JP5918858B2 - マイクロリソグラフィ投影露光装置の光変調器及び照明系 - Google Patents
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Description
用語「光」とは、全ての電磁波を意味し、特に、可視光、UV、DUV、VUV及びEUV及びX線を意味する。
図1は、本発明に係る投影露光装置10を大幅に簡略化した状態で示す斜視図である。装置10は、投影光ビーム(図示せず)を生成する照明系12を備える。この場合に照明系12は、複数個の微細な特徴部19(図1では細いラインで概略的に示す)で形成されたパターン18を含むマスク16上のフィールド14を照射するものである。図示の実施形態において、照射フィールド14は、環状セグメント状であるが、矩形など他の形状であってもよい。
図2は、図1の照明系12を示す子午断面図である。なお同図は、明瞭性の見地から大幅に簡略化されており、実寸を反映するものではない。この点は、特に、異なる光学ユニットが1個又は僅かな個数の光学素子によってのみ表されていることを意味する。実際には、これらユニットは、遥かに多くのレンズや他の光学素子を含むことができる。
以下、図5〜図11に関連して、ミラーアレイ40の様々な実施形態について説明する。
図5は、第1実施形態に係るミラーアレイ40の一部を示す断面図である。この場合にミラーアレイ40は、複数個の電子部品72(詳細に示さずに、単一の回路層としてのみ示す)を支持する基板70を含む。基板70は更に、複数個のミラーユニット74を支持しており、各ミラーユニット74は、マイクロミラー42の1個と、該マイクロミラー42に機能的に関連付けられた電子部品とを含む。加えて、各マイクロミラー42は、ミラー基板76と、該ミラー基板76上に施され、例えば交互に異なる屈折率を有する複数の薄層より成る反射コーティング78とを含む。
図9は、第5実施形態に係るミラーアレイ540の断面図である。この場合、隣接するマイクロミラーの少なくとも幾つかは部分的に重なっている。そのためにマイクロミラーは、基板70上において異なる高さで配置されている。より具体的には、第1マイクロミラー42aは、第2マイクロミラー42bに比べて、基板70上においてより小さな高さで配置されている。図9の断面図に示すように、第1及び第2マイクロミラー42a,42bは、一方向に沿って高さが交互に異なっている。
図11は、第6実施形態に係るミラーアレイ640を示す上面図である。この場合のミラーアレイ640の構成は、図5に示す第1実施形態の構成と本質的に同一である。図示の実施形態における各マイクロミラー42も、変調器基板70に支持されたアクチュエータ86,88(図5にのみ示す)によって、2つの傾動軸線周りで個別に傾斜可能とされている。マイクロミラー42が有する外周形状は、基本形状(図示の実施形態では正方形)を、傾動軸線に少なくともほぼ直交する回転軸線RA周りに異なる角度で回転させることによって得られるものである。図示の実施形態における回転軸線RAは、図面に対して直交するよう延在する。
Claims (6)
- 光変調器(38)であって、
a)変調器基板(70)と、
b)ミラー(42aa, 42ab, 42ac, 42ba, 42bb, 42ca)のアレイと、
c)前記変調器基板(70)に支持され、かつ前記ミラーを2つの傾動軸線周りで個別に傾斜させるよう構成された複数個のアクチュエータ(86,88)とを含み、
前記ミラー(42)の少なくとも幾つかは、非円形の基本形状を、前記ミラーのアレイの完全に規則的な配置を回避するために、完全に規則的な配置から傾動軸線に少なくともほぼ直交する回転軸線(RA)周りに異なる角度で回転させた外周形状を有する光変調器。 - 請求項1に記載の変調器であって、前記回転角度は、一定の回転角度範囲内でほぼランダムに分布している変調器。
- 請求項2に記載の変調器であって、前記範囲は、0.1°〜30°である変調器。
- 請求項3に記載の変調器であって、前記範囲は、1°〜5°である変調器。
- 請求項1〜4の何れか一項に記載の変調器であって、前記ミラーの少なくとも幾つかの縁部は、不規則に擦り減っている変調器。
- 請求項1〜5の何れか一項に記載の光変調器を備えるマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系。
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