JP2007528595A5 - - Google Patents
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Claims (35)
- 波面出射レーザ放射のコヒーレンスを低減させるためのシステムであり、特に、共振体の表面に当たるレーザ光の第一の部分光が部分反射され、該レーザ光の第二の部分光が前記共振体内に入射し、複数の全反射をした後に少なくともほぼ入射位置の領域において再び該共振体から出射し、前記第一の部分光と一緒に照明面まで送られ、部分光(10a、10b)への分割に加えて前記波面および少なくとも1つの部分光(10b)が1レーザパルス中に変調され、前記共振体(9、9’)で反射されたり前記共振体(9、9’)に入射したりする前記部分光(10a、10b)が前記共振体(9、9’)の下流において重ね合わせられ、前記共振体(9、9’)が局所位相分布の変化する位相プレート(12)を備えるように、前記共振体(9、9’)が形成されている、半導体リソグラフィにおける投影オブジェクティブ用の前記システムであって、
前記位相プレート(12)が、レーザ光の第二の部分光(10b)の経路のため、光線の方向に対して横方向に様々な厚さを有し、前記位相プレート(9)の厚さが、幅sの横方向において様々に変化していくことを特徴とするシステム。 - 前記厚さの相違が200nmから500nmの間であることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記幅sの変化は、入射表面(11)における前記レーザ放射の空間的コヒーレンス距離の大きさとほぼ同じであることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記幅sについて0.05<s<1mmが成り立つことを特徴とする、請求項3に記載のシステム。
- 前記位相プレート(12)が、ゼロ次回折に最適化された回折光学素子(DOE)として形成されていることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記位相プレート(12)として、拡散スクリーンが備えられていることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記共振体(9、9’)が、少なくとも5つの角を有するプリズムとして形成されていることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記共振体(9、9’)における反射角が少なくとも37度であることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記共振体(9、9’)における前記第二の部分光(10b)の光路長が、前記可干渉距離の倍数であることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記共振体(9、9’)に当たる光が、第一の反射部分光(10a)と前記共振体(9、9’)内を循環する第二の部分光(10a、10b)に関して1/3対2/3の割合で分割されることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記レーザ光(10)の157nm以下の波長において、フッ化カルシウムが前記共振体(9、9’)として用いられることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- フッ化カルシウムの結晶方位は、第一の(100)結晶面が前記レーザ光の当たる表面の平面に対して45度の角度を形成し、かつ側面と垂直であり、第二の(100)結晶面が該側面と平行であるように選択されることを特徴とする、請求項11に記載のシステム。
- 偏光状態を設定するために、前記共振体(9、9’)に当たる前記レーザ光の偏光方向を入射面に対して回転させ得ることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 偏光度が非偏光と直線偏光との間で調整可能であることを特徴とする、請求項13に記載のシステム。
- 前記偏光度を設定するために、ラムダ/2プレート(18)が用いられることを特徴とする、請求項14に記載のシステム。
- プリズム(9’)が非対称に形成されていることを特徴とする、請求項7に記載のシステム。
- プリズム(9’)が少なくとも1つの非対称な面を備えていることを特徴とする、請求項16に記載のシステム。
- 前記共振体(9、9’)に当たる前記レーザ光(10)の中心光の位置が偏心していることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記共振体(9’)が非対称に形成されており、前記レーザ光(10)の中心光が該共振体(9’)に偏心的に当たることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記レーザ光(10)の当たる前記共振体(9、9’)の表面(11)が分割層(17)を備え、該分割層が該共振体(9、9’)に入射する前記部分光(10b)の入射角に影響を与えるようになっていることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
- 前記分割層(17)の厚さが変化することを特徴とする、請求項20に記載のシステム。
- 前記分割層(17)が非均一的に形成されていることを特徴とする、請求項20に記載のシステム。
- 前記分割層(17)が誘電層を有することを特徴とする、請求項20、21あるいは22に記載のシステム。
- 光源としてのレーザと、照明装置と、マスクを備えた照明面と、投影オブジェクティブとを備えた半導体リソグラフィ用の投影露光装置であり、
波面出射レーザ放射線のコヒーレンスを低減させるために、共振体の表面に当たるレーザ光が第一の部分光を含んで部分反射され、該レーザ光の第二の部分光が前記共振体内に入射して、複数の全反射をした後に、少なくともほぼ入射位置の領域において再び該共振体から出射し、前記第一の部分光と一緒に照明面まで送られ、部分光(10a、10b)への分割に加えて、少なくとも1つの部分光(10b)の波面が1レーザパルス中に変調され、前記共振体(9、9’)で反射されたり前記共振体(9、9’)に入射したりする前記部分光(10a、10b)が前記共振体(9、9’)の下流において重ね合わせられるように、前記共振体(9、9’)が形成されている、投影露光装置であって、
該共振体(9、9’)が局所位相分布の変化する位相プレート(12)を備え、前記位相プレート(12)が、レーザ光の第二の部分光(10b)の経路のため、光線の方向に対して横方向に様々な厚さを有し、前記位相プレート(9)の厚さが、幅sの横方向において様々に変化していくことを特徴とする、投影露光装置。 - 前記幅sの変化は、前記入射表面(11)における前記レーザー放射の空間的コヒーレンス距離の大きさとほぼ同じであることを特徴とする、請求項24に記載の投影露光装置。
- 前記位相プレート(12)が、ゼロ次回折に最適化された回折光学素子(DOE)として形成されていることを特徴とする、請求項24に記載の投影露光装置。
- 拡散スクリーンが前記位相プレート(12)として備えられていることを特徴とする、請求項24に記載の投影露光装置。
- 前記共振体(9、9’)が少なくとも5つの角を有するプリズムとして形成されていることを特徴とする、請求項24に記載の投影露光装置。
- 前記共振体(9、9’)内における前記第二の部分光(10b)の光路長が時間的コヒーレンス距離の倍数であることを特徴とする、請求項24に記載の投影露光装置。
- 前記レーザ光(10)の157nm以下の波長において、フッ化カルシウムが前記共振体(9、9’)として用いられることを特徴とする、請求項24に記載の投影露光装置。
- 前記プリズム(9’)が非対称に形成されていることを特徴とする、請求項24に記載の投影露光装置。
- 前記共振体(9、9’)に当たる前記レーザ光(10)の中心光の位置が偏心的であることを特徴とする、請求項24に記載の投影露光装置。
- 前記レーザ光(10)の当たる前記共振体(9、9’)の表面(11)が分割層(17)を備え、該分割層が該共振体(9、9’)に入射する部分光(10b)の入射角に影響を与えるようになっていることを特徴とする、請求項24に記載の投影露光装置。
- 前記分割層が変化する厚さを有し、及び/又は非均一的に形成されていることを特徴とする、請求項33に記載の投影露光装置。
- 前記分割層が誘電層を有することを特徴とする、請求項33あるいは34に記載の投影露光装置。
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