JP2016503186A5 - - Google Patents
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Description
一実施形態によれば、光学系の作動中に、第2の反射面のそれぞれ1つによって反射される光線は、それぞれの第1の反射面における先行反射の前の当該光線の入射方向に対してほぼ平行な出力方向に反射される。この場合に、一実施形態によれば、光学系の作動中に、第2の反射面のそれぞれ1つによって反射される光線は、それぞれの第1の反射面における先行反射の前の当該光線の入射方向から最大で±15°、特に最大で±10°、より具体的には最大で±5°だけ外れる出力方向に反射される。この場合に、好ましくは、第2の反射面から射出する光ビームを有限距離の場所にあるミラー装置上で組み合わせるために、出力方向の僅かな傾斜が与えられる。
本発明は、瞳平面内の直線偏光(時に変化する偏光方向を有する)の生成に限定されない。むしろ、例えば、瞳平面内で非偏光光が望ましい用途では、第1の反射面111,112,...又はストリップミラーの傾斜機能は、生成された(例えば、非偏光光を生成する光源により)照明光が、不変の偏光状態を有し、すなわち、特に第1又は第2の反射面での反射なしにミラー装置200上へと通過し、その場合に、そうでなければ第1又は第2の反射面での上述の反射に関連付けられる強度損失もひいては回避することができるように、第1の反射面111,112,...を光学ビーム経路から「スウィングアウト(swing out)」するためにもまた使用することができる。
図5により、コヒーレント光源501(例えば、シンクロトロン又は自由電子レーザ)からの光は、上述したように本発明による偏光影響装置100と瞳生成のための光学ユニット504内に中間視野平面に置かれたミラー装置200とを含む照明デバイス503上に光学ビーム案内(誘導)及び拡大ユニット502を通じて入射する。照明デバイスによって照明されるマスク(レチクル)505が、下流の投影レンズ506の物体平面に置かれ、投影レンズ506は、マスク505上の構造を像平面に配置されたウェーハ507上に結像する。
Claims (14)
- 特にEUVにおける動作のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
光伝播方向に関して前記光学系の瞳平面の上流に配置された複数の互いに独立に調節可能なミラー要素からなるミラー装置(200)と、
光伝播方向に関して前記ミラー装置(200)の上流に配置された少なくとも1つの偏光影響装置(100)と、
を含み、
前記偏光影響装置(100)は、第1の反射面(111,112,...)の群と第2の反射面(121,122,...)の群を有し、
前記第1の反射面(111,112,...)は、互いに独立に傾斜可能であり、光学系の動作中に、該第1の反射面(111,112,...)のそれぞれ1つで反射された光は、該第1の反射面(111,112,...)の該傾斜に依存して前記第2の反射面(121,122,...)のそれぞれ異なる1つを通じて前記ミラー装置(200)上に向けられることができる、
ことを特徴とする光学系。 - 前記第1の反射面(111,112,...)は、各場合に2つの互いに垂直な傾斜軸の周りに各場合に互いに独立に傾斜可能であることを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 光学系の前記動作中に、光が、前記第1の反射面(111,112,...)の及び/又は前記第2の反射面(121,122,...)のそれぞれ1つの上に各場合に入射角Θ=ΘB±5°で入射し、ΘBは、光学系の動作波長での該反射面(111,112,...)に対するブリュースター角を表すことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学系。
- 光学系の前記動作中に、前記第2の反射面(121,122,...)のそれぞれ1つによって反射される光線が、それぞれの前記第1の反射面(111,112,...)での先行反射の前の該光線の入射方向から最大で±15°だけ外れる出力方向に反射されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記偏光影響装置(100)は、光学系の前記動作中にそれぞれの前記第1の反射面(111,112,...)上に入射する光をそれぞれの前記第2の反射面(121,122,...)から射出する直線偏光光に変換することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学系。
- 光学系の前記動作中にそれぞれの前記第1の反射面(111,112,...)上に入射する前記光は、非偏光状態又は円偏光状態にあることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記第1の反射面(111,112,...)の群は、複数の互いに独立に調節可能なストリップミラーを有するストリップミラーユニット(110)として具現化されることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記第1の反射面(111,112,...)は、部分透過性として構成されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記第2の反射面(121,122,...)の群は、それが光学系の前記動作中に前記ミラー装置(200)を完全に照明するように構成されることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記偏光影響装置(100)は、前記第1の反射面(111,112,...)の少なくとも1つの設定において、光学系を通過する光の偏光状態を不変のままに残すことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記偏光影響装置(100)は、光学系の瞳平面に少なくとも近似的にタンジェンシャルな偏光分布又は少なくとも近似的にラジアルな偏光分布を発生させることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の光学系。
- EUVにおける動作に向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスであって、
請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の光学系、
を含むことを特徴とする照明デバイス。 - 照明デバイスと投影レンズとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
前記照明デバイスは、請求項12に従って具現化される、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - マイクロリソグラフィによって微細構造化構成要素を生成する方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に付けられた基板を与える段階と、
結像される構造を有するマスクを与える段階と、
請求項13に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスクの少なくとも一部を前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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