DE102007043958B4 - Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

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Abstract

Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit • einer Spiegelanordnung (60, 140, 340, 540, 940), welche eine Vielzahl von Spiegeleinheiten (141, 142, 143, 341, 342, 343, 541, 542, 543) aufweist, wobei diese Spiegeleinheiten zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung (60, 140, 340, 540, 940) reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind; und • wenigstens einem in Lichtausbreitungsrichtung vor der Spiegelanordnung (140, 340, 540, 940) angeordneten doppelbrechenden Element (50, 130, 330, 530, 930).

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage.
  • Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD's, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z. B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
  • In der Beleuchtungseinrichtung ist zur gezielten Einstellung definierter Beleuchtungssettings, d. h. Intensitätsverteilungen in einer Pupillenebene der Beleuchtungseinrichtung, neben der Verwendung diffraktiver optischer Elemente (sogenannter DOE's) auch der Einsatz von Spiegelanordnungen, z. B. aus WO 2005/026843 A2 , bekannt. Solche Spiegelanordnungen umfassen eine Vielzahl unabhängig voneinander einstellbarer Mikrospiegel, welche jeweils individuell in einem Winkelbereich von z. B. typischerweise –10° bis +10° verkippt werden können. Durch eine bestimmte Verkippungsanordnung der Spiegel kann eine gewünschte Lichtverteilung (z. B. ein Dipol-Setting, Quadrupol-Setting oder annulares Beleuchtungssetting) in der Pupillenebene geformt werden, indem das zuvor homogenisierte und kollimierte Laserlicht je nach gewünschtem Beleuchtungssetting in die entsprechende Richtung gelenkt wird. Ein entsprechender Aufbau ist schematisch in 13 dargestellt, welche einen Teilbereich einer Beleuchtungseinrichtung zeigt, der im Strahlengang eines Laserstrahls 10 aufeinanderfolgend einen Umlenkspiegel 11, ein refraktives optisches Element (ROE) 12, eine (lediglich beispielhaft eingezeichnete) Linse 13, eine Mikrolinsenanordnung 14, eine Spiegelanordnung 15, einen Diffusor 16, eine Linse 17 sowie eine Pupillenebene PP umfasst. Die Spiegelanordnung 15 umfasst eine Vielzahl von Mikrospiegeln, und die Mikrolinsenanordnung 14 weist eine Vielzahl von Mikrolinsen zur gezielten Fokussierung auf diese Mikrospiegel auf.
  • Während jedoch bei Verwendung eines DOE's von jedem Punkt des Laserstrahlprofils durch Beugung an den diffraktiven Strukturen des DOE's die gesamte Pupillenebene „aufgespannt” und somit unabhängig von der Intensitätsverteilung im Laserstrahlprofil eine im Wesentlichen gleichmäßige Ausleuchtung der Pupillenebene erreicht wird, können bei Verwendung einer Spiegelanordnung Veränderungen im Laserstrahlprofil zu energetischen Fluktuationen in der Pupillenebene führen, wenn beispielsweise in einzelnen Polen eines Dipol-Beleuchtungssettings voneinander verschiedene Polarisationszustände unter Nutzung unterschiedlicher Bereiche des Laserstrahlprofils eingestellt werden.
  • Somit kann bei Verwendung einer Spiegelanordnung zur gezielten Einstellung definierter Beleuchtungssettings eine Veränderung im Laserstrahlprofil in unerwünschter Weise eine inhomogene Ausleuchtung der Pupillenebene zur Folge haben.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage bereitzustellen, welche die flexible Einstellung definierter Beleuchtungssettings unter Verringerung der Störeinflüsse von Inhomogenitäten im Laserstrahlprofil ermöglicht.
  • Diese Aufgabe wird gemäß den Merkmalen des unabhängigen Anspruchs 1 gelöst.
  • Eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage weist auf:
    • – eine Spiegelanordnung, welche eine Vielzahl von Spiegeleinheiten aufweist, wobei die Spiegeleinheiten zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind, und
    • – wenigstens ein in Lichtausbreitungsrichtung vor der Spiegelanordnung angeordnetes doppelbrechendes Element.
  • Der Erfindung liegt das Konzept zugrunde, die bekannte Eigenschaft doppelbrechender Materialien hinsichtlich der räumlichen Trennung zwischen ordentlichem und außerordentlichem Strahl zu nutzen, um zueinander benachbarte Spiegeleinheiten bzw. -elemente einer Spiegelanordnung mit verschiedenen Polarisationszuständen beleuchten zu können und eine dichte Abfolge von sich abwechselnden Polarisationsorientierungen zu erhalten. Da von jeder Stelle des Laserstrahlprofils aus durch entsprechende Einstellung der einzelnen Spiegeleinheiten bzw. -elemente wahlweise Licht mit einer von zwei zueinander senkrechten Polarisationsrichtungen in die Pupillenebene gelenkt werden kann, können im Ergebnis von unterschiedlichen Positionen innerhalb des Strahlprofils unterschiedliche Orte der Pupillenebene mit Licht eines jeweils gewünschten Polarisationszustandes ausgeleuchtet werden. Insbesondere kann, da grundsätzlich von jedem Punkt des gesamten Strahlprofils aus beide zueinander senkrechte Polarisationsrichtungen an einen beliebigen Punkt in der Pupillenebene gelenkt werden können, für ein gewünschtes Beleuchtungssetting mit einer bestimmten Polarisationsverteilung eine hohe Strahlhomogenisierung erreicht werden.
  • Die erfindungsgemäße Lösung ermöglicht somit im Ergebnis die Erzielung einer vergleichsweise dichten Polarisationsverteilung über dem Strahlprofil, wobei insbesondere zwischen jeweils benachbarten Spiegeleinheiten unterschiedliche Polarisationszustände eingestellt werden können. Es kann somit mit relativ hoher Ortsauflösung die Polarisationsverteilung über das gesamte Strahlprofil eingestellt werden.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist das doppelbrechende Element derart an die Spiegelanordnung angepasst, dass ein durch Aufspaltung eines Lichtstrahls erzeugter ordentlicher Strahl und ein durch Aufspaltung des gleichen Lichtstrahls erzeugter außerordentlicher Strahl mittels der Spiegelanordnung in unterschiedliche Richtungen ablenkbar sind.
  • Gemäß einer Ausführungsform sind zumindest einige Spiegeleinheiten der Spiegelanordnung aus einem inneren Spiegelelement und einem umliegenden äußeren Spiegelelement zusammengesetzt. Dabei sind vorzugsweise wenigstens ein Spiegelelement und das zur gleichen Spiegeleinheit wie dieses innere Spiegelelement gehörende äußere Spiegelelement unabhängig voneinander verstellbar. Auf diese Weise können zur Erzeugung eines gewünschten Beleuchtungssettings die betreffenden einzelnen Spiegeleinheiten hinsichtlich der Relativeinstellung von innerem Spiegelelement und äußerem Spiegelelement unterschiedlich eingestellt werden. Dabei kann insbesondere das doppelbrechende Element derart an die Spiegelanordnung angepasst sein, dass ein durch Aufspaltung eines Lichtstrahls erzeugter ordentlicher Strahl und ein durch Aufspaltung des gleichen Lichtstrahls erzeugter außerordentlicher Strahl auf unterschiedliche Spiegeleinheiten oder unterschiedliche Spiegelelemente auftreffen. Des Weiteren kann das doppelbrechende Element derart an die Spiegelanordnung angepasst sein, dass ein durch Aufspaltung eines Lichtstrahls erzeugter ordentlicher Strahl und ein durch Aufspaltung des gleichen Lichtstrahls erzeugter außerordentlicher Strahl auf einander benachbarte Spiegeleinheiten oder auf Spiegelelemente der gleichen Spiegeleinheit auftreffen.
  • Gemäß einer Ausführungsform weist die Spiegelanordnung erste Spiegeleinheiten und zweite Spiegeleinheiten auf, wobei die ersten Spiegeleinheiten für eine erste Polarisationsrichtung optimiert sind und die zweiten Spiegeleinheiten für eine zweite, zur ersten Polarisationsrichtung senkrechte Polarisationsrichtung optimiert sind. Hierzu können die ersten Spiegeleinheiten und die zweiten Spiegeleinheiten insbesondere voneinander verschiedene Beschichtungen aufweisen.
  • Gemäß einer Ausführungsform weist die Beleuchtungseinrichtung ferner eine Mikrolinsenanordnung mit einer Vielzahl von Mikrolinsen auf, wobei das doppelbrechende Element zwischen dieser Mikrolinsenanordnung und der Spiegelanordnung angeordnet ist.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist in Lichtausbreitungsrichtung vor dem doppelbrechenden Element ein Rotatorelement zur Drehung des Polarisationszustandes (insbesondere eine Lambda/2-Platte) angeordnet. Des Weiteren ist die Lambda/2-Platte vorzugsweise um die optische Achse der Beleuchtungseinrichtung drehbar angeordnet. Durch Rotation der Lambda/2-Platte kann die Polarisationsrichtung vor dem doppelbrechenden Element und damit das Intensitätsverhältnis der erfindungsgemäß durch das doppelbrechende Element erzeugten Teilstrahlen (d. h. von ordentlichem und außerordentlichem Teilstrahl) geeignet eingestellt werden.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist das doppelbrechende Element aus einem optisch einachsigen Kristallmaterial, insbesondere Magnesium-Fluorid (MgF2), hergestellt. Vorzugsweise handelt es sich ferner bei dem Material, aus welchem das doppelbrechende Element hergestellt ist, um ein nicht optisch aktives Material.
  • Gemäß einer Ausführungsform weist das doppelbrechende Element eine optische Kristallachse auf, welche nicht parallel zur optischen Achse der Beleuchtungseinrichtung orientiert ist. Insbesondere weisen die Orientierungen der optischen Kristallachse des optisch einachsigen Kristallmaterials und der optischen Achse der Beleuchtungseinrichtung vorzugsweise um wenigstens ±3° voneinander ab.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist in Lichtausbreitungsrichtung nach dem doppelbrechenden Element ein Rotatorelement zur Drehung des Polarisationszustandes (insbesondere eine Lambda/2-Platte) angeordnet. Mittels dieser Lambda/2-Platte kann die Einstellung einer gewünschten Orientierung der zueinander senkrechten Polarisationsrichtungen von mittels des doppelbrechenden Elementes erzeugtem ordentlichem und außerordentlichem Strahl erfolgen.
  • Gemäß einer Ausführungsform weist die Beleuchtungseinrichtung eine Anordnung von wenigstens zwei jeweils unterschiedlichen Bereichen der Spiegelanordnung zugeordneten Kanälen auf, wobei für diese Kanäle der Polarisationszustand des von dem jeweiligen Kanal ausgehenden und auf die Spiegelanordnung auftreffenden Lichtes voneinander unabhängig einstellbar ist. Auf diese Weise können in den einzelnen Kanälen die jeweils eingestellten Polarisationsrichtungen unterschiedlich gewählt werden, und die Anzahl der Freiheitsgrade bzw. die Flexibilität der erfindungsgemäßen Anordnung kann weiter erhöht werden. Die Kanäle können insbesondere jeweils wenigstens eine Lambda/2-Platte aufweisen, wobei Lambda/2-Platten unterschiedlicher Kanäle unabhängig voneinander einstellbar sind. Vorzugsweise ist wenigstens eine dieser Lambda/2-Platten um die optische Achse der Beleuchtungseinrichtung drehbar angeordnet.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist zwischen dem doppelbrechenden Element und der Spiegelanordnung eine Lambda/4-Platte angeordnet. Vorzugsweise ist die Lambda/4-Platte um eine optische Achse der Beleuchtungseinrichtung drehbar angeordnet. Auf diese Weise kann an benachbarten Spiegeleinheiten bzw. inneren Spiegelelementen, insbesondere Kreisspiegeln, links- und rechtszirkular polarisiertes Licht, oder auch beliebig elliptisch polarisiertes Licht, erzeugt werden, wobei etwa eine anderenorts in der Beleuchtungseinrichtung entstehende Elliptizität des Polarisationszustandes ohne Lichtverlust vorgehalten bzw. nachkompensiert werden kann.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann das doppelbrechende Element eine planparallele Geometrie aufweisen. Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann das doppelbrechende Element auch als ein Prisma ausgestaltet sein.
  • Gemäß einer Ausführungsform weist die Beleuchtungseinrichtung einen Polarisator zur Auffrischung des Polarisationszustandes auf. Mittels eines solchen Polarisators kann vor der erfindungsgemäßen Anordnung ein wohldefinierter Polarisationszustand unter Auskopplung von Lichtanteilen mit unerwünschtem Polarisationszustand eingestellt werden, wobei z. B. in der Strahlzuführungseinheit auftretende Effekte, die zu einer nicht perfekten Polarisation des Laserlichtes führen, berücksichtigt werden können.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die Erfindung eine Spiegelanordnung, insbesondere zur Verwendung in einer Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit
    • – einer Vielzahl von Spiegeleinheiten, wobei diese Spiegeleinheiten zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind,
    • – wobei zumindest einige Spiegeleinheiten der Spiegelanordnung aus einem inneren Spiegelelement und einem umliegenden äußeren Spiegelelement zusammengesetzt sind.
  • Die Erfindung betrifft ferner eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, ein Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente sowie ein mikrostrukturiertes Bauelement.
  • Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.
  • Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.
  • Es zeigen:
  • 1 eine schematische Darstellung zur Erläuterung des allgemeinen Konzeptes der vorliegenden Erfindung;
  • 2a–b schematische, vergrößerte Ansichten zur Erläuterung der Wirkung eines in der erfindungsgemäßen Anordnung von 1 vorgesehenen doppelbrechenden Elementes;
  • 3a eine schematische Darstellung zur Erläuterung einer erfindungsgemäßen Anordnung in einer ersten Ausführungsform;
  • 3b eine vergrößerte Darstellung einer in der Anordnung von 3a vorgesehenen Spiegeleinheit;
  • 4 eine schematische Darstellung einer Spiegelanordnung zur Auffächerung bzw. Rasterung des Laserstrahls gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;
  • 5–12 weitere Ausführungsformen der Erfindung in schematischer Darstellung; und
  • 13 eine schematische Darstellung eines Ausschnitts aus einer Beleuchtungseinrichtung mit einer Spiegelanordnung gemäß dem Stand der Technik.
  • 1 zeigt in schematischer Darstellung eine Anordnung zur Erläuterung des allgemeinen Konzepts der vorliegenden Erfindung. Dabei durchläuft ein linear polarisierter Laserstrahl 105 nacheinander eine Polarisationsmanipulatoreinheit 110, eine Mikrolinsenanordnung 120 sowie ein doppelbrechendes Element 130. In Lichtausbreitungsrichtung nach dem doppelbrechenden Element 130 befindet sich eine Spiegelanordnung 140 aus einer Mehrzahl von schräg zur Lichtausbreitungsrichtung paarweise benachbart zueinander angeordneten Spiegeleinheiten 141, 142, 143, ...
  • Die Polarisationsmanipulatoreinheit 110 dient zur Einstellung einer gewünschten (globalen) Polarisationsrichtung und kann z. B. als Lambda/2-Platte ausgebildet sein, welche aus einem geeigneten doppelbrechenden Material, z. B. Magnesium-Fluorid (MgF2), hergestellt sein kann.
  • Die Mikrolinsenanordnung 120 dient dazu, eine gezielte Fokussierung auf die Spiegelelemente 141, 142, 143, ... der Spiegeleinheit 140 zu erreichen und eine Ausleuchtung von „toter Fläche” zu verringern oder zu vermeiden. Darüber hinaus kann die Mikrolinsenanordnung 120 auch eine Homogenisierung des Laserstrahls 105 bewirken, so dass auch bei geringerer Anzahl von Spiegelelementen 141, 142, 143, ... störende Einflüsse eines gegebenenfalls inhomogenen Laserstrahlprofils verringert werden können.
  • Das doppelbrechende Element 130 ist vorzugsweise aus einem optisch einachsigen, nicht optisch aktiven Kristallmaterial hergestellt. Geeignet ist beispielsweise Magnesium-Fluorid (MgF2). Weitere, in Frage kommende optisch einachsige Kristallmaterialien sind z. B. Saphir (Al2O3) oder Lanthan-Fluorid (LaF3). Dabei verläuft gemäß 2a die Richtung der optischen Kristallachse ca unter einem Winkel von im Wesentlichen 45° (z. B. 45° ± 3°) zur Einfallsrichtung des Laserstrahls 105. Gemäß weiterer Ausführungsformen können auch andere Winkel zwischen der optischen Kristallachse ca und der Einfallsrichtung des Laserstrahls 105 eingestellt werden. Die gewünschte räumliche Trennung zwischen ordentlichem und außerordentlichem Strahl ist maximal für die gezeigte Orientierung mit einem Winkel von 45°, wobei jedoch auch sämtliche Winkel zwischen 0° und 90° möglich sind. In der Anordnung von 2a verschwindet diese räumliche Trennung, falls die optische Kristallachse entweder senkrecht oder parallel zur Einfallsrichtung des Laserstrahls 105 bzw. parallel oder senkrecht zur Eintrittsfläche des doppelbrechenden Elementes 130 verläuft.
  • Wie am besten aus den vergrößerten Darstellungen von 2a und 2b ersichtlich, ergibt sich für einen Teilstrahl des Laserstrahls 105 nach dem doppelbrechenden Element 130 eine Aufspaltung in zwei zueinander senkrecht polarisierte Teilstrahlen 135a und 135b, wobei in 2a der Teilstrahl 135a in x-Richtung und der Teilstrahl 135b in der hierzu senkrechten y-Richtung polarisiert ist.
  • Wie am besten aus 2b ersichtlich ist, lassen sich bei Rotieren des doppelbrechenden Elementes 130 unterschiedliche Paare von zueinander senkrechten Polarisationsrichtungen einstellen. Während der ordentliche Teilstrahl 135a bei Rotieren des doppelbrechenden Elementes 130 raumfest bleibt und lediglich in seiner Polarisationsrichtung gedreht wird, wandert der außerordentliche Teilstrahl 135b bei Rotieren des doppelbrechenden Elementes 130 auf einer um den ordentlichen Teilstrahl 135a verlaufenden Kreisbahn, wobei die Polarisationsrichtung des außerordentlichen Teilstrahls 135b immer senkrecht zu derjenigen des ordentlichen Teilstrahls 135a, d. h. tangential zu besagter Kreisbahn, verläuft.
  • Die Dicke des doppelbrechenden Elementes 130 ist vorzugsweise derart an die Periodizität der Spiegelanordnung 140 angepasst, dass ein durch Aufspaltung eines Laserstrahls erzeugter ordentlicher Strahl und ein durch Aufspaltung des gleichen Laserstrahls erzeugter außerordentlicher Strahl mittels der Spiegelanordnung 140 in unterschiedliche Richtungen ablenkbar sind. Dabei gilt vorzugsweise die Beziehung: α·d = P (1) wobei α den (materialabhängigen) Aufspaltungswinkel zwischen ordentlichem und außerordentlichem Strahl, d die Dicke des doppelbrechenden Elementes 130 in Lichtausbreitungsrichtung und P die Periodenlänge der Spiegelanordnung 140 angibt.
  • Lediglich beispielhaft kann sich auf einer quadratischen Fläche von 50 · 50 mm2 eine Gesamtzahl von 4.000 Spiegeleinheiten bzw. -elementen befinden, so dass sich eine Anzahl von etwa 63 benachbarten Spiegeleinheiten mit einer Periode (hier entsprechend dem Abstand zweier benachbarter Spiegeleinheiten) von P ≈ 0.8 mm ergibt. Nimmt man bei Herstellung des doppelbrechenden Elementes 130 aus Magnesium-Fluorid (MgF2) den Aufspaltungswinkel α zwischen ordentlichem und außerordentlichem Strahl größenordnungsmäßig zu etwa l0 mrad an, so folgt aus der obigen Gleichung (1) eine Dicke d des doppelbrechenden Elementes 130 von d ≈ (0.8 mm/0.01 rad) = 80 mm. Typische Dicken d des doppelbrechenden Elementes 130 liegen also etwa im Bereich zwischen 0 und 100 mm. Dabei folgt aus Gleichung (1) allgemein, dass je stärker die Doppelbrechung des doppelbrechenden Elementes 130 ist, umso geringer die Dicke d des doppelbrechenden Elementes 130 gewählt wird.
  • Im Weiteren wird eine bevorzugte Ausgestaltung der Spiegelanordnung unter Bezugnahme auf 3a und 3b erläutert.
  • 3a zeigt in schematischer Darstellung wiederum die durch ein doppelbrechendes Element 330 bewirkte Strahlaufspaltung sowie die Ausleuchtung separater Spiegeleinheiten 341, 342, 343, ... einer Spiegelanordnung 340. Dabei weist hier jede der Spiegeleinheiten 341, 342, 343, ... jeweils einen inneren Kreisspiegel 341a, 342a, 343a, ... und einen diesen umgebenden, äußeren Ringspiegel 341b, 342b, 343b, ... auf, welche unabhängig voneinander mittels Verkippung um ein gemeinsames Zentrum der jeweiligen Spiegeleinheit sowohl in x- als auch in y-Richtung verstellbar sind. Zur Erzeugung eines gewünschten Beleuchtungssettings können die einzelnen Spiegeleinheiten 341, 342, 343, ... somit hinsichtlich der Relativeinstellung von innerem Kreisspiegel 341a, 342a, 343a, ... und äußerem Ringspiegel 341b, 342b, 343b, ... sowohl in x- als auch in y-Richtung unterschiedlich eingestellt werden.
  • Allgemein kann jede der Spiegeleinheiten aus einem inneren Spiegelelement und einem umlaufenden äußeren Spiegelelement aufgebaut sein, wobei inneres Spiegelelement und/oder äußeres Spiegelelement auch von der Kreis- bzw. Ringform abweichende (z. B. rechteckige oder quadratische) Formen aufweisen können.
  • Dabei ist zu beachten, dass im Ausführungsbeispiel von 3 die Ebene des doppelbrechenden Elementes 330 und die Ebene der Spiegelanordnung 340 tatsächlich parallel zueinander (sowie parallel zur x-y-Ebene) sind und senkrecht zur in z-Richtung verlaufenden Lichtausbreitungsrichtung angeordnet sind. Die zeichnerische Darstellung des doppelbrechenden Elementes 330 im linken unteren Bereich von 3a wird hier lediglich zur besseren Veranschaulichung der Strahlaufspaltung und Ausleuchtung separater Spiegeleinheiten gewählt. Die beiden in 3a eingezeichneten, auf das doppelbrechende Element 330 auftreffenden Strahlen stammen analog zu 1 von unterschiedlichen Mikrolinsen, wobei bei der Ausführungsform von 3a jeder Spiegeleinheit 341, 342, 343, ... der Spiegelanordnung 340 eine Mikrolinse der in 3a nicht dargestellten, jedoch analog zu 1 vorgesehenen Mikrolinsenanordnung zugeordnet ist. Die Mikrolinsenanordnung und die Spiegelanordnung 340 sind so ausgerichtet, dass ohne Vorhandensein des doppelbrechenden Elementes lediglich die inneren Kreisspiegel 341a, 342a, 343a, ... der einzelnen Spiegeleinheiten 341, 342, 343, ... beleuchtet würden. Durch die strahlaufspaltende Wirkung des doppelbrechenden Elementes 330 wird die Anzahl der Teilstrahlen verdoppelt, so dass durch die zusätzlichen (außerordentlichen) Teilstrahlen eine zusätzliche Beleuchtung der äußeren Ringspiegel 341b, 342b, 343b, ... bewirkt wird.
  • Analog zu der obigen Beschreibung von 2a–b lassen sich hinsichtlich der von der Spiegelanordnung 340 reflektierten Strahlen mittels Rotieren des doppelbrechenden Elementes 330 in eine geeignete Position alle beliebigen, zueinander senkrechten Polarisationsrichtungen einstellen. Während der ordentliche Strahl bei Rotieren des doppelbrechenden Elementes 330 auf dem inneren Kreisspiegel 341a, 342a, 343a, ... verbleibt und bei Rotieren des doppelbrechenden Elementes 330 in seiner Polarisationsrichtung gedreht wird, wandert der außerordentliche Strahl bei Rotieren des doppelbrechenden Elementes 330 auf dem jeweiligen äußeren Ringspiegel 341b, 342b, 343b, ..., wobei seine Polarisationsrichtung immer senkrecht zu derjenigen des ordentlichen Strahls, also immer tangential zur Kreisbahn verläuft.
  • Gegebenenfalls kann es sowohl bei der Ausführungsform von 3 als auch in den folgenden Ausführungsbeispielen sinnvoll sein, zur Verhinderung störender Überlagerungseffekte eine feste Phasenbeziehung zwischen denjenigen Strahlen zu vermeiden, welche von der Spiegelanordnung auf jeweils den gleichen Ort in der Pupillenebene gelenkt werden. Dies kann dadurch erreicht werden, dass jeweils solche Strahlen auf den gleichen Ort in der Pupillenebene gelenkt werden, deren Polarisationszustand zwar wie zuvor beschrieben eingestellt wurde, die jedoch von unterschiedlichen Spiegeleinheiten der Spiegelanordnung ausgehen und infolge der Überschreitung der räumlichen Kohärenzbedingung des Laserlichtes inkohärent sind.
  • In 4 ist schematisch eine Spiegelanordnung 400 dargestellt, welche optional in Lichtausbreitungsrichtung vor dem doppelbrechenden Element 130 zu einer Auffächerung des Lichtstrahls eingesetzt werden kann und eine Strahlrasterung des Lasterstrahls ohne Einführung von Strahldivergenz bewirkt. Die Spiegelanordnung 400 weist eine Mehrzahl von ersten Spiegeln 411–414 und zugeordneten zweiten Spiegeln 415–418 auf, welche die von den ersten Spiegeln 411–414 um einen Winkel von 90° zur optischen Achse abgelenkten Lichtstrahlen ihrerseits in die ursprüngliche, zur optischen Achse parallele Richtung reflektieren. Die Strahlrasterung kann nur in y-Richtung, nur x-Richtung oder auch in x-Richtung und in y-Richtung vorgenommen werden, wobei jeweils ein Raster aus Teilstrahlen erzeugt wird, in welchem ohne Veränderung des Lichtleitwertes Bereiche mit Licht und Bereiche ohne Licht über das Strahlprofil erzeugt werden.
  • Unter erneuter Bezugnahme auf 2a und 2b ist das Intensitätsverhältnis der erfindungsgemäß durch das doppelbrechende Element 130 erzeugten Teilstrahlen 135a und 135b davon abhängig, welches Verhältnis der zueinander senkrechten Polarisationsanteile am Strahleintritt in das doppelbrechende Element 130 vorliegt. Diese Komponenten des Strahls vor Eintritt in das doppelbrechende Element 130 sind in 2a mit 105a bzw. 105b bezeichnet. Das Intensitätsverhältnis der beiden Teilstrahlen 135a und 135b nach dem doppelbrechenden Element 130 kann demzufolge durch ein zusätzliches, in Lichtausbreitungsrichtung vor dem doppelbrechenden Element 130 angeordnetes Rotatorelement zur Drehung des Polarisationszustandes dosiert werden. Wenn dieses Rotatorelement beispielsweise ursprünglich (d. h. vor dem Rotatorelement) linear in y-Richtung polarisiertes Licht um 45° bezüglich der Polarisationsrichtung dreht, liegen nach dem Rotatorelement und vor Eintritt in das doppelbrechende Element 130 sowohl in x-Richtung als auch in y-Richtung polarisierte Anteile gleicher Intensität vor, so dass die Intensitäten der beiden Teilstrahlen 135a und 135b nach dem doppelbrechenden Element 130 gleich groß sind.
  • In 5 ist dargestellt, wie das Intensitätsverhältnis der durch die erfindungsgemäße Anordnung bereitgestellten Lichtanteile mit zueinander senkrechter Polarisationsrichtung dosiert werden kann. Dabei zeigt 5b ein beispielhaftes Beleuchtungssetting 550, in welchem das Licht in zwei ersten, zueinander gleich großen Polen 551 die gleiche Polarisationsrichtung aufweist, wohingegen das Licht in zwei im Vergleich zu den ersten Polen 551 kleineren zweiten Polen 552 die hierzu senkrechte Polarisationsrichtung aufweist. Da die Pole 551 bzw. 552 von jeweils der gleichen Anzahl von Spiegelelementen beleuchtet werden, würde sich für den Fall, dass die zu den Polen 551 und 552 beitragenden Strahlen jeweils die gleiche Intensität aufweisen, für die zweiten Pole 552 eine höhere Intensität als für die ersten Pole 551 ergeben. Um dies zu verhindern und eine gleiche Ausleuchtung der ersten Pole 551 und der zweiten Pole 552 herzustellen, kann die Energie des Lichtes in der jeweiligen Polarisationsrichtung gemäß 5a mit einem zusätzlichen Element 525 dosiert werden, mit welchem die Lichtanteile bereits vor dem doppelbrechenden Element 530 hinsichtlich ihrer Intensität gemäß den später auszuleuchtenden Flächen der Pole 551, 552 eingestellt werden. Das Element 525 kann insbesondere als Lambda/2-Platte (z. B. aus Magnesium-Fluorid, MgF2) ausgebildet sein. Durch Rotation dieser Lambda/2-Platte kann die Polarisationsrichtung vor dem doppelbrechenden Element 530 geeignet eingestellt werden. Das Element 525 kann gemäß einer weiteren Ausführung auch aus kristallinem Quarz (SiO2) ausgebildet sein, da die Lambda/2-Platte infolge Ausrichtung der optischen Kristallachse senkrecht zur Lichtausbreitungsrichtung bzw. zur optischen Systemachse derart orientiert ist, dass die bei kristallinem Quarz grundsätzlich vorhandene optische Aktivität keinen störenden Einfluss hat.
  • Insbesondere kann mittels des Elementes 525 zwecks homogener Ausleuchtung unterschiedlich großer Pole in der Pupillenebene das Verhältnis der Intensitäten auf jeweils einem Paar aus innerem Kreisspiegel und äußerem Ringspiegel mit zueinander senkrechten Polarisationsrichtungen so eingestellt werden, dass es dem Verhältnis der Flächen der unterschiedlich großen Pole entspricht. In 5a ist die Verwirklichung dieses Prinzips schematisch dadurch veranschaulicht, dass die von dem doppelbrechenden Element 530 austretenden außerordentlichen Strahlen, welche zur Erzeugung der kleineren Pole 552 gemäß 5b dienen und somit für eine homogene Ausleuchtung der Pole 551, 552 eine geringere Intensität als die ordentlichen Strahlen aufweisen sollen, mit einem Lochmuster dargestellt sind.
  • Des Weiteren kann in einem Extremfall die Einstellung auch so erfolgen, dass nur der ordentliche oder auch nur der außerordentliche Strahl durch das Element 525 erzeugt wird. In 6a ist der Spezialfall dargestellt, bei dem nur der ordentliche Strahl durch das doppelbrechende Element 530 erzeugt wird, also nur die inneren Kreisspiegel 541a, 542a, 543a, ... der Spiegelanordnung 540 beleuchtet werden, so dass das in 6b dargestellte Beleuchtungssetting erzeugt wird.
  • Um in Abwandlung des Ausführungsbeispiels von 6a nicht nur die inneren Kreisspiegel 541a, 542a, 543a, ... der Spiegelanordnung 540 zu beleuchten und damit die äußeren Ringspiegel 541b, 542b, 543b, ... der Spiegelanordnung 540 ungenutzt zu lassen, kann z. B. in Lichtausbreitungsrichtung nach dem doppelbrechenden Element 530 auch ein zusätzliches, eine Strahlauffächerung bewirkendes Element (nicht dargestellt) angeordnet werden, welches polarisationserhaltend ist und beispielsweise eine Anordnung aus Strahlteilern umfassen kann, die dafür sorgt, dass für jede Spiegeleinheit der innere Kreisspiegel und der äußere Ringspiegel jeweils mit Licht des gleichen Polarisationszustandes beleuchtet werden. Geeignet hierzu ist z. B. eine Spiegelanordnung, welche bei Polarisationserhaltung die Anzahl von Strahlen verdoppelt und aus in 6c schematisch dargestellten Paaren von jeweils unter 45° zur Lichtausbreitungsrichtung angeordneten, halbdurchlässigen ersten Spiegeln 661 und zugeordneten, im Wesentlichen vollständig reflektierenden zweiten Spiegeln 662 besteht, wobei die zweiten Spiegel 662 die an den ersten Spiegeln 661 reflektierten und um einen Winkel von 90° zur optischen Achse abgelenkten Lichtstrahlen wieder in die ursprüngliche, zur optischen Achse parallele Richtung reflektieren.
  • Gemäß 7a und 7b kann mittels geeigneter Einstellung des Elementes 525 auch die Intensitäten von ordentlichem und außerordentlichem Strahl gleich groß eingestellt werden und außerdem durch die inneren Kreisspiegel 541a, 542a, 543a, ... und die äußeren Ringspiegel 541b, 542b, 543b, ... der Spiegelanordnung 540 ein identischer Bereich 701 in der Pupillenebene beleuchtet werden, um durch inkohärente Überlagerung von zueinander orthogonalen Polarisationszuständen ein Beleuchtungssetting 700 mit unpolarisiertem Licht in dem Bereich 701 der Pupillenebene zu erzeugen.
  • Des Weiteren können durch entsprechende Dosierung der Polarisationsrichtungen auch Beleuchtungssettings mit Bereichen von höherem Polarisationsgrad und Bereichen von niedrigerem Polarisationsgrad eingestellt werden. Ein Beispiel hierfür ist in 8 in Form eines Beleuchtungssettings gezeigt, bei welchem im mittleren Bereich 801 der Pupillenebene unpolarisiertes Licht und in äußeren Bereichen 802, 803, 804 und 805 der Pupillenebene eine sogenannte xy-Polarisation (auch quasi-tangentiale Polarisationsverteilung) eingestellt ist.
  • Bei einem weiteren, in 9 dargestellten Ausführungsbeispiel bleibt die Stellung eines doppelbrechenden Elements 930 fest (das doppelbrechende Element 930 wird hier also bei Variation der Orientierung der zueinander senkrechten Polarisationsrichtungen nicht rotiert), wobei in Lichtausbreitungsrichtung nach dem doppelbrechenden Element 930 eine rotierbare Lambda/2-Platte 935 angeordnet ist. Während die in Lichtausbreitungsrichtung vor dem doppelbrechenden Element 930 angeordnete erste Lambda/2-Platte 925 wie vorstehend beschrieben die gewünschte Energiedosierung für die Teilstrahlen bewirkt, sorgt die weitere Lambda/2-Platte 935 für die Einstellung einer gewünschten Orientierung der zueinander senkrechten Polarisationsrichtungen von mittels des doppelbrechenden Elementes 930 erzeugtem ordentlichem und außerordentlichem Strahl. Da bei dieser Ausführung sowohl der ordentliche als auch der außerordentliche Strahl jeweils am gleichen Ort bleiben, wird als Spiegelanordnung 940 eine Anordnung aus einfachen Kreisspiegeln 941, 942, 943, ... anstelle der vorstehend beschriebenen Anordnung von aus innerem Kreisspiegel und äußerem Ringspiegel zusammengesetzten Spiegeleinheiten gewählt. Bei dieser wie bei den vorstehend beschriebenen Ausführungsformen können auch erste Spiegeleinheiten für eine erste Polarisationsrichtung optimiert sein und zweite Spiegeleinheiten können für eine zweite, zur ersten Polarisationsrichtung senkrechte Polarisationsrichtung optimiert sein. Hierzu können die ersten Spiegeleinheiten und die zweiten Spiegeleinheiten insbesondere voneinander verschiedene Beschichtungen aufweisen. Die Anordnung kann dann so gewählt werden, dass z. B. die ersten Spiegeleinheiten jeweils die ordentlichen Strahlen reflektieren und die zweiten Spiegeleinheiten jeweils die außerordentlichen Strahlen reflektieren.
  • Gemäß einer weiteren, unter Bezugnahme auf 10 erläuterten Ausführungsform kann auch eine z. B. matrixförmige Anordnung von Kanälen 950 vorgesehen sein, wobei jeder Kanal 950 jeweils analog zu dem anhand von 9 beschriebenen Aufbau in Lichtausbreitungsrichtung nacheinander, und vor der Spiegelanordnung 940, eine Lambda/2-Platte 925, ein doppelbrechendes Element 930 und eine Lambda/2-Platte 935 aufweist. Selbstverständlich kann für einige oder sämtliche der Kanäle 950 auch ein und dasselbe doppelbrechende Element 930 genutzt werden. In den einzelnen Kanälen 950 können die Einstellungen der Lambda/2-Platten 925 und 935 voneinander unabhängig variiert und somit die jeweils eingestellten Polarisationsrichtungen unterschiedlich gewählt werden. Beispielsweise kann von zwei benachbarten Kanälen der eine Kanal 950 gemäß 9 und der andere Kanal gemäß 10 eingestellt werden. Auf diese Weise kann die Anzahl der Freiheitsgrade bzw. die Flexibilität der erfindungsgemäßen Anordnung weiter erhöht werden. So kann beispielsweise unter Verwendung einer Anordnung aus 8 Kanälen mit analog zu 9 und 10 unterschiedlich eingestellten Polarisationsrichtungen eine quasi-tangentiale Polarisationsverteilung in der Pupillenebene eingestellt werden.
  • Gemäß einer weiteren, in 11 dargestellten Ausführungsform kann in Abwandlung von 10 zwischen der Lambda/2-Platte 935 und der Spiegelanordnung 940 eine rotierbare Lambda/4-Platte 936 angeordnet werden. Auf diese Weise kann an benachbarten Kreisspiegeln 941, 942, 943, ... links- und rechtszirkular polarisiertes Licht, oder auch beliebig elliptisch polarisiertes Licht, erzeugt werden. Insbesondere kann eine anderenorts im System (beispielsweise stromaufwärts der Spiegelanordnung 940 in der Strahlzuführungseinheit, oder auch stromabwärts der Spiegelanordnung 940) entstehende Elliptizität des Polarisationszustandes ohne Lichtverlust vorgehalten bzw. nachkompensiert werden.
  • Gemäß einer weiteren Ausgestaltung kann bei sämtlichen zuvor beschriebenen Ausführungsformen ein zusätzlicher Polarisator zur Auffrischung des Polarisationszustandes, insbesondere stromaufwärts der Spiegelanordnung nach der Strahlzuführungseinheit, vorgesehen sein. Mittels eines solchen Polarisators, dessen Durchlassrichtung z. B. mit der Polarisationsvorzugsrichtung des durch die Lichtquelle erzeugten Laserlichtes übereinstimmen kann und welcher lediglich schematisch in 11 eingezeichnet und mit „915” bezeichnet ist, kann ein wohldefinierter Polarisationszustand unter Auskopplung von Lichtanteilen mit unerwünschtem Polarisationszustand eingestellt werden, und es können z. B. in der Strahlzuführungseinheit auftretende Effekte, die zu einer nicht perfekten Polarisation des Laserlichtes führen, berücksichtigt werden.
  • Die Erfindung ist nicht auf die Ausgestaltung des die Strahlaufspaltung in ordentlichen und außerordentlichen Strahl bewirkenden doppelbrechenden Elementes als planparallele Platte beschränkt. Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann das doppelbrechende Element auch die Form eines Prismas aufweisen, wie im Weiteren unter Bezugnahme auf 12a und 12b beschrieben wird.
  • Gemäß 12a weist ein doppelbrechendes Element 50 die Form eines rechtwinklingen Prismas auf und besteht aus einem optisch einachsigen Kristallmaterial (z. B. Magnesium-Fluorid, MgF2), wobei die Lichteintrittsfläche des Prismas ebenso wie die Richtung der schematisch eingezeichneten und mit „ca” bezeichneten optischen Kristallachse senkrecht zur Lichtausbreitungsrichtung des einfallenden Lichtes orientiert sind. Anstelle von Magnesium-Fluorid (MgF2) kann das Prisma auch aus einem anderen geeigneten optisch einachsigen Kristallmaterial, z. B. Saphir (Al2O3) oder Lanthan-Fluorid (LaF3), hergestellt sein.
  • Nach Totalreflexion in dem Prisma erfolgt gemäß 12a analog zu den zuvor beschriebenen Ausführungsbeispielen für die einzelnen, das Prisma durchlaufenden Teilstrahlen jeweils eine Aufspaltung in einen ordentlichen und einen außerordentlichen Strahl. Im Unterschied zu den vorherigen Ausführungsbeispielen treten jedoch gemäß 12a der ordentliche und der außerordentliche Strahl jeweils nicht parallel, sondern unter einem Winkel zueinander (welcher typischerweise in der Größenordnung von etwa 10 mrad liegt) aus dem Prisma aus, so dass jeweils der räumliche Abstand zwischen ordentlichem und außerordentlichem Strahl mit zunehmendem Abstand vom Prisma zunimmt. Die Abmessungen des gemäß 12a eingesetzten Prismas ist je nach den konkreten Gegebenheiten geeignet zu wählen, wobei lediglich beispielhaft die Abmessungen der Lichteintrittsfläche des Prismas größenordnungsmäßig im Bereich von (20 · 20) mm2 bis (40 · 40) mm2 liegen können.
  • 12b zeigt in Lichtausbreitungsrichtung nach dem doppelbrechenden Element 50 eine Spiegelanordnung 60, wobei wiederum schematisch der Verlauf von ordentlichen und außerordentlichen Strahlen angedeutet ist. Infolge der Zunahme des räumlichen Abstandes jeweils zwischen ordentlichem und außerordentlichem Strahl mit zunehmendem Abstand vom doppelbrechenden Element 50 kann nun die Anpassung an die Periode der Spiegelanordnung 60 durch geeignete Wahl des Abstandes zwischen doppelbrechendem Element 50 und Spiegelanordnung 60 erfolgen.
  • Wie in 12a und 12b erkennbar ist, besteht eine weitere, durch die prismenförmige Ausgestaltung des doppelbrechenden Elementes 50 erzielte Wirkung darin, dass das Licht infolge der stattfindenden Totalreflexion (um beispielsweise einen Winkel von etwa 90°) umgelenkt bzw. eine entsprechende Faltung der optischen Achse der Beleuchtungseinrichtung erreicht wird.
  • Das prismenförmige doppelbrechende Element 50 von 12a und 12b kann in dem Aufbau von 9, 10 oder 11 anstelle des doppelbrechenden Elementes 930 eingesetzt werden, wobei jeweils die dort vorgesehene Lambda/2-Platte 935, wie im Zusammenhang mit 9–11 bereits beschrieben wurde, für die Einstellung einer gewünschten Orientierung der zueinander senkrechten Polarisationsrichtungen der mittels des doppelbrechenden Elementes 50 erzeugten ordentlichen und außerordentlichen Strahlen sorgt.
  • Die in 12a und 12b dargestellte Variante der Erfindung ist nicht auf die Ausgestaltung des doppelbrechenden Elementes 50 in Form eines rechtwinkligen Prismas beschränkt, so dass auch nicht rechtwinklige Prismenformen bzw. von der rechtwinkligen Form abweichende Keilformen für die Ausgestaltungen des doppelbrechenden Elementes 50 gewählt werden können.
  • Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alternative Ausführungsformen, z. B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungsformen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente beschränkt ist.

Claims (32)

  1. Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit • einer Spiegelanordnung (60, 140, 340, 540, 940), welche eine Vielzahl von Spiegeleinheiten (141, 142, 143, 341, 342, 343, 541, 542, 543) aufweist, wobei diese Spiegeleinheiten zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung (60, 140, 340, 540, 940) reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind; und • wenigstens einem in Lichtausbreitungsrichtung vor der Spiegelanordnung (140, 340, 540, 940) angeordneten doppelbrechenden Element (50, 130, 330, 530, 930).
  2. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das doppelbrechende Element (50, 130, 330, 530, 930) wenigstens für einen auf das doppelbrechende Element auftreffenden Lichtstrahl eine Aufspaltung in einen ordentlichen und einen außerordentlichen Strahl bewirkt, wobei der ordentliche und der außerordentliche Strahl zueinander senkrechte Polarisationsrichtungen aufweisen.
  3. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der ordentliche und der außerordentliche Strahl voneinander räumlich getrennt sind.
  4. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass das doppelbrechende Element (50, 130, 330, 530, 930) derart an die Spiegelanordnung (60, 140, 340, 540, 940) angepasst ist, dass ein durch Aufspaltung eines Lichtstrahls erzeugter ordentlicher Strahl und ein durch Aufspaltung des gleichen Lichtstrahls erzeugter außerordentlicher Strahl mittels der Spiegelanordnung (140, 340, 540, 940) in unterschiedliche Richtungen ablenkbar sind.
  5. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest einige Spiegeleinheiten (341, 342, 343, 541, 542, 543) der Spiegelanordnung (140, 340, 540, 940) aus einem inneren Spiegelelement und einem umliegenden äußeren Spiegelelement zusammengesetzt sind.
  6. Beleuchtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass ein durch Aufspaltung eines Lichtstrahls erzeugter ordentlicher Strahl und ein durch Aufspaltung des gleichen Lichtstrahls erzeugter außerordentlicher Strahl auf unterschiedliche Spiegeleinheiten oder unterschiedliche Spiegelelemente auftreffen.
  7. Beleuchtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein durch Aufspaltung eines Lichtstrahls erzeugter ordentlicher Strahl und ein durch Aufspaltung des gleichen Lichtstrahls erzeugter außerordentlicher Strahl auf einander benachbarte Spiegeleinheiten oder auf Spiegelelemente der gleichen Spiegeleinheit auftreffen.
  8. Beleuchtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens ein inneres Spiegelelement ein Kreisspiegel (341a, 342a, 343a, 541a, 542a, 543a) ist.
  9. Beleuchtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens ein äußeres Spiegelelement ein Ringspiegel (341b, 342b, 343b, 541b, 542b, 543b) ist.
  10. Beleuchtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens ein inneres Spiegelelement und das zur gleichen Spiegeleinheit wie dieses innere Spiegelelement gehörende äußere Spiegelelement unabhängig voneinander verstellbar sind.
  11. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelanordnung (60, 140, 340, 540, 940) erste Spiegeleinheiten und zweite Spiegeleinheiten aufweist, wobei die ersten Spiegeleinheiten für eine erste Polarisationsrichtung optimiert sind und wobei die zweiten Spiegeleinheiten für eine zweite, zur ersten Polarisationsrichtung senkrechte Polarisationsrichtung optimiert sind.
  12. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass diese ferner eine Mikrolinsenanordnung (120) mit einer Vielzahl von Mikrolinsen aufweist, wobei das doppelbrechende Element (130) zwischen dieser Mikrolinsenanordnung (120) und der Spiegelanordnung (140) angeordnet ist.
  13. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in Lichtausbreitungsrichtung vor dem doppelbrechenden Element (530, 930) ein Rotatorelement (525, 925) zur Drehung des Polarisationszustandes angeordnet ist.
  14. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass dieses Rotatorelement (525) eine Lambda/2-Platte aufweist.
  15. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Beleuchtungseinrichtung eine optische Achse (OA) aufweist, wobei die Lambda/2-Platte um diese optische Achse (OA) drehbar angeordnet ist.
  16. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das doppelbrechende Element (50, 130, 330, 530, 930) aus einem optisch einachsigen Kristallmaterial hergestellt ist.
  17. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Beleuchtungseinrichtung eine optische Achse (OA) aufweist und das doppelbrechende Element (50, 130, 330, 530, 930) eine optische Kristallachse (ca) aufweist, welche nicht parallel zu dieser optischen Achse (OA) orientiert ist.
  18. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in Lichtausbreitungsrichtung nach dem doppelbrechenden Element (50, 930) ein Rotatorelement (935) zur Drehung des Polarisationszustandes angeordnet ist.
  19. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass dieses Rotatorelement (935) eine Lambda/2-Platte aufweist.
  20. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass diese eine Anordnung von wenigstens zwei jeweils unterschiedlichen Bereichen der Spiegelanordnung (940) zugeordneten Kanälen (950) aufweist, wobei für diese Kanäle der Polarisationszustand des von dem jeweiligen Kanal (950) ausgehenden und auf die Spiegelanordnung (940) auftreffenden Lichtes voneinander unabhängig einstellbar ist.
  21. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass diese Kanäle (950) jeweils wenigstens eine Lambda/2-Platte (925, 935) aufweisen, wobei Lambda/2-Platten (925, 935) unterschiedlicher Kanäle (950) unabhängig voneinander einstellbar sind.
  22. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass die Beleuchtungseinrichtung eine optische Achse (OA) aufweist, wobei wenigstens eine dieser Lambda/2-Platten (925, 935) um die optische Achse (OA) drehbar angeordnet ist.
  23. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem doppelbrechenden Element (50, 130, 330, 530, 930) und der Spiegelanordnung (60, 140, 340, 540, 940) eine Lambda/4-Platte angeordnet ist.
  24. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Beleuchtungseinrichtung eine optische Achse (OA) aufweist, wobei die Lambda/4-Platte um diese optische Achse (OA) drehbar angeordnet ist.
  25. Beleuchtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass das doppelbrechende Element (130, 330, 530, 930) eine planparallele Geometrie aufweist.
  26. Beleuchtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass das doppelbrechende Element (50) ein Prisma ist.
  27. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass diese einen Polarisator (915) zur Auffrischung des Polarisationszustandes aufweist.
  28. Spiegelanordnung zur Verwendung in einer Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche mit • einer Vielzahl von Spiegeleinheiten (141, 142, 143, 341, 342, 343, 541, 542, 543), wobei diese Spiegeleinheiten zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung (140, 340, 540, 940) reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind, • wobei zumindest einige Spiegeleinheiten (341, 342, 343, 541, 542, 543) der Spiegelanordnung (140, 340, 540, 940) aus einem inneren Spiegelelement und einem umliegenden äußeren Spiegelelement zusammengesetzt sind.
  29. Spiegelanordnung nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass das innere Spiegelelement ein Kreisspiegel (341a, 342a, 343a, 541a, 542a, 543a) ist.
  30. Spiegelanordnung nach Anspruch 28 oder 29, dadurch gekennzeichnet, dass das äußere Spiegelelement ein Ringspiegel (341b, 342b, 343b, 541b, 542b, 543b) ist.
  31. Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage mit einer Beleuchtungseinrichtung und einem Projektionsobjektiv, dadurch gekennzeichnet, dass die Beleuchtungseinrichtung nach einem Ansprüche 1 bis 27 ausgebildet ist.
  32. Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente mit folgenden Schritten: • Bereitstellen eines Substrats, auf das zumindest teilweise eine Schicht aus einem lichtempfindlichen Material aufgebracht ist; • Bereitstellen einer Maske, die abzubildende Strukturen aufweist; • Bereitstellen einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 31; und • Projizieren wenigstens eines Teils der Maske auf einen Bereich der Schicht mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage.
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