JP2014534643A5 - - Google Patents

Description

１つの特に有利な実施形態により、第１の領域は、ミラーの中心軸での点での反射の場合に、少なくとも８０％の割合で第２の領域内に位置することになる空間的広がりを有する。好ましくは、第１の領域は、ミラーの中心軸での点での反射の場合に、少なくとも９０％、特に少なくとも９５％、好ましくは、１００％の割合で第２の領域内に位置することになる空間的広がりを有する。言い換えれば、レチクルによって反射された第１の部分反射面からの放射線のゼロ次の回折のほとんどの部分、特にその全てが、第２の放射線反射領域内の第２の部分反射面上に入射するように、各第１の部分反射面に対して各場合に第２の領域内に共役面が存在する。

第１の部分反射面２２は、ミラー２０の中心軸２５での点での反射の場合に、その空間的広がりが、完全に第２の領域内、すなわち、第２の部分反射面２３の領域内に位置するように全体反射面２４上に配置される。明確にするために、図４に対応する部分面は破線境界線で例示しており、これらの面には参照記号２２^*を付与している。以下では、これらの部分面は、それぞれの第１の部分反射面２２に対する共役面２２^*とも表す。一般に、第１の部分反射面２２の個数は、図４に示すものよりも有意に多い。

すなわち、第１の領域、すなわち、第１の反射面２２の全体は、ミラー２０の中心軸２５での点での反射の場合に、完全に第２の領域、すなわち、第２の部分反射面２３の領域内に位置することになる空間的広がりを有する。

Claims (14)

1. 照明光学ユニット（４）及び投影光学ユニット（９）内に特定のビーム経路を有するＥＵＶ放射線（１４）を用いて物体視野（５）を照明するための該照明光学ユニット（４）と該物体視野（５）を像視野（１０）内に投影するための該投影光学ユニット（９）とを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置（１）内の該ＥＵＶ放射線（１４）のためのミラー（２０）の配置であって、
   前記ミラー（２０）は、
   少なくとも１つの第１のＥＵＶ放射線反射領域、及び
   少なくとも１つの第２のＥＵＶ放射線反射領域、
   を有するミラー体（２１）を有し、
   前記少なくとも１つの第１の領域は、前記照明光学ユニット（４）の前記ビーム経路に配置され、
   前記少なくとも１つの第２の領域は、前記投影光学ユニット（９）の前記ビーム経路に配置される、
   ことを特徴とするミラー（２０）の配置。
2. 前記少なくとも１つの第２の領域は、前記投影光学ユニット（９）の前記ビーム経路における１番目のミラー（Ｍ１）又は２番目のミラー（Ｍ２）を形成することを特徴とする請求項１に記載のミラー（２０）の配置。
3. 前記第１の領域は、接続されていないように具現化された多数の部分反射面（２２）を含むことを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれか１項に記載のミラー（２０）の配置。
4. 全体反射面（２４）を有するＥＵＶ放射線（１４）のためのミラー（２０）であって、 第１のＥＵＶ放射線反射領域と、
   少なくとも１つの第２のＥＵＶ放射線反射領域と、
   を有し、
   前記ＥＵＶ放射線反射領域は、互いから構造的に区切られ、
   前記第１の領域は、複数の第１の部分反射面（２２）を含み、
   前記少なくとも１つの第２のＥＵＶ放射線反射領域は、
   経路が接続されているように具現化され、かつ
   連続に具現化された、
   少なくとも１つの第２の部分反射面（２３）を含み、
   すべての前記第１の部分反射面（２２）は、円周（３１）に沿って、少なくとも部分的に前記第２の部分反射面（２３）によって囲まれる、
   ことを特徴とするミラー（２０）。
5. すべての前記第１の部分反射面（２２）は、それらの円周（３１）に沿って、前記第２の部分反射面（２３）によって完全に取り囲まれることを特徴とする請求項４に記載のミラー（２０）。
6. 前記第１の領域は、ミラー（２０）の中心軸（２５）が該ミラー（２０）を通る点において反射された場合に、少なくとも８０％の割合で前記第２の領域内に位置することになる空間的広がりを有することを特徴とする請求項４及び請求項５のいずれか１項に記載のミラー（２０）。
7. 前記第２の部分反射面（２３）は、主基板（３４）上の反射コーティング（３３）として具現化され、前記少なくとも１つの第１の部分反射面（２２）は、各場合に少なくとも１つの更に別の補助基板（３６）上の反射コーティング（３５）として具現化されることを特徴とする請求項４から請求項６のいずれか１項に記載のミラー（２０）。
8. 前記ミラーは、請求項４から請求項７のいずれか１項に従って具現化されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のミラー（２０）の配置。
9. ＥＵＶ放射線（１４）を用いて物体視野（５）を照明するための照明光学ユニット（４）であって、
   請求項４から請求項７のいずれか１項に記載のミラー（２０）、
   を有することを特徴とする照明光学ユニット（４）。
10. 物体視野（５）を像視野（１０）内に結像するための投影光学ユニット（９）であって、
    請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のミラー（２０）の配置、
    を有することを特徴とする投影光学ユニット（９）。
11. 前記ミラー（２０）は、瞳の近くに配置されることを特徴とする請求項１０に記載の投影光学ユニット（９）。
12. ＥＵＶ放射線（１４）を用いて物体視野（５）を照明するための照明光学ユニット（４）であって、
    前記照明光学ユニット（４）が、少なくとも１つの瞳ファセットミラー（１８）を有し、
    前記ＥＵＶ放射線が、特定の照明設定を発生させるために前記照明光学ユニット（４）に少なくとも１つの特定のビーム経路を有する、
    前記照明光学ユニット（４）、及び
    前記物体視野（５）を像視野（１０）内に結像するための投影光学ユニット（９）、
    を含むＥＵＶ投影露光装置（１）のための光学系（２７）であって、
    請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のミラー（２０）の配置、
    を特徴とする光学系（２７）。
13. ＥＵＶ放射線源（３）と、
    請求項１２に記載の光学系（２７）と、
    を含むことを特徴とするＥＵＶ投影露光装置（１）。
14. 微細又はナノ構造化構成要素を生成する方法であって、
    レチクル（７）を与える段階と、
    感光コーティングを有するウェーハ（１２）を与える段階と、
    請求項１３に記載の投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（７）の少なくとも一部分を前記ウェーハ（１２）上に投影する段階と、
    前記ウェーハ（１２）上の前記露光された感光コーティングを現像する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。