JP2016503186A5

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Publication number: JP2016503186A5
Application number: JP2015546938A
Authority: JP
Filing date: 2013-12-03
Publication date: 2018-04-19
Anticipated expiration: 2033-12-03

Description

一実施形態によれば、光学系の作動中に、第２の反射面のそれぞれ１つによって反射される光線は、それぞれの第１の反射面における先行反射の前の当該光線の入射方向に対してほぼ平行な出力方向に反射される。この場合に、一実施形態によれば、光学系の作動中に、第２の反射面のそれぞれ１つによって反射される光線は、それぞれの第１の反射面における先行反射の前の当該光線の入射方向から最大で±１５°、特に最大で±１０°、より具体的には最大で±５°だけ外れる出力方向に反射される。この場合に、好ましくは、第２の反射面から射出する光ビームを有限距離の場所にあるミラー装置上で組み合わせるために、出力方向の僅かな傾斜が与えられる。

本発明は、瞳平面内の直線偏光（時に変化する偏光方向を有する）の生成に限定されない。むしろ、例えば、瞳平面内で非偏光光が望ましい用途では、第１の反射面１１１，１１２，．．．又はストリップミラーの傾斜機能は、生成された（例えば、非偏光光を生成する光源により）照明光が、不変の偏光状態を有し、すなわち、特に第１又は第２の反射面での反射なしにミラー装置２００上へと通過し、その場合に、そうでなければ第１又は第２の反射面での上述の反射に関連付けられる強度損失もひいては回避することができるように、第１の反射面１１１，１１２，．．．を光学ビーム経路から「スウィングアウト（ｓｗｉｎｇｏｕｔ）」するためにもまた使用することができる。

図５により、コヒーレント光源５０１（例えば、シンクロトロン又は自由電子レーザ）からの光は、上述したように本発明による偏光影響装置１００と瞳生成のための光学ユニット５０４内に中間視野平面に置かれたミラー装置２００とを含む照明デバイス５０３上に光学ビーム案内（誘導）及び拡大ユニット５０２を通じて入射する。照明デバイスによって照明されるマスク（レチクル）５０５が、下流の投影レンズ５０６の物体平面に置かれ、投影レンズ５０６は、マスク５０５上の構造を像平面に配置されたウェーハ５０７上に結像する。

Claims

特にＥＵＶにおける動作のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
光伝播方向に関して前記光学系の瞳平面の上流に配置された複数の互いに独立に調節可能なミラー要素からなるミラー装置（２００）と、
光伝播方向に関して前記ミラー装置（２００）の上流に配置された少なくとも１つの偏光影響装置（１００）と、
を含み、
前記偏光影響装置（１００）は、第１の反射面（１１１，１１２，．．．）の群と第２の反射面（１２１，１２２，．．．）の群を有し、
前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）は、互いに独立に傾斜可能であり、光学系の動作中に、該第１の反射面（１１１，１１２，．．．）のそれぞれ１つで反射された光は、該第１の反射面（１１１，１１２，．．．）の該傾斜に依存して前記第２の反射面（１２１，１２２，．．．）のそれぞれ異なる１つを通じて前記ミラー装置（２００）上に向けられることができる、
ことを特徴とする光学系。
前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）は、各場合に２つの互いに垂直な傾斜軸の周りに各場合に互いに独立に傾斜可能であることを特徴とする請求項１に記載の光学系。
光学系の前記動作中に、光が、前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）の及び／又は前記第２の反射面（１２１，１２２，．．．）のそれぞれ１つの上に各場合に入射角Θ＝Θ_B±５°で入射し、Θ_Bは、光学系の動作波長での該反射面（１１１，１１２，．．．）に対するブリュースター角を表すことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学系。
光学系の前記動作中に、前記第２の反射面（１２１，１２２，．．．）のそれぞれ１つによって反射される光線が、それぞれの前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）での先行反射の前の該光線の入射方向から最大で±１５°だけ外れる出力方向に反射されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光学系。
前記偏光影響装置（１００）は、光学系の前記動作中にそれぞれの前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）上に入射する光をそれぞれの前記第２の反射面（１２１，１２２，．．．）から射出する直線偏光光に変換することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光学系。
光学系の前記動作中にそれぞれの前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）上に入射する前記光は、非偏光状態又は円偏光状態にあることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光学系。
前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）の群は、複数の互いに独立に調節可能なストリップミラーを有するストリップミラーユニット（１１０）として具現化されることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光学系。
前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）は、部分透過性として構成されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の光学系。
前記第２の反射面（１２１，１２２，．．．）の群は、それが光学系の前記動作中に前記ミラー装置（２００）を完全に照明するように構成されることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の光学系。
前記偏光影響装置（１００）は、前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）の少なくとも１つの設定において、光学系を通過する光の偏光状態を不変のままに残すことを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の光学系。
前記偏光影響装置（１００）は、光学系の瞳平面に少なくとも近似的にタンジェンシャルな偏光分布又は少なくとも近似的にラジアルな偏光分布を発生させることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の光学系。
ＥＵＶにおける動作に向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスであって、
請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の光学系、
を含むことを特徴とする照明デバイス。
照明デバイスと投影レンズとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
前記照明デバイスは、請求項１２に従って具現化される、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
マイクロリソグラフィによって微細構造化構成要素を生成する方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に付けられた基板を与える段階と、
結像される構造を有するマスクを与える段階と、
請求項１３に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスクの少なくとも一部を前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。