマスク支持部により、前記マスクを非接触支持することと、
　前記走査露光において、前記マスク支持部により非接触支持された前記マスクを駆動することと、を更に含む請求項３９から４３の何れか一項に記載の露光方法。
　光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光しマスクに設けられた所定パターンを前記物体上に形成する露光方法において、
　前記マスク又は前記マスクを駆動するマスク駆動部を非接触支持するマスク支持部と前記光学系との少なくとも何れか一方と、前記物体を非接触支持する物体支持部とを支持装置により支持することと、を含む露光方法。
　光学系を介して照明光を物体に照射し、前記物体を走査露光しマスクに設けられた所定パターンを前記物体上に形成する露光方法において、
　前記物体を非接触支持する物体支持部と、前記マスク又は前記マスクを駆動するマスク駆動部を非接触支持するマスク支持部とを支持装置により支持することと、を含む露光方法。
　前記支持装置と離間して配置され、光学系支持部により前記光学系を支持することと、を更に含む請求項４７に記載の露光方法。
　前記物体支持部により非接触支持される前記物体の第１面と対向する第２面を保持部により保持し、前記保持部に保持された前記物体を前記物体支持部に対して相対駆動させることと、を更に含む請求項４６から４８の何れか一項に記載の露光方法。
　物体の所定面を非接触支持することと、
　前記所定面を走査露光し、所定パターンを前記所定面上に形成することと、を含む露光方法。
　前記所定面に対向する対向面を保持し、前記物体を前記物体支持部に対して相対駆動させることと、更に含む請求項５０に記載の露光方法。