DE102012206148A1

DE102012206148A1 - Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zur Justage eines optischen Systems

Info

Publication number: DE102012206148A1
Application number: DE102012206148A
Authority: DE
Inventors: Ingo Sänger; Michael Patra; Christoph Hennerkes; Bastian Trauter
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2012-04-16
Filing date: 2012-04-16
Publication date: 2013-10-17
Also published as: WO2013156251A1

Abstract

Die Erfindung betrifft ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein Verfahren zur Justage eines optischen Systems. Ein optisches System weist eine Spiegelanordnung (120, 200, 400, 500, 800, 900) mit einer Mehrzahl von Spiegelelementen (120a, 120b, 120c, ...), die zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind, eine polarisationsbeeinflussende optische Anordnung (110), welche wenigstens eine polarisationsbeeinflussende Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511) aufweist, wobei durch Verschieben dieser polarisationsbeeinflussenden Komponente ein Überlappungsgrad zwischen der polarisationsbeeinflussenden Komponente und der Spiegelanordnung variabel einstellbar ist, und einen lichtauskoppelnden Bereich (630, 730, 830, 930) auf, welcher zur Berücksichtigung einer möglichen Fehlpositionierung der polarisationsbeeinflussenden Komponente Licht derart aus dem Strahlengang des optischen Systems auskoppelt, dass im Betrieb des optischen Systems von einem Teilbereich der Spiegelanordnung kein Licht in eine Pupillenebene der Projektionsbelichtungsanlage gelangt.

Description

Die Erfindung betrifft ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein Verfahren zur Justage eines optischen Systems.
Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD’s, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske(= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z.B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
Im Betrieb einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage besteht der Bedarf, definierte Beleuchtungssettings, d.h. Intensitätsverteilungen in einer Pupillenebene der Beleuchtungseinrichtung, gezielt einzustellen. Hierzu ist außer der Verwendung diffraktiver optischer Elemente (sogenannter DOE’s) auch der Einsatz von Spiegelanordnungen, z.B. aus WO 2005/026843 A2 , bekannt. Solche Spiegelanordnungen umfassen eine Vielzahl unabhängig voneinander einstellbarer Mikrospiegel.
Es sind ferner verschiedene Ansätze bekannt, in der Beleuchtungseinrichtung zur Optimierung des Abbildungskontrastes gezielt bestimmte Polarisationsverteilungen in der Pupillenebene und/oder im Retikel einzustellen. Insbesondere ist es sowohl in der Beleuchtungseinrichtung als auch im Projektionsobjektiv bekannt, für eine kontrastreiche Abbildung eine tangentiale Polarisationsverteilung einzustellen. Unter „tangentialer Polarisation“ (oder „TE-Polarisation“) wird eine Polarisationsverteilung verstanden, bei der die Schwingungsebenen der elektrischen Feldstärkevektoren der einzelnen linear polarisierten Lichtstrahlen annähernd senkrecht zum auf die optische Systemachse gerichteten Radius orientiert sind. Hingegen wird unter „radialer Polarisation“ (oder „TM-Polarisation“) eine Polarisationsverteilung verstanden, bei der die Schwingungsebenen der elektrischen Feldstärkevektoren der einzelnen linear polarisierten Lichtstrahlen annähernd radial zur optischen Systemachse orientiert sind.
Zum Stand der Technik wird beispielsweise auf die WO 2005/069081 A2 , WO 2005/031467 A2 , US 6,191,880 B1 , US 2007/0146676 A1 , WO 2009/034109 A2 , WO 2008/019936 A2 , WO 2009/100862 A1 , DE 10 2008 009 601 A1 , DE 10 2004 011 733 A1 und US 2011/0228247 A1 verwiesen.
Ein möglicher Ansatz zur flexiblen Einstellung der Polarisationsverteilung beinhaltet hierbei die Verwendung einer polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung aus einer Mehrzahl von quer zur Lichtausbreitungsrichtung verschiebbar angeordneten polarisationsbeeinflussenden Komponenten in Kombination mit einer Spiegelanordnung, welche eine Vielzahl unabhängig voneinander verstellbarer Spiegelelemente umfasst. Hierbei können abhängig von dem Grad der Abdeckung der Spiegelanordnung durch die polarisationsbeeinflussenden Komponenten in Verbindung mit einer ebenfalls variablen Einstellung der Spiegelelemente der Spiegelanordnung in flexibler Weise unterschiedliche Polarisations- verteilungen in der Pupillenebene der Beleuchtungseinrichtung realisiert werden.
Bei diesem Ansatz kann in der Praxis jedoch das Problem auftreten, dass bei nicht exakter Positionierung der polarisationsbeeinflussenden Komponenten, z.B. die unbeabsichtigt erfolgende teilweise oder vollständige Abdeckung eines oder mehrerer Spiegelelemente durch eine oder mehrere polarisationsbeeinflussende Komponenten der polarisationsbeeinflussenden Anordnung, Anteile des von der Spiegelanordnung in die Pupillenebene reflektierten Lichtes mit einem falschen Polarisationszustand beaufschlagt werden, so dass die in der Pupillenebene erzielte Polarisationsverteilung von der gewünschten Polarisationsverteilung abweicht. Im Ergebnis kann dies zu einer Beeinträchtigung der Performance der Projektionsbelichtungsanlage aufgrund von Abbildungsfehlern und einem Kontrastverlust führen.
Vor dem obigen Hintergrund ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage sowie ein Verfahren zur Justage eines optischen Systems bereitzustellen, welche eine flexible Einstellung unterschiedlicher Polarisationsverteilungen mit höherer Genauigkeit sowie unter Vermeidung von hierdurch induzierten Abbildungsfehlern ermöglichen.
Diese Aufgabe wird gemäß den Merkmalen der unabhängigen Patentansprüche gelöst.
Ein erfindungsgemäßes optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage weist auf:

– eine Spiegelanordnung mit einer Mehrzahl von Spiegelelementen, die zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind;
– eine polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, welche wenigstens eine polarisationsbeeinflussende Komponente aufweist, wobei durch Verschieben dieser polarisationsbeeinflussenden Komponente ein Überlappungsgrad zwischen der polarisationsbeeinflussenden Komponente und der Spiegelanordnung variabel einstellbar ist; und
– einen lichtauskoppelnden Bereich, welcher zur Berücksichtigung einer möglichen Fehlpositionierung der polarisationsbeeinflussenden Komponente Licht derart aus dem Strahlengang des optischen Systems auskoppelt, dass im Betrieb des optischen Systems von einem Teilbereich der Spiegelanordnung kein Licht in eine Pupillenebene der Projektionsbelichtungsanlage gelangt.

Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, in der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung wenigstens eine Komponente mit einem insofern lichtauskoppelnden (gewissermaßen „nicht-transmittierenden“ Bereich zu versehen, als auf diesen Kantenbereich auftreffendes Licht nicht zur Retikel- bzw. Waferebene gelangt. Hierdurch kann erreicht werden, dass Anteile des auf die polarisationsbeeinflussende optische Anordnung auftreffenden Lichtes mit einer Fehlorientierung der Polarisationsrichtung aufgrund des besagten, lichtauskoppelnden Bereichs nicht an der Abbildung teilnehmen und ignoriert werden können. Bei einer entsprechend genauen Fertigung des lichtauskoppelnden Bereichs sind unter Umständen nach Einbau der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung in die Beleuchtungseinrichtung keine weiteren Justage-Schritte mehr erforderlich. Darüberhinaus kann in einem weiteren Aspekt, wie noch näher erläutert, eine Justage der Komponenten der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung durchgeführt werden, indem in vorteilhafter Weise von dem lichtauskoppelnden bzw. nicht-transmittierenden Bereich Gebrauch gemacht werden kann.
Gemäß einer Ausführungsform ist der lichtauskoppelnde Bereich auf der polarisationsbeeinflussenden Komponente, insbesondere in einem Kantenbereich der polarisationsbeeinflussenden Komponente, vorgesehen.
Gemäß einer Ausführungsform weist der lichtauskoppelnde Bereich eine auf der polarisationsbeeinflussenden Komponente vorgesehene reflektierende und/oder absorbierende Beschichtung, insbesondere eine Chrom (Cr)-Beschichtung, auf.
Gemäß einer Ausführungsform weist der lichtauskoppelnde Bereich eine an der polarisationsbeeinflussenden Komponente vorgesehene Fase auf.
Gemäß einer Ausführungsform weist die polarisationsbeeinflussende Komponente eine abgeschrägte Kante zur Verhinderung eines seitlichen Lichteintritts in die Komponente auf.
Gemäß einer Ausführungsform weist der lichtauskoppelnde Bereich eine Breite auf, welche im Bereich von 5% bis 95% der Breite eines Spiegelelements der Spiegelanordnung liegt.
Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Justage eines optischen Systems einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei das optische System eine Spiegelanordnung mit einer Mehrzahl von Spiegelelementen, die zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind, und eine polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, welche wenigstens eine polarisationsbeeinflussende Komponente aufweist, wobei durch Verschieben dieser polarisationsbeeinflussenden Komponente ein Überlappungsgrad zwischen der polarisationsbeeinflussenden Komponente und der Spiegelanordnung variabel einstellbar ist, aufweist, und wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist:

– Platzieren eines lichtauskoppelnden Bereichs in dem optischen System derart, dass im Betrieb des optischen Systems von einem Teilbereich der Spiegelanordnung kein Licht in eine Pupillenebene der Projektionsbelichtungsanlage gelangt;
– Durchführen einer Intensitätsmessung für nach Reflexion an Spiegelelementen der Spiegelanordnung in die Pupillenebene auftreffendes Licht; und
– Ermitteln eines zur Erzeugung einer gewünschten Polarisationsverteilung erforderlichen Positionsveränderung der polarisationsbeeinflussenden Komponente auf Basis der durchgeführten Intensitätsmessung.

Gemäß einer Ausführungsform wird der lichtauskoppelnde Bereich auf der polarisationsbeeinflussenden Komponente, insbesondere in einem Kantenbereich der polarisationsbeeinflussenden Komponente, vorgesehen.
Gemäß einer Ausführungsform bleiben beim Durchführen der Intensitätsmessung Spiegelelemente, deren Abstand zu dem lichtauskoppelnden Bereich einen vorgegebenen Schwellenwert übersteigt, außer Betracht. Dieser Schwellenwert kann beispielsweise der Breite eines Spiegelelements der Spiegelanordnung, oder einem ganzzahligen Vielfachen dieser Breite, entsprechen.
Gemäß einer Ausführungsform bleiben beim Durchführen der Intensitätsmessung Spiegelelemente, deren Überlappungsgrad mit der polarisationsbeeinflussenden Komponente 100% oder Null beträgt, außer Betracht.
Gemäß einer Ausführungsform wird an den außer Betracht bleibenden Spiegelelementen reflektiertes Licht in einen separaten Bereich der Pupillenebene oder hin zu einer Strahlfalle abgelenkt.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der nachfolgenden Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele und unter Bezugnahme auf die beigefügten Abbildungen näher erläutert.
Es zeigen:
1 eine schematische Darstellung des Aufbaus einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, in welcher die vorliegende Erfindung realisiert werden kann;
2–3 schematische Darstellungen zur Erläuterung möglicher Ausführungsformen zur flexiblen Einstellung unterschiedlicher Polarisationszustände; und
4–8 schematische Darstellungen zur Erläuterung eines erfindungsgemäßen Konzepts zur Kalibrierung bzw. Justage einer in den Ausführungsbeispielen von 2 oder 3 verwendeten polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung.
Im Weiteren wird zunächst unter Bezugnahme auf 1 ein prinzipieller Aufbau einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage mit einem erfindungsgemäßen optischen System erläutert. Die Projektionsbelichtungsanlage weist eine Beleuchtungseinrichtung 10 sowie ein Projektionsobjektiv 20 auf. Die Beleuchtungseinrichtung 10 dient zur Beleuchtung einer Struktur tragenden Maske (Retikel) 30 mit Licht von einer Lichtquelleneinheit 1, welche beispielsweise einen ArF-Excimerlaser für eine Arbeitswellenlänge von 193 nm sowie eine ein paralleles Lichtbündel erzeugende Strahlformungsoptik umfasst. Generell sind die Beleuchtungseinrichtung 10 sowie das Projektionsobjektiv 20 bevorzugt für eine Arbeitswellenlänge von weniger als 400 nm, insbesondere weniger als 250 nm, weiter insbesondere weniger als 200 nm, ausgelegt.
Gemäß der Erfindung ist Bestandteil der Beleuchtungseinrichtung 10 insbesondere eine Spiegelanordnung 120, welche eine Vielzahl von unabhängig voneinander einstellbaren Spiegelelementen aufweist. In Lichtausbreitungsrichtung vor der Spiegelanordnung 120 ist eine im Weiteren unter Bezugnahme auf 2 ff. noch näher erläuterte polarisationsbeeinflussende optische Anordnung 110 angeordnet. Gemäß 1 sind ferner Ansteuerungseinheiten 115, 125 vorgesehen, welche der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung 110 bzw. der Spiegelanordnung 120 zugeordnet sind und jeweils deren Verstellung über geeignete Aktuatoren ermöglichen. Aktuatoren zur Verstellung der Anordnungen können in beliebiger Weise, z.B. als Bandantriebe, Festkörpergelenkelemente, Piezo-Aktuatoren, Linearantriebe, Gleichstrom(DC-)Motoren mit oder ohne Getriebe, Spindelantriebe, Zahnriemenantriebe, Zahnradantriebe oder Kombinationen dieser bekannten Bauelemente ausgestaltet sein.
Die Beleuchtungseinrichtung 10 weist eine optische Einheit 11 auf, die u.a. im dargestellten Beispiel einen Umlenkspiegel 12 umfasst. In Lichtausbreitungsrichtung nach der optischen Einheit 11 befindet sich im Strahlengang eine Lichtmischeinrichtung (nicht dargestellt), welche z.B. in für sich bekannter Weise eine zur Erzielung einer Lichtmischung geeignete Anordnung aus mikrooptischen Elementen aufweisen kann, sowie eine Linsengruppe 14, hinter der sich eine Feldebene mit einem Retikel-Maskierungssystem (REMA) befindet, welches durch ein in Lichtausbreitungsrichtung nachfolgendes REMA-Objektiv 15 auf die Struktur tragende, in einer weiteren Feldebene angeordnete Maske (Retikel) 30 abgebildet wird und dadurch den ausgeleuchteten Bereich auf dem Retikel begrenzt. Die Struktur tragende Maske 30 wird mit dem Projektionsobjektiv 20 auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht versehenes Substrat 40 bzw. einen Wafer abgebildet. Das Projektionsobjektiv 20 kann insbesondere für den Immersionsbetrieb ausgelegt sein. Ferner kann es eine numerische Apertur NA größer als 0.85, insbesondere größer als 1.1, aufweisen.
Die Spiegelanordnung 120 (auch als „MMA“ bezeichnet, MMA = „micro mirror array“) weist gemäß 2 eine Mehrzahl von Spiegelelementen 120a, 120b, 120c, ... auf. Die Spiegelelemente 120a, 120b, 120c, ... sind zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung 120 reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar, wozu gemäß 1 die Ansteuerungseinheit 125 dient. In Lichtausbreitungsrichtung vor der Spiegelanordnung 120 befindet sich im Ausführungsbeispiel noch eine in 1 nicht gezeigte, jedoch in 2 schematisch angedeutete Mikrolinsenanordnung 105, welche eine Vielzahl von Mikrolinsen zur gezielten Fokussierung auf die Spiegelelemente der Spiegelanordnung aufweist, um Lichtverlust sowie Streulichtgenerierung in den Bereichen zwischen den Einzelspiegeln (durch Überstrahlung der Einzelspiegel) zu vermeiden. Die Spiegelelemente 120a, 120b, 120c, ... können jeweils individuell, z.B. in einem Winkelbereich von –2° bis +2°, insbesondere –5° bis +5°, weiter insbesondere –10° bis +10°, verkippt werden. Durch eine geeignete Verkippungsanordnung der Spiegelelemente 120a, 120b, 120c, ... in der Spiegelanordnung 120 kann in der Pupillenebene PP eine gewünschte Lichtverteilung, z.B. ein annulares Beleuchtungssetting oder auch ein Dipol-Setting oder ein Quadrupol-Setting, ausgebildet werden, indem das zuvor homogenisierte und kollimierte Laserlicht je nach gewünschtem Beleuchtungssetting durch die Spiegelelemente 120a, 120b, 120c, ... jeweils in die entsprechende Richtung gelenkt wird.
2 dient zunächst zur Erläuterung des Zusammenwirkens der bereits im Zusammenhang mit 1 erwähnten polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung 110 mit der Spiegelanordnung 120.
Im Ausführungsbeispiel von 2 weist die polarisationsbeeinflussende optische Anordnung 110 drei unabhängig voneinander verstellbare, jeweils senkrecht zur Lichtausbreitungsrichtung in den Strahlengang einführbare Komponenten in Form von optischen Rotatoren 111–113 aus optisch aktivem kristallinem Quarz auf, wobei jeder dieser Rotatoren für hindurchtretendes Licht für sich eine Drehung der Polarisationsvorzugsrichtung um 45° bewirkt. Infolgedessen wird die Polarisationsvorzugsrichtung bei Lichtdurchtritt durch nur einen Rotator 111, 112 bzw. 113 um 45°, bei Durchlaufen von zwei dieser Rotatoren 111–113 um 90° und bei Durchlaufen sämtlicher Rotatoren 111–113 um 135° (bzw. –45°) gedreht. Diese Situation ist in 2 dargestellt, wobei die eingezeichneten Doppelpfeile für die Teilstrahlen S1–S4 jeweils die Polarisationsvorzugsrichtung in z-Richtung gesehen (bei Betrachtung in der x-y-Ebene) bezeichnen. Dabei durchläuft der Teilstrahl S1 keinen der Rotatoren 111–113, so dass für diesen Teilstrahl die Polarisationsvorzugsrichtung (welche im Beispiel der x-Richtung entspricht) unverändert bleibt.
Ebenfalls in 2 lediglich schematisch dargestellt ist die Mikrolinsenanordnung 105, welche wie zuvor erwähnt die einzelnen Teilstrahlen jeweils auf Spiegelelemente 120a, 120b, 120c, 120d, ... der Spiegelanordnung 120 fokussiert. Die Platzierung dieser Mikrolinsenanordnung 105 ist lediglich beispielhaft, wobei in weiteren Ausführungsbeispielen die Mikrolinsenanordnung 105 auch in Lichtausbreitungsrichtung nach der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung 110 bzw. stromabwärts hierzu angeordnet sein kann.
Abhängig von dem Grad der Abdeckung der Spiegelanordnung 120 durch die polarisationsbeeinflussenden Komponenten 111, 112, 113 in Verbindung mit der variablen Einstellung der Spiegelelemente 120a, 120b, 120c, ... der Spiegelanordnung 120 können mit dem Aufbau von 2 in flexibler Weise unterschiedliche Polarisationsverteilungen in der Pupillenebene der Beleuchtungseinrichtung realisiert werden.
3a zeigt in schematischer Darstellung die polarisationsbeeinflussende optische Anordnung 300 gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung. Die polarisationsbeeinflussende optische Anordnung 300 umfasst gemäß 3a einander teilweise überlappende Lambda/2-Platten 310, 320, die jeweils aus einem geeigneten doppelbrechenden Material von bei der gewünschten Arbeitswellenlänge hinreichender Transparenz hergestellt sind, beispielsweise aus Magnesiumfluorid (MgF₂), Saphir (Al₂O₃) oder kristallinem Quarz (SiO₂). Des Weiteren weisen die Lambda/2-Platten 310, 320 (ohne das die Erfindung hierauf beschränkt wäre) in Anpassung an die Geometrie der Spiegelanordnung 200 jeweils eine rechteckige Geometrie auf.
In 3a ebenfalls eingezeichnet sind, für den Fall der Einstrahlung von linear polarisiertem Licht mit konstanter, in y-Richtung verlaufender Polarisationsvorzugsrichtung P, die sich jeweils nach Lichtdurchtritt durch die polarisationsbeeinflussende optische Anordnung 300 ergebenden Polarisationsvorzugsrichtungen. Dabei ist die sich jeweils ergebende Polarisationsvorzugsrichtung für den ersten Nicht-Überlappungsbereich „B-1“ (d.h. den nur von der ersten Lambda/2-Platte 310 abgedeckten Bereich) mit P’, für den zweiten Nicht-Überlappungsbereich „B-2“ (d.h. den nur von der zweiten Lambda/2-Platte 320 abgedeckten Bereich) mit P’’, und für den Überlappungsbereich „A“ (d.h. den sowohl von der ersten Lambda/2-Platte 310 als auch von der zweiten Lambda/2-Platte 320 abgedeckten Bereich) mit P’’’ bezeichnet. Das Zustandekommen der jeweiligen Polarisationsvorzugsrichtungen in den vorstehend genannten Bereichen ist schematisch in 3b–e dargestellt, wobei die jeweilige Lage der schnellen doppelbrechenden Achse (welche in Richtung hoher Brechzahl verläuft) für die erste Lambda/2-Platte 310 durch die gestrichelte Linie „fa-1“ und für die zweite Lambda/2-Platte 320 durch die gestrichelte Linie „fa-2“ angedeutet ist. Im Ausführungsbeispiel verläuft die schnelle Achse „fa-1“ der Doppelbrechung der ersten Lambda/2-Platte 310 in einem Winkel von 22.5° ± 2° zur Polarisationsvorzugsrichtung P des auf die Anordnung 300 auftreffenden Lichtbündels (d.h. zur y-Richtung), und die schnelle Achse „fa-2“ der Doppelbrechung der zweiten Lambda/2-Platte 320 verläuft in einem Winkel von –22.5° ± 2° zur Polarisationsvorzugsrichtung P des auf die Anordnung 300 auftreffenden Lichtbündels.
Die sich nach Lichtdurchtritt durch die erste Lambda/2-Platte 310 ergebende Polarisationsvorzugsrichtung P’ entspricht einer Spiegelung der ursprünglichen (Eingangs-)Polarisationsvorzugsrichtung P an der schnellen Achse „fa-1“ (vgl. 3b), und die sich nach Lichtdurchtritt durch die zweite Lambda/2-Platte 320 ergebende Polarisationsvorzugsrichtung P’’ entspricht einer Spiegelung der ursprünglichen (Eingangs-)Polarisationsvorzugsrichtung P an der schnellen Achse „fa-2“ (vgl. 3c). Die sich nach Lichtdurchtritt durch die Nicht-Überlappungsbereiche „B-1“ und „B-2“ ergebenden Polarisationsvorzugsrichtungen P’ bzw. P’’ verlaufen folglich unter einem Winkel von ±45° zur Polarisationsvorzugsrichtung P des auf die Anordnung 300 auftreffenden Lichtbündels. Für das auf die Anordnung 300 im Überlappungsbereich „A“ auftreffende Lichtbündel gilt, dass die Polarisationsvorzugsrichtung P’ des aus der ersten Lambda/2-Platte 310 austretenden Lichtbündels (vgl. 3d) der Eingangspolarisationsverteilung des auf die zweite Lambda/2-Platte 320 auftreffenden Lichtbündels entspricht, so dass die in 3e mit P’’’ bezeichnete Polarisationsvorzugsrichtung des aus dem Überlappungsbereich „A“ austretenden Lichtbündels unter einem Winkel von 90° zur Polarisationsvorzugsrichtung P des auf die Anordnung 300 auftreffenden Lichtbündels verläuft.
Im Weiteren wird unter Bezugnahme auf 4 zunächst ein von der vorliegenden Erfindung behandeltes, bei den vorstehend beschriebenen Ansätzen zur flexiblen Polarisationseinstellung in der Praxis auftretendes Problem beschrieben.
4 zeigt zunächst wiederum die Platzierung einer polarisationsbeeinflussenden Komponente 411 einer polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung 410 in Lichtausbreitungsrichtung vor einer Spiegelanordnung 400. Bei dieser Komponente 411 kann es sich beispielsweise um einen der Rotatoren 111, 112, 113 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung 110 aus 2 oder auch um eine der Lambda/2-Platten 310, 320 aus 3 handeln.
Dabei wird in 4 von einer Situation ausgegangen, bei der die Komponente 411 hinsichtlich der Spiegelanordnung 400 nicht exakt positioniert ist, d.h. eine Abweichung der Ist-Position der Komponente 411 relativ zu deren Soll-Position vorliegt. Wie in 4 veranschaulicht führt diese Abweichung der Ist-Position von der Soll-Position dazu, dass in einem (in 4 mit „X“ bezeichneten und schraffiert dargestellten) Bereich „falsche“ Polarisationszustände des die Komponente 411 durchlaufenden Lichtes eingestellt werden, was wiederum eine unerwünschte Verringerung des den Grad der Verwirklichung des gewünschten Polarisationszustandes charakterisierenden IPS-Wertes zur Folge hat.
Im Folgenden wird nun davon ausgegangen, dass eine Korrektur der in 4 gezeigten Fehlpositionierung der betreffenden Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung entweder nicht möglich oder nicht gewünscht ist.
Zur Veranschaulichung des erfindungsgemäßen Prinzips dient 5. Während ohne mechanische Toleranzen eine exakte Positionierung der polarisationsbeeinflussenden Komponente 511 und damit eine exakte Polarisationseinstellung möglich wäre (vgl. 5a), existieren infolge der vorhandenen Toleranzen (z.B. einer Rotation um die z-Achse (Rz) oder einer Verschiebung entlang der y-Achse) Teilbereiche auf einzelnen Spiegelelementen der Spiegelanordnung 500, welche von der polarisationsbeeinflussenden Komponente 511 unerwünscht abgedeckt bzw. unerwünscht nicht abgedeckt werden (vgl. 5b), was zu einer Abweichung von der gewünschten Polarisationsverteilung und somit zu einem IPS-Verlust führt.
Abhängig von der Größe der mechanischen Toleranzen wird nun erfindungsgemäß ein Kantenbereich der polarisationsbeeinflussenden Komponente so bearbeitet, dass dieser Kantenbereich in dem Sinne keine Transmission in dem optischen System aufweist, dass Licht aus dem Strahlengang des optischen Systems insofern ausgekoppelt wird, als von einem Teilbereich der Spiegelanordnung kein Licht in die Pupillenebene der Beleuchtungseinrichtung gelangt bzw. gar nicht erst Licht auf diesen Teilbereich gelangt. Dabei wird die Größe des entsprechenden lichtauskoppelnden Bereichs 530 so gewählt, dass unter Berücksichtigung der Toleranzen die (ohne die o.g. Auskopplung) mit einem „falschen“ bzw. nicht erwünschten Polarisationszustand beaufschlagten) Spiegelelemente bzw. Spiegelelementbereiche abgedeckt werden (vgl. 5c). Wenn eine Messung der Position der polarisationsbeeinflussenden Komponente sowie eine nachfolgende Korrektur möglich sind, so ergibt sich auch in diesem Fall eine Unsicherheit in der Positioniergenauigkeit der polarisationsbeeinflussenden Komponente, welche durch den lichtauskoppelnden Bereich abzudecken ist, d.h. eine dennoch verbleibende Restfehlorientierung wird dann vorzugsweise durch die Ausdehnung der polarisationsbeeinflussenden Komponente abgedeckt.
Der vorliegenden Erfindung liegt somit das Konzept zugrunde, infolge einer möglichen bzw. zu erwartenden Fehlstellung der Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung „falsch“ polarisiertes Licht derart zu „blockieren“, dass dieses Licht nicht mehr am weiteren Abbildungsstrahlengang teilnimmt, also nicht zum Retikel bzw. zum Wafer gelangt. Die Dimensionierung des entsprechend zu blockierenden Bereichs wird hierbei abhängig von den vorhandenen mechanischen Toleranzen gewählt, d.h. abhängig davon, wie genau die betreffende Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung zunächst (d.h. z.B. ohne weitere Justage) positioniert werden kann.
Mit anderen Worten wird für den Fall, dass bei der konkreten Auslegung des Systems die Fehlpositionierung der Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung vergleichsweise groß sein kann, die geometrische Ausdehnung des blockierenden bzw. lichtauskoppelnden Bereichs entsprechend groß gewählt, wohingegen für den Fall einer vergleichsweise genauen Positionierbarkeit der polarisationsbeeinflussenden Komponente der entsprechende blockierende bzw. lichtauskoppelnde Bereich relativ schmal ausgelegt werden kann.
Der erfindungsgemäß vorgesehene lichtauskoppelnde Bereich wird vorzugsweise unmittelbar auf der betreffenden Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung vorgesehen, wozu im weiteren Ausführungsformen unter Bezugnahme auf 6 und 7 beschrieben werden.
Gemäß 6 erfolgt die Blockierung des Lichts in dem betreffenden Bereich 630 mittels einer auftreffendes Licht wenigstens teilweise absorbierenden und/oder reflektierenden Beschichtung, welche im Ausführungsbeispiel als Chrombeschichtung (mit einer lediglich beispielhaften Dicke in der Größenordnung von 100nm) realisiert ist. Wie ebenfalls aus 6 ersichtlich weist die betreffende Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung zusätzlich zu dieser Chrombeschichtung eine (unter einem Winkel β) abgeschrägte Kante auf, welche grundsätzlich optional ist und im Ausführungsbeispiel verhindern soll, dass schräg von der Spiegelanordnung ausgehende Lichtstrahlen seitlich (z.B. von rechts oben in 6) auf die Komponente auftreffen und in dieser Weise unerwünschtes Streulicht generieren.
7 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel, in welchem die Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung mit einer Fase bzw. abgeschrägten Fläche versehen ist. Wie in 7 schematisch dargestellt ist, wird das in Richtung des Pfeils „P“ auftreffende Licht entweder an der Fase in Richtung des Pfeils „P1“ reflektiert oder (gemäß dem Snellius-Brechungsgesetz) in Richtung des Pfeils „P2“ gebrochen. In beiden Fällen (d.h. sowohl bei Reflexion als auch bei Brechung des Lichtes) wird das Licht aus dem Abbildungsstrahlengang herausgelenkt, so dass es nicht zum Retikel bzw. Wafer gelangt. Auch diese Fase bildet somit einen für das auf die Komponente auftreffende Licht lichtauskoppelnden bzw. nicht-transmittierenden Bereich.
In weiteren Ausführungsformen kann der erfindungsgemäß auf wenigstens einer Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung vorzusehende lichtauskoppelnde Bereich auch in anderer Weise realisiert werden, beispielsweise in Form einer entsprechenden Aufrauung der Oberfläche der Komponente, wobei auf den aufgerauten Bereich auftreffendes Licht derart gestreut wird, dass erzeugtes Streulicht nicht mehr am weiteren Abbildungsstrahlengang teilnimmt.
Lediglich beispielhaft kann die Dimensionierung der in 6 bzw. 7 gezeigten Anordnungen so geschaffen sein, dass bei Abmessungen der Spiegelelemente der Spiegelanordnung von 1mm·1mm eine Breite z.B. im Bereich von 100 μm bis 800 μm aufweisen kann. Gemäß einem weiteren Kriterium kann die Breite des lichtauskoppelnden Bereichs (z.B. der Beschichtung 630 in 6 oder der Fase 730 in 7) im Bereich von 5 % bis 95 % der Breite der Spiegelelemente der Spiegelanordnung liegen. Dabei kann die in 6 und 7 jeweils mit „b1“ bezeichnete Breite des lichtauskoppelnden Bereichs jeweils, wie bereits erwähnt, abhängig von den Toleranzen bei der Positionierung der Komponenten der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung geeignet gewählt werden.
Bei einer entsprechend genauen Fertigung des lichtauskoppelnden Bereichs sind unter Umständen nach Einbau der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung in die Beleuchtungseinrichtung keine weiteren Justage-Schritte mehr erforderlich. Hierbei können dann Anteile des auf die polarisationsbeeinflussende optische Anordnung auftreffenden Lichtes mit einer Fehlorientierung der Polarisationsrichtung insofern ignoriert werden, als diese aufgrund des besagten, lichtauskoppelnden Bereichs nicht an der Abbildung teilnehmen.
In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung kann zusätzlich zu der vorstehend beschriebenen Berücksichtigung bzw. Eliminierung von mechanischen Toleranzen bei der Positionierung der polarisationsbeeinflussenden Komponente noch eine Justage der Komponenten der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung durchgeführt werden, wobei nun in vorteilhafter Weise von dem zuvor beschriebenen, lichtauskoppelnden bzw. nicht-transmittierenden Bereich Gebrauch gemacht werden kann. Hierbei wird dem Umstand Rechnung getragen, dass infolge eines bei den Komponenten der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung typischerweise gegebenen Transmissionsgrades von größenordnungsmäßig 99.9 % eine Transmissionsmessung nicht ohne Weiteres bzw. unmittelbar an den Komponenten der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung zur Justage geeignet ist. Da jedoch der gemäß 6 und 7 vorgesehene lichtauskoppelnde Bereich in einer Intensitätsmessung einen Abfall der Intensität auf Null zur Folge hat, kann mit Hilfe dieses Bereichs eine vergleichsweise exakte Bestimmung der Position des lichtauskoppelnden Bereichs und damit auch eine Bestimmung der Kante der polarisationsbeeinflussenden Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung mittels einer Transmissions- bzw. Intensitätsmessung erfolgen.
Bei dem erfindungsgemäßen Justage-Konzept wird somit von dem Umstand Gebrauch gemacht, dass der wie vorstehend ausgebildete lichtauskoppelnde Bereich bei Platzierung der entsprechenden Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung im Strahlengang unmittelbar in einer Transmissionsmessung erkennbar ist. Somit kann im Rahmen der vorliegenden Erfindung eine Transmissions- bzw. Intensitätsmessung durchgeführt werden, wozu der lichtauskoppelnde bzw. nicht-transmittierende Bereich im Strahlengang des optischen Systems angeordnet wird.
Im Weiteren wird ein entsprechendes Justage-Konzept gemäß der Erfindung unter Bezugnahme auf 7 und 8 beschrieben.
Bei dieser Justage soll unter Bezugnahme auf 8a der schraffiert hervorgehobene, lichtauskoppelnde Bereich 830 in y-Richtung im eingezeichneten Koordinatensystem derart verschoben werden, dass er mittig an der Grenze zwischen zwei benachbarten Spalten (Spalte 20 und 21 in 8a) von Spiegelelementen der Spiegelanordnung 800 positioniert wird. Des Weiteren werden die entsprechenden im Bereich des lichtauskoppelnden Bereichs 830 befindlichen Spalten 20 und 21 derart in die (in 8b dargestellte) Pupillenebene gelenkt, dass die entsprechenden in der Pupillenebene erzeugten Lichtspots in der gleichen Anordnung wie die zugehörigen Spiegelelemente der beiden Spalten 20 und 21 der Spiegelanordnung 800 vorliegen. Hingegen können die in den (entweder gar nicht oder vollständig von der Komponente 811 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung abgedeckten) Spiegelelemente der Spalten 19, 22 etc. bei der Kalibrierung außer Betracht bleiben und z.B. in einen äußeren Randbereich der Pupillenebene oder zu einer außerhalb des Abbildungsstrahlenganges angeordneten Strahlfalle gelenkt werden.
Mit anderen Worten wird bei der erfindungsgemäßen Kalibrierung zunächst mittels jedes im Bereich des lichtauskoppelnden Bereichs 830 der entsprechenden zu justierenden Komponente 811 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung befindlichen Spiegelelements ein einzelner Lichtspot in der Pupillenebene erzeugt.
Gemäß 8b liegen hierbei die durch die von der Komponente 811 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung abgedeckten Spiegelelemente der Spalte 20 der Spiegelanordnung erzeugten Lichtspots links von der in der Pupillenebene eingezeichneten schraffierten Linie, wohingegen die von den nicht von der Komponente 811 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung abgedeckten Spiegelelemente der Spalte 21 der Spiegelanordnung erzeugten Lichtspots rechts von der schraffierten Linie in der Pupillenebene angeordnet sind.
Im nächsten Schritt werden nun wie in 8b angedeutet die Intensitäten der besagten Lichtspots sowohl für die durch die Spiegelelemente der Spalte 20 der Spiegelanordnung 800 erzeugten Lichtspots als auch für die durch die Spiegelelemente der Spalte 21 der Spiegelanordnung 800 erzeugten Lichtspots aufintegriert, was jeweils einen Datenpunkt in dem in 8b gezeigten Diagramm ergibt.
Im nächsten Schritt erfolgt nun eine Verschiebung der Komponente 811 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung in y-Richtung über die Spiegelanordnung um ein vorbestimmtes Wegintervall (von z.B. Δy = 5 μm). Erfolgt diese Verschiebung in 8a nach links (d.h. in positive y-Richtung), so wird bei einer anschließenden analogen Aufintegration der für die Spiegelelemente der Spalte 21 der Spiegelanordnung erhaltenen Intensitäten die Gesamtintensität geringer, falls der lichtauskoppelnde Bereich hierbei in stärkerem Maße über den entsprechenden Spiegelelementen der Spalte 21 zu liegen kommt, wohingegen der entsprechend durch Aufintegration erhaltene Intensitätswert für die in der Spalte 20 der Spiegelanordnung 800 befindlichen Spiegelelemente abnimmt.
Ein schrittweises weiteres Verschieben der Komponente 811 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung über die Spiegelanordnung hinweg führt schließlich zum Erhalt des gesamten, in 8b dargestellten Diagramms. Die ideale Kantenposition der Komponente 811 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung kann nun für diejenige y-Position der Komponente 811 bzw. deren Kante angenommen werden, bei der die beiden Kurven „A“ und „B“ im Diagramm von 8b einander kreuzen, da dann der lichtauskoppelnde Bereich 830 exakt mittig über den Spalten 20, 21 der Spiegelanordnung positioniert ist.
Zusätzlich zu der vorstehend beschriebenen Positionierung der Komponente 811 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung bzw. deren lichtauskoppelnden Bereichs 830 in y-Richtung erfolgt nun in einem weiteren Schritt die Festlegung der Rz-Orientierung, d.h. die Anordnung der Komponente 811 derart, dass diese nicht in unerwünschter Weise um die z-Achse (im Freiheitsgrad Rz) verdreht ist. Dieser Schritt wird nun im Weiteren unter Bezugnahme auf 9 beschrieben. Hierbei wird zunächst davon ausgegangen, dass hinsichtlich des Freiheitsgrades der Verschiebung in y-Richtung wie vorstehend beschrieben die optimale Position der Komponente 811 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung gefunden und eingestellt wurde.
Zur Vermessung bzw. Optimierung der Rz-Orientierung wird nun gemäß 9 zunächst wiederum mittels jedes einzelnen Spiegelelements der Spiegelanordnung 900 ein einzelner separater Beleuchtungsspot in der Pupillenebene für die im Bereich des lichtauskoppelnden Bereichs 930 der Komponente 911 befindlichen Spiegelelemente erzeugt und die zugehörige Intensität für die einzelnen Lichtspots gemessen. Im Unterschied zu der anhand von 8 beschriebenen Vorgehensweise erfolgt jedoch nun keine Aufintegration der so ermittelten Intensitäten, sondern die Intensitäten der einzelnen Lichtspots werden unmittelbar in einem Diagramm (wie in 9b dargestellt) aufgetragen.
Eine Betrachtung des Verlaufs in diesem Diagramm gemäß 9a zeigt für die Spiegelelemente der Spalte 21 der Spiegelanordnung 900 eine lineare Abnahme der Intensität mit zunehmendem „Hineinragen“ des lichtauskoppelnden Bereichs 930 der Komponente 911 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung, wohingegen sich für die Spiegelelemente der (von der Komponente 911 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung) abgedeckten Spalte 20 der Spiegelanordnung 900 entsprechend eine lineare Zunahme der Intensität ergibt.
Erfindungsgemäß wird nunmehr aus der Steigung der im Diagramm von 9c gezeigten Geraden der Winkel, um den die Komponente der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung (hinsichtlich des Freiheitsgrades Rz) verdreht ist, errechnet. Hierbei wird bei bekannter Breite der einzelnen Spiegelelemente aus der besagten Steigung der Geraden derjenige Winkel berechnet, um den die Komponente 911 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung um die z-Achse verdreht ist. Für die entsprechende Verdrehung um die z-Achse gilt Rz=arctan(m), wobei m die besagte Geradensteigung bezeichnet.
Somit wird gemäß 9b bereits aus jeweils einer einmaligen Intensitätsmessung für die durch die Spiegelelemente der Spalten 20, 21 der Spiegelanordnung 900 jeweils in der Pupillenebene erzeugten Lichtspots der erforderliche Drehwinkel ermittelt, um den die Komponente 911 der polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung um die z-Achse verdreht werden muss, um diese Komponente 911 schließlich exakt parallel zum Übergangsbereich zwischen den Spalten 20, 21 der Spiegelanordnung 900 zu positionieren.
Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alternative Ausführungsformen, z.B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungsformen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente beschränkt ist.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

WO 2005/026843 A2 [0003]
WO 2005/069081 A2 [0005]
WO 2005/031467 A2 [0005]
US 6191880 B1 [0005]
US 2007/0146676 A1 [0005]
WO 2009/034109 A2 [0005]
WO 2008/019936 A2 [0005]
WO 2009/100862 A1 [0005]
DE 102008009601 A1 [0005]
DE 102004011733 A1 [0005]
US 2011/0228247 A1 [0005]

Claims

Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit: • einer Spiegelanordnung (120, 200, 400, 500, 800, 900) mit einer Mehrzahl von Spiegelelementen (120a, 120b, 120c, ...), die zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung (120, 200, 400, 500, 800, 900) reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind; • einer polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung (110), welche wenigstens eine polarisationsbeeinflussende Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511) aufweist, wobei durch Verschieben dieser polarisationsbeeinflussenden Komponente ein Überlappungsgrad zwischen der polarisationsbeeinflussenden Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511, 611, 711, 811, 911) und der Spiegelanordnung (120, 200, 400, 500, 800, 900) variabel einstellbar ist; und • einem lichtauskoppelnden Bereich (630, 730, 830, 930), welcher zur Berücksichtigung einer möglichen Fehlpositionierung der polarisationsbeeinflussenden Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511, 611, 711, 811, 911) Licht derart aus dem Strahlengang des optischen Systems auskoppelt, dass im Betrieb des optischen Systems von einem Teilbereich der Spiegelanordnung (120, 200, 400, 500) kein Licht in eine Pupillenebene der Projektionsbelichtungsanlage gelangt.
Optisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtauskoppelnde Bereich (630, 730, 830, 930) auf der polarisationsbeeinflussenden Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511, 611, 711, 811, 911), insbesondere in einem Kantenbereich der polarisationsbeeinflussenden Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511, 611, 711, 811, 911), vorgesehen ist.
Optisches System nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtauskoppelnde Bereich (630) eine auf der polarisationsbeeinflussenden Komponente (611) vorgesehene reflektierende und/oder absorbierende Beschichtung, insbesondere eine Chrom (Cr)-Beschichtung, aufweist.
Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtauskoppelnde Bereich (730) eine an der polarisationsbeeinflussenden Komponente (711) vorgesehene Fase aufweist.
Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die polarisationsbeeinflussende Komponente (611) eine abgeschrägte Kante zur Verhinderung eines seitlichen Lichteintritts in die Komponente (611) aufweist.
Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtauskoppelnde Bereich eine Breite aufweist, welche im Bereich von 5% bis 95% der Breite eines Spiegelelements der Spiegelanordnung liegt.
Verfahren zur Justage eines optischen Systems einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei das optische System aufweist: • eine Spiegelanordnung (120, 200, 400, 500, 800, 900) mit einer Mehrzahl von Spiegelelementen (120a, 120b, 120c, ...), die zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung (120, 200, 400, 500, 800, 900) reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind; und • eine polarisationsbeeinflussende optische Anordnung (110), welche wenigstens eine polarisationsbeeinflussende Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511, 611, 711, 811, 911) aufweist, wobei durch Verschieben dieser polarisationsbeeinflussenden Komponente ein Überlappungsgrad zwischen der polarisationsbeeinflussenden Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511, 611, 711, 811, 911) und der Spiegelanordnung (120, 200, 400, 500, 800, 900) variabel einstellbar ist; wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: a) Platzieren eines lichtauskoppelnden Bereichs (630, 730, 830, 930) in dem optischen System derart, dass im Betrieb des optischen Systems von einem Teilbereich der Spiegelanordnung (120, 200, 400, 500, 800, 900) kein Licht in eine Pupillenebene der Projektionsbelichtungsanlage gelangt; b) Durchführen einer Intensitätsmessung für nach Reflexion an Spiegelelementen der Spiegelanordnung (120, 200, 400, 500, 800, 900) in die Pupillenebene auftreffendes Licht; und c) Ermitteln eines zur Erzeugung einer gewünschten Polarisationsverteilung erforderlichen Positionsveränderung der polarisationsbeeinflussenden Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511, 611, 711, 811, 911) auf Basis der im Schritt b) durchgeführten Intensitätsmessung.
Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtauskoppelnde Bereich auf der polarisationsbeeinflussenden Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511), insbesondere in einem Kantenbereich der polarisationsbeeinflussenden Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511), vorgesehen wird.
Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass beim Durchführen der Intensitätsmessung im Schritt b) Spiegelelemente, deren Abstand zu dem lichtauskoppelnden Bereich (630, 730, 830, 930) einen vorgegebenen Schwellenwert übersteigt, außer Betracht bleiben.
Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass beim Durchführen der Intensitätsmessung im Schritt b) Spiegelelemente, deren Überlappungsgrad mit der polarisationsbeeinflussenden Komponente (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511, 611, 711, 811, 911) 100% oder Null beträgt, außer Betracht bleiben.
Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass an diesen außer Betracht bleibenden Spiegelelementen reflektiertes Licht in einen separaten Bereich der Pupillenebene oder hin zu einer Strahlfalle abgelenkt wird.