JP2015534653A5 - - Google Patents

Description

本発明によるマイクロリソグラフィー投影露光装置用光学システムは、
-複数のミラー素子を有する少なくとも一つのミラー機構であり、これらのミラー素子は前記ミラー機構によって反射される光の角度分布を変更するために相互に独立して調整可能である、ミラー機構と、
-光伝搬方向において前記ミラー機構の下流に配置されている偏光影響光学機構と、
を備え、前記偏光影響光学機構は、前記ミラー機構によって反射される光の少なくとも一つの角度分布について、前記機構に入射する光ビームを少なくとも２回反射し、該少なくとも２回の反射は共通の面内で生じないことを特徴とするものである。

特に、相互に独立して調整可能な、輝度分布を偏光するように機能するミラー素子を有するミラー機構を使用することで、本発明は、ミラー機構に後続する偏光影響光学機構内で共通の面内に無い複数回反射により幾何学的偏光回転を得て、輝度分布を設定することを超えて様々な偏光分布を柔軟に設定するための選択肢を提供するという着想に基づくものである。

本発明の一実施形態では、偏光影響光学機構は、前記ミラー機構によって反射される光の少なくとも一つの角度分布について、前記機構に入射した光ビームを少なくとも３回反射し、これらの反射は全て共通の面内で生じない。

さらに、本発明はマイクロリソグラフィー露光方法に関するものであり、かかる方法では、光源により生成される投影露光装置の照明装置の光は、投影レンズの対物面を照明するために供給され、さらに、前記投影レンズによって前記投影レンズの結像面内に前記対物面が結像される、マイクロリソグラフィー露光方法であって、該方法は、
- 少なくとも一つのミラー機構であって、前記ミラー機構により反射される光の角度分布を変更するために相互に独立して調節することができる複数のミラー素子を有する、ミラー機構が前記照明装置内に使用されていることと、
- 前記ミラー機構により反射される光ビームは、前記ミラー機構により反射される前記光の少なくとも一つの角度分布について、少なくとも２回反射され、これらの反射は共通の面内で生じないことと、を特徴とする。

Claims (21)

1. マイクロリソグラフィー投影露光装置用光学システムであって、
   - 複数のミラー素子（200a, 200b, 200c,…, 400a, 400b, 400c,…）を有する少なくとも一つのミラー機構（200, 400）であり、これらのミラー素子は前記ミラー機構によって反射される光の角度分布を変更するために相互に独立して調整可能である、ミラー機構と、
   - 光伝搬方向において前記ミラー機構（200, 400）の下流に配置されている偏光影響光学機構（110, 210, 310, 320, 330）と、
   を備え、前記偏光影響光学機構（110, 210, 310, 320, 330）は、前記ミラー機構（200, 400）によって反射される光の少なくとも一つの角度分布について、前記偏光影響光学機構（110, 210, 310, 320, 330）に入射する光ビームを少なくとも２回反射し、該少なくとも２回の反射は共通の面内で生じない
   マイクロリソグラフィー投影露光装置用光学システム。
2. 前記偏光影響光学機構（110, 210, 310, 320, 330）は、前記ミラー機構（200, 400）によって反射される光の少なくとも一つの角度分布について、前記偏光影響光学機構（110, 210, 310, 320, 330）に入射する光ビームを異なる反射面で少なくとも３回反射することを特徴とする、請求項１に記載の光学システム。
3. 前記偏光影響光学機構による前記少なくとも２回の反射のうちの少なくとも一回は全内部反射であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光学システム。
4. 前記偏光影響光学機構による前記少なくとも２回の反射の全てが全内部反射であることを特徴とする、請求項３に記載の光学システム。
5. 前記偏光影響光学機構(210, 310, 320, 330)は、前記光学システムの動作波長の光について透過性である光学素子からなる、請求項１〜４の何れか一項に記載の光学システム。
6. 前記光学素子は複屈折を生じないことを特徴とする、請求項５に記載の光学システム。
7. 前記光学素子は光学アモルファス材料、特に石英ガラス（SiO₂）からなることを特徴とする、請求項５又は６に記載の光学システム。
8. 前記偏光影響光学機構（２１０）は、実質的にロッド状の幾何学的構造を有することを特徴とする、請求項１〜７の何れか一項に記載の光学システム。
9. 前記偏光影響光学機構（210, 310, 320, 330）は、光入射領域、光出射領域、及び複数の側面領域（210a, 201b, 310a-310d, 320a-320f, 330a-330d）を有し、各場合にて前記側面領域（210a, 201b, 310a-310d, 320a-320f, 330a-330d）のうちの一つにて反射が生じることを特徴とする、請求項１〜８の何れか一項に記載の光学システム。
10. 前記側面領域（310a-310d, 320a-320f, 330a-330d）の少なくともいくつかは、前記偏光影響光学機構（310, 320, 330）内で中空プロファイルを形成することを特徴とする、請求項９に記載の光学システム。
11. 前記偏光影響光学機構（１１０）は、少なくとも２つのミラー（110a, 110b, 110c,…）を有し、それぞれの場合での反射は前記ミラー（110a, 110b, 110c,…）のうちの１つにて生じることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光学システム。
12. 前記ミラー機構（200, 400）により反射される光の少なくとも１つの角度分布について、少なくとも一つの光ビームが、前記偏光影響光学機構による前記少なくとも２回の反射のうちの最後の反射の後に前記偏光影響光学機構から出射される際に、前記偏光影響光学機構に入射する間と同様の方向を有することを特徴とする、請求項１〜１１の何れか一項に記載の光学システム。
13. 前記光伝播方向において、前記ミラー機構（４００）の上流及び下流にそれぞれ偏向装置（４０１、４０２）を１つずつ有することを特徴とする、請求項１〜１２の何れか一項に記載の光学システム。
14. 前記ミラー機構（４００）の上流に配置された前記偏向装置（４０１）は、偏向ミラーにより形成されることを特徴とする、請求項１３に記載の光学システム。
15. 前記ミラー機構（４００）の下流に配置された前記偏向装置（４０２）は、偏光影響光学機構により形成されることを特徴とする、請求項１３又は１４に記載の光学システム。
16. 動作波長が、２５０ｎｍ未満、特に、２００ｎｍ未満、さらに特に１６０ｎｍ未満となるように設計されていることを特徴とする、請求項１〜１５の何れか一項に記載の光学システム。
17. 動作波長が、３０ｎｍ未満、特に、１５ｎｍ未満となるように設計されていることを特徴とする、請求項１〜１６の何れか一項に記載の光学システム。
18. 照明装置（１０）及び投影レンズ（２０）を備え、前記照明装置（１０）が請求項１〜１７の何れか一項に記載の光学システムを有することを特徴とする、マイクロリソグラフィー投影露光装置。
19. 光源により生成される投影露光装置の照明装置（１０）の光は、投影レンズ（２０）の対物面を照明するために供給され、さらに、前記投影レンズ（２０）によって前記投影レンズ（２０）の結像面内に前記対物面が結像される、マイクロリソグラフィー露光方法であって、該方法は、
    - 少なくとも一つのミラー機構（２００、４００）であって、前記ミラー機構（２００、４００）により反射される光の角度分布を変更するために相互に独立して調節することができる複数のミラー素子（200a, 200b, 200c,…, 400a, 400b, 400c,…）を有する、ミラー機構（２００、４００）が前記照明装置（１０）内に使用されていることと、
    - 前記ミラー機構（２００、４００）により反射される光ビームは、前記ミラー機構（２００、４００）により反射される前記光の少なくとも一つの角度分布について、偏光影響光学機構により少なくとも２回反射され、該少なくとも２回の反射は共通の面内で生じないことと、
    を特徴とする、
    マイクロリソグラフィー露光方法。
20. 偏光影響光学機構（110, 210, 310, 320, 330）は、前記ミラー機構（２００、４００）により反射される光の少なくとも一つの角度分布について、前記偏光影響光学機構（110, 210, 310, 320, 330）に入射する光ビームを少なくとも３回反射し、これらの反射は全て共通の平面では発生しない、ことを特徴とする請求項１９に記載のマイクロリソグラフィー露光方法。
21. 微細構造を有する部品をマイクロリソグラフィーにより製造する方法であって、
    - 少なくとも部分的に感光材料からなる層が塗布された基板（４０）を提供するステップ、
    - 結像対象の構造を有するマスク（３０）を提供するステップ、
    - 請求項１〜１７の何れか一項に記載の光学システムを有するマイクロリソグラフィー投影露光装置を提供するステップ、及び
    - 前記マイクロリソグラフィー投影露光装置により前記層の一部に前記マスク（３０）の少なくとも一部を投影するステップ、
    を含む、方法。