JP6137179B2 - マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法 - Google Patents
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- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70566—Polarisation control
Description
本出願は、両方共に2011年7月26日出願のドイツ特許出願第10 2011 079 837.4号及び米国特許仮出願第61/511,645号に対する優先権を主張するものである。本出願は、更に、両方共に2012年3月14日出願のドイツ特許出願第10 2012 203 959.7号及び米国特許仮出願第61/610,675号に対する優先権を主張するものである。これらの出願の内容は、これにより引用によって組み込まれる。
ここで、DoPは偏光度を表し、PPは偏光純度を表し、IPSは、望ましい偏光状態における強度(好ましい(Preferred)状態(Stste)における強度(Intensity))を表している。
120、130、140 偏向ミラー
S100 非偏光照明光
S101、S102 部分光線
Claims (17)
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
光源と、
前記投影露光装置が作動状態にある時に要素に入射する光線を相互に異なる偏光方向を有する第1の部分光線(S101,S301,S401,S501,S701)と第2の部分光線(S102,S302,S402,S502,S702)とに分割する光線分割光学要素(110,310,410,510,706)と、
前記第1の部分光線(S101,S301,S401,S501,S701)及び前記第2の部分光線(S102,S302,S402,S502,S702)から望ましい偏光照明設定を生成するための少なくとも1つの光線偏向光学要素(205,206,330,340,350,360,370,470,530,540,710,720,730,810,820,830)と、
異なる偏光状態を、ブリュースター角で達成される反射によって各場合に生成する反射要素(958,959,968,969)と、
を含み、
前記光線分割光学要素(110,310,410,510,706)は、前記投影露光装置が作動状態にある時にこの光線分割光学要素上に入射する光が1よりも小さい偏光度を有するように配置され、
複数の第1のファセット(711,712,713,...;811,812,813,...;911,912,913,...)と、少なくとも複数の第2のファセット(721,722,723,...;821,822,823,...;921,922,923,...)とで構成された配列であって、該第1のファセット及び該第2のファセットに対して、前記投影露光装置の前記作動中にそれぞれの該ファセットで反射される光の異なる偏光状態が割り当てられる前記配列と、
前記光の伝播方向に前記第1及び前記第2のファセットの下流に配置された複数の第3のファセット(731,732,733,...;831,832,833,...)で構成された配列と、
を含み、
前記第3のファセット(731,732,733,...;831,832,833,...)は、それらが前記投影露光装置の前記作動中に前記第1のファセット(711,712,713,...;811,812,813,...;911,912,913,...)のうちの1つからの光を捕捉する第1の切り換え位置と、それらが該投影露光装置の該作動中に前記第2のファセット(721,722,723,...;821,822,823,...;921,922,923,...)のうちの1つからの光を捕捉する少なくとも1つの第2の切り換え位置との間で各場合に切換可能であり、
前記反射要素(958,959,968,969)のうちの少なくとも1つが、前記各場合に、それらで反射される光の偏光方向の変動に対してその位置に関して調節可能である、
ことを特徴とする光学系。 - 前記光線分割光学要素(110,310,410,510,706)は、前記投影露光装置が作動状態にある時にこの光線分割光学要素上に入射する光が0.5よりも小さい偏光度を有するように配置されることを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記望ましい偏光照明設定は、疑似タンジェンシャル偏光分布を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学系。
- 前記望ましい偏光照明設定は、四重極照明設定又は二重極照明設定であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記光源は、非偏光光を発生させることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記光源は、EUVプラズマ源であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の光学系。
- より具体的にEUVにおける作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
複数の第1のファセット(711,712,713,...;811,812,813,...;911,912,913,...)と、少なくとも複数の第2のファセット(721,722,723,...;821,822,823,...;921,922,923,...)とで構成された配列であって、該第1のファセット及び該第2のファセットに対して、前記投影露光装置の作動中にそれぞれの該ファセットで反射される光の異なる偏光状態が割り当てられる前記配列と、
前記光の伝播方向に前記第1及び前記第2のファセットの下流に配置された複数の第3のファセット(731,732,733,...;831,832,833,...)で構成された配列と、
前記望ましい偏光状態を、ブリュースター角で達成される反射によって各場合に生成する反射要素(958,959,968,969)と、
を含み、
前記第3のファセット(731,732,733,...;831,832,833,...)は、それらが前記投影露光装置の前記作動中に前記第1のファセット(711,712,713,...;811,812,813,...;911,912,913,...)のうちの1つからの光を捕捉する第1の切り換え位置と、それらが該投影露光装置の該作動中に前記第2のファセット(721,722,723,...;821,822,823,...;921,922,923,...)のうちの1つからの光を捕捉する少なくとも1つの第2の切り換え位置との間で各場合に切換可能であり、
前記反射要素(958,959,968,969)のうちの少なくとも1つが、前記各場合に、それらで反射される光の偏光方向の変動に対してその位置に関して調節可能である、
ことを特徴とする光学系。 - 前記第1のファセット(711,712,713,...;811,812,813,...;911,912,313,...)及び前記第2のファセット(721,722,723,...;821,822,823,...;921,922,923,...)は、各場合に視野ファセットミラー上に配置されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記第3のファセット(731,732,733,...;831,832,833,...)は、瞳ファセットミラー上に配置されることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記異なる偏光状態は、互いに対して直交することを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の光学系。
- 光学系の瞳平面に生成される近接照明スポットが、互いに異なる偏光状態を有することを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の光学系。
- 互いに異なる前記偏光状態の少なくとも一部が、光学系の更に別の光路において非偏光光を生じることを特徴とする請求項11に記載の光学系。
- 照明デバイスと投影レンズとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
前記照明デバイスは、請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の光学系を有する、
ことを特徴とする装置。 - 微細構造化構成要素をマイクロリソグラフィ的に生成する方法であって、
感光材料で構成された層が少なくとも部分的に付加された基板を与える段階と、
結像される構造を有するマスクを与える段階と、
請求項13に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスクの少なくとも一部を前記層のある一定の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - マイクロリソグラフィ露光方法であって、
光源を用いて発生させた照明光が、投影レンズの物体平面を照明するための投影露光装置の照明デバイスに給送され、該物体平面は、該投影レンズを用いて該投影レンズの像平面に結像され、
前記照明デバイスを通過する前記光は、該照明デバイス内の1つの位置で1よりも小さい偏光度を有し、
前記偏光度は、光伝播の方向にこの位置の後で増大し、前記光は、互いに異なる偏光方向を有する第1の部分光線(S101,S301,S401,S501,S701)と第2の部分光線(S102,S302,S402,S502,S702)とに分割され、
前記第1の部分光線と前記第2の部分光線の偏光方向の変動に対してその位置に応じて調節する、
ことを特徴とする方法。 - 前記偏光度は、少なくとも0.3だけ増大することを特徴とする請求項15に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。
- 請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の光学系を用いて実行されることを特徴とする請求項14から請求項16のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。
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