WO2017145385A1 - ビーム伝送システム、露光装置および露光装置の照明光学系 - Google Patents

ビーム伝送システム、露光装置および露光装置の照明光学系 Download PDF

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WO2017145385A1
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polarization direction
mirror
high reflection
light
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章義 鈴木
若林　理
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ギガフォトン株式会社
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    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
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    • H01S3/0903—Free-electron laser
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H13/00—Magnetic resonance accelerators; Cyclotrons
    • H05H13/04—Synchrotrons

Definitions

  • the present disclosure relates to an exposure apparatus, illumination optics of the exposure apparatus, and a system for transmitting a light beam for exposure from a free electron laser device to the exposure apparatus.
  • an LPP Laser Produced Plasma
  • DPP discharge Produced Plasma
  • a beam transmission system is a beam transmission system for transmitting a linearly polarized light beam output from a free electron laser device to an exposure apparatus, which comprises a first light beam and a second light beam. And a first polarization direction rotating unit that rotates a linear polarization direction of the first light beam.
  • a beam transmission system is a beam transmission system for transmitting a linearly polarized light beam output from a free electron laser device to an exposure apparatus, wherein a first free light beam is output.
  • the illumination optical system of the exposure apparatus illuminates the illumination surface of the exposure apparatus with a light beam transmitted by the exposure apparatus according to an aspect of the present disclosure or a beam transmission system according to another aspect of the present disclosure.
  • An illumination optical system comprising: a first field facet mirror illuminated by a first light beam; a second field facet mirror illuminated by a second light beam; and a first field facet mirror 1 and a pupil facet mirror illuminated by a second light beam passing through a second field facet mirror.
  • FIG. 1 is a schematic side view showing the configuration of an exemplary beam transmission system and illumination optics of an exposure apparatus.
  • FIG. 2 is a perspective view showing a schematic configuration of the illumination optical system shown in FIG.
  • FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of the illumination light shape according to the state of the pupil facet mirror.
  • FIG. 4 is a schematic view illustrating another example of the illumination light shape according to the state of the pupil facet mirror.
  • FIG. 5 is a schematic diagram illustrating still another example of the illumination light shape according to the state of the pupil facet mirror.
  • FIG. 6 is a schematic view showing a configuration of a beam transmission system as a comparative example and an illumination optical system of an exposure apparatus.
  • FIG. 7 is a schematic diagram for explaining an example of the shape of illumination light and the linear polarization direction according to the state of a pupil facet mirror.
  • FIG. 8 is a schematic diagram illustrating another example of the shape and linear polarization direction of the illumination light by the state of the pupil facet mirror.
  • FIG. 9 is a schematic view illustrating still another example of the shape and linear polarization direction of the illumination light by the state of the pupil facet mirror.
  • FIG. 10 is a schematic view illustrating a preferred example of the shape and linear polarization direction of the illumination light by the state of the pupil facet mirror.
  • FIG. 11 is a schematic view illustrating another preferred example of the shape and linear polarization direction of the illumination light by the state of the pupil facet mirror.
  • FIG. 12 is a schematic view showing a configuration of a beam transmission system according to Embodiment 1 and an illumination optical system of an exposure apparatus.
  • FIG. 13 is a side view showing the detailed structure of the light beam branch used in the configuration of FIG.
  • FIG. 14 is a side view showing the detailed structure of the polarization direction rotating unit used in the configuration of FIG.
  • FIG. 15 is a front view showing the detailed structure of the polarization direction rotating unit used in the configuration of FIG.
  • FIG. 16 is a front view showing another state of the polarization direction rotating unit shown in FIG. FIG.
  • FIG. 17 is a schematic view showing the configuration of a beam transmission system according to Embodiment 2 and an illumination optical system of an exposure apparatus.
  • FIG. 18 is a side view showing a detailed structure of the optical pulse stretcher used in the configuration of FIG.
  • FIG. 19 is a schematic view showing a configuration of a beam transmission system according to Embodiment 3 and an illumination optical system of an exposure apparatus.
  • FIG. 20 is a side view showing a detailed structure of the light beam branching portion used in the configuration of FIG.
  • FIG. 21 is a side view showing another state of the light beam branching portion shown in FIG.
  • FIG. 22 is a schematic view showing the configuration of a beam transmission system according to Embodiment 4 and an illumination optical system of an exposure apparatus.
  • FIG. 23 is a schematic view showing a configuration of a beam transmission system according to Embodiment 5 and an illumination optical system of an exposure apparatus.
  • FIG. 24 is a side view showing a modified example 1 of the light beam branching portion.
  • FIG. 25 is a side view showing a second modification of the light beam branching portion.
  • FIG. 26 is a top view showing a modification 2 of the light beam branching portion.
  • FIG. 27 is a perspective view showing a first modification of the polarization direction rotation unit.
  • FIG. 28 is a perspective view showing another state of the polarization direction rotating part of FIG.
  • Modification 1 of the light beam branching portion 8.1 Configuration of Modification 1 of Light Beam Branching Section 8.2 Operation of Modification 1 of Light Beam Branching Section 8.3 Operation and Effect of Modification 1 of Light Beam Branching Section 9.
  • Modification 2 of the light beam branching portion 9.1 Configuration of Modification 2 of Light Beam Branching Unit 9.2 Operation of Modification 2 of Light Beam Branching Unit 10.
  • Modification 1 of Polarization Direction Rotating Unit 10.1 Configuration of Modification 1 of Polarization Direction Rotation Unit 10.2 Operation of Modification 1 of Polarization Direction Rotation Unit 10.3 Operation and Effect of Modification 1 of Polarization Direction Rotation Unit
  • FIG. 1 schematically shows an EUV exposure apparatus and a beam transmission system for transmitting a light beam for exposure from this free electron laser apparatus to the EUV exposure apparatus. Shown in.
  • the free electron laser device is referred to as a FEL device.
  • FIG. 1 shows a schematic side view of a beam delivery system 21 including an FEL device 10 and an EUV exposure device 30.
  • the traveling direction of the light beam emitted from the FEL device 10 is defined as the Z direction.
  • a direction perpendicular to the Z direction is defined as the H direction parallel to the surface on which the FEL device 10 is mounted.
  • a direction orthogonal to the Z direction and the H direction is defined as the V direction.
  • the H direction is the horizontal direction and the V direction is the vertical direction.
  • the FEL device 10 includes an undulator 11 that controls the linear polarization direction of the output pulse laser light.
  • the light beam L transmitted by the beam transmission system 21 of the present embodiment is pulsed laser light output from the FEL device 10.
  • the beam transmission system 21 includes a chamber 20, an opening 22 provided in the chamber 20, a through hole 23 similarly provided in the chamber 20, and a collecting mirror 24 disposed in the chamber 20.
  • the light beam L emitted from the FEL device 10 passes through the opening 22 and enters the chamber 20.
  • the opening 22 and the output of the FEL device 10 are preferably sealed or welded by an O-ring or the like.
  • the collector mirror 24 is, for example, an off-axis parabolic mirror.
  • the focusing mirror 24 is disposed such that the light beam L emitted from the FEL device 10 is incident at a predetermined incident angle.
  • the condensing mirror 24 is disposed so that the incident light beam L is condensed at an intermediate focusing point (IF: Intermediate Focus) 25 and then enters the EUV exposure apparatus 30.
  • IF Intermediate Focus
  • the light beam L passes through the through hole 23 and out of the chamber 20. It is desirable that the through hole 23 and the light beam input portion of the EUV exposure apparatus 30 be sealed by a seal member (not shown). It is desirable that the inside of the chamber 20 be evacuated by an exhaust device (not shown) and maintained in a high vacuum state so that attenuation of the light beam L is suppressed.
  • the EUV exposure apparatus 30 includes an illumination optical system 31, a projection optical system 32, a reticle 33, a wafer 34, and a housing 39.
  • the illumination optical system 31 includes a field facet mirror (FFM) 35 and a pupil facet mirror (PFM) 36.
  • FFM field facet mirror
  • PFM pupil facet mirror
  • the FFM 35 and the PFM 36 divide the light beam L into a plurality of light beams L, and shapes each of the divided light beams L into a plurality of slits on the reticle 33 which is an illumination plane to illuminate the reticle 33.
  • Is located in The FFM 35 and the PFM 36 are arranged such that the plurality of light beams L have a predetermined angular distribution with respect to the reticle 33.
  • the FFM 35 and the PFM 36 are arranged such that the plurality of slits almost entirely overlap on the reticle 33.
  • the projection optical system 32 includes a concave mirror 37 and a concave mirror 38.
  • the concave mirror 37 and the concave mirror 38 are arranged to project and image the image of the illuminated reticle 33 on the wafer 34.
  • the projection optical system 32 may be a combination of a plurality of mirrors, and may be configured to include more concave mirrors and convex mirrors.
  • the EUV exposure apparatus 30 includes a scanning mechanism (not shown) for synchronously scanning the reticle 33 and the wafer 34 with respect to the illumination optical system 31 and the projection optical system 32.
  • the illumination optical system 31 includes an FFM 35 and a PFM 36.
  • the FFMs 35 and the PFMs 36 are so-called MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) manufactured using a silicon substrate or the like.
  • the FFM 35 has a plurality of facets (field facets) 35a. These facets 35 a are concave micro mirrors in an arc shape as an example.
  • the shape of the facet 35a which is a minute mirror, is the shape of a slit that illuminates the reticle 33.
  • Each facet 35a is connected with an actuator (not shown) that changes the angle of the facet 35a by electrostatic force, for example.
  • the PFM 36 has a plurality of facets (pupil facets) 36 a. These facets 36a are, for example, circular concave micro mirrors. Connected to each facet 36a is an actuator (not shown) that changes the angle of the facet 36a by electrostatic force, for example.
  • the FFM 35 forms an image of the IF 25 on the corresponding one facet 36 a of the PFM 36 for each facet 35 a.
  • the PFMs 36 are arranged such that the images of the corresponding facets 35 a reflected by the facets 36 a are imaged in an overlapping manner on the reticle 33.
  • Each facet 35a of the FFM 35 and each facet 36a of the PFM 36 can be set an angle individually by the exposure apparatus control unit 60 controlling the drive of the actuator.
  • the light beam L which is pulsed laser light output from the FEL device 10 is incident into the chamber 20.
  • the light beam L is incident on the focusing mirror 24 at a predetermined angle and is reflected.
  • the reflected light beam L is collected by IF 25.
  • the collected light beam L passes through the through hole 23 of the chamber 20 and enters the EUV exposure apparatus 30.
  • the light beam L incident into the EUV exposure apparatus 30 is shaped by the illumination optical system 31 into a slit shape to be scanned on the reticle 33.
  • the plurality of light beams L shaped into the shape of the scanning slit are illuminated almost entirely in an overlapping manner.
  • the final cross-sectional shape of the light beam L having the shape of the slit is shown as Ls.
  • the plurality of light beams L each of which is shaped into the shape of a slit by the FFM 35 is converted to have a predetermined angular distribution with respect to the reticle 33, and the PFM 36 illuminates the reticle 33 with uniform illuminance.
  • the plurality of light beams L illuminating the reticle 33 are reflected by the reticle 33 and illuminate the wafer 34 via the projection optical system 32. Thereby, the image of the illuminated portion of the reticle 33 is transferred and imaged on the photoresist on the wafer 34.
  • the reticle 33 and the wafer 34 are synchronously scanned with respect to the illumination optical system 31 and the projection optical system 32 by the scanning mechanism described above, whereby the entire image of the reticle 33 is transferred and imaged on the photoresist on the wafer 34 Ru.
  • the scanning speed of the reticle 33 and the scanning speed of the wafer 34 are set to a ratio according to the magnification of the projection optical system 32.
  • the exposure apparatus control unit 60 determines the shape of the illumination light that is optimal for the pattern of the reticle 33. In many cases, a plurality of reticles 33 are sequentially replaced and used to expose one wafer 34, but the optimal illumination light shape is determined for each reticle 33.
  • the exposure apparatus control unit 60 controls the angle of each facet 35 a of the FFM 35 and the angle of each facet 36 a of the PFM 36 so as to obtain the determined shape of illumination light. Control of this angle is performed by controlling the drive of each actuator connected to each facet 35a and facet 36a as described above.
  • FIGS. 3 to 5 These figures schematically show the shape of the illumination light using the PFM 36.
  • the large circles shown in each figure indicate PFM 36, and the 24 small circles shown therein indicate facets 36a of PFM 36.
  • the white circle facets 36a show a state in which the angle of the facets 35a of the FFM 35 is set so that the light beam L divided from the facets 35a of the FFM 35 is incident.
  • the hatched facets 36 a indicate that the light beam L split from the facets 35 a of the FFM 35 has not arrived.
  • the light beam L illuminates the reticle 33 with an angular distribution according to the arrangement pattern of the facets 36 a indicated by white circles.
  • the reticle 33 is illuminated by the light beams L reflected by the plurality of facets 36a connected in a substantially annular shape as shown in FIG.
  • the light beam L expanded from the IF 25 of FIG. 2 is incident on the plurality of facets 35 a of the FFM 35 and is reflected there.
  • the light beam L is divided into a plurality of facets 35 a and emitted from the FFM 35.
  • the divided light beams L are incident on each of the plurality of facets 36 a in the substantially annular series among the plurality of facets 36 a of the PFM 36.
  • the light beam L reflected and divided by each of the plurality of facets 36 a illuminates the reticle 33.
  • the light beam L on the reticle 33 causes the images of the arc-shaped facets 35 a of the FFM 35 to be almost overlapped and imaged. Therefore, the reticle 33 is illuminated with uniform illuminance using the above-mentioned arc shape as a slit.
  • the reticle 33 is illuminated with the above-described approximately annular angular distribution.
  • the reticle 33 is illuminated with an angular distribution having illumination light shapes of two poles divided into right and left. be able to. Furthermore, if the angles of the plurality of facets 35a and facets 36a are respectively set so as to obtain the pattern shown in FIG. 5, the reticle 33 is illuminated with an angular distribution having illumination light shapes of two poles which are divided up and down. can do.
  • FIG. 6 is a schematic view showing a beam transmission system 21 which is a comparative example to the present invention.
  • one light beam L is output from the FEL device 10 as in the configuration shown in FIG. 1.
  • the light beam L is a light beam linearly polarized in one direction, that is, in the direction indicated by the arrow P in the drawing.
  • the light beam L is divided into a plurality of parts as in the configuration shown in FIG.
  • the reticle 33 is illuminated by the divided light beam L.
  • the plurality of light beams L illuminating the reticle 33 are linearly polarized in the same direction.
  • NA numerical aperture
  • the contrast of the optical image decreases by 20% or more.
  • the linear polarization direction of the illumination light is fixed in one direction according to the linear polarization direction of the light beam L when emitted from the FEL device 10. Therefore, in the configuration of the comparative example, it is difficult to set the linear polarization direction of the illumination light to a preferable direction according to the pattern of the reticle.
  • FIGS. 7, 8 and 9 respectively show illumination light shapes that can be set in the configuration of the comparative example shown in FIG. 6 in the case of the shapes of FIGS. 3, 4 and 5 described above.
  • the linear polarization direction is shown. In each figure, the linear polarization direction is indicated by the arrow described in the facet 36a. Further, in the plane in which the facets 36a are lined up, X and Y directions orthogonal to each other are considered.
  • the linear polarization direction is only the Y direction determined according to the linear polarization direction of the light beam L when emitted from the FEL device 10.
  • circumferential polarized illumination is known as preferable polarized illumination.
  • This is to set the linear polarization direction to a direction along the approximate circumference when the shape of the illumination light is to be an approximate ring or an approximate circle. That is, in the case of the illumination light shape shown in FIG. 7, it is desirable to set the linear polarization direction as shown in FIG.
  • the configuration of the comparative example shown in FIG. 6 there is no function of individually setting the light incident on the PFM 36 in such a linear polarization direction, and control of the polarization direction is difficult.
  • the reticle 33 is illuminated with illumination light shapes of two poles which are divided into right and left. From the illumination light shape shown in FIG. 7, this illumination light shape sets the angles of the four facets 35a as indicated by the four long arrows drawn between the facets 36a in FIG. It is realized by setting the angles of the four facets 36a respectively.
  • the linear polarization direction is the Y direction determined according to the linear polarization direction of the light beam L when emitted from the FEL device 10, and it is possible to perform illumination according to a desired circumferential direction.
  • the reticle 33 is illuminated with illumination light shapes of two poles which are divided up and down. From the illumination light shape shown in FIG. 7, this illumination light shape sets the angles of the four facets 35a as indicated by the four long arrows drawn between the facets 36a in FIG. It is realized by setting the angles of the four facets 36a respectively. Also in this case, the linear polarization direction is only the Y direction determined according to the linear polarization direction of the light beam L when emitted from the FEL device 10.
  • FIG. 12 is a partially cutaway side view schematically showing the configuration of the beam transmission system 121 and the EUV exposure apparatus 130 according to the first embodiment.
  • the EUV exposure apparatus 130 is configured to include the illumination optical system according to the present invention.
  • the same components as those shown in FIG. 1 and FIG. 6 are assigned the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
  • the beam transmission system 121 of the present embodiment transmits the light beam L emitted from the FEL apparatus 10 to the EUV exposure apparatus 130.
  • the beam transmission system 121 includes the FEL device 10, a chamber 20, and a beam transmission control unit 61.
  • the chamber 20 is provided with a first through hole 123 and a second through hole 223.
  • a first focusing mirror 124 and a second focusing mirror 224 In the chamber 20, a first focusing mirror 124 and a second focusing mirror 224, a light beam branching unit 50, a first polarization direction rotating unit 51, and a second polarization direction rotating unit 52. Is arranged.
  • the light beam branching unit 50 branches the light beam L output from the FEL device 10 and incident into the chamber 20 into a first light beam L1 and a second light beam L2.
  • the detailed configuration of the light beam branching unit 50 will be described in detail later.
  • the first polarization direction rotating unit 51 is disposed in the optical path of the first light beam L1, and can rotate the linear polarization direction of the first light beam L1.
  • the second polarization direction rotating unit 52 is disposed in the optical path of the second light beam L2, and can rotate the linear polarization direction of the second light beam L2.
  • the first condensing mirror 124 condenses the first light beam L ⁇ b> 1 that has passed through the first polarization direction rotating unit 51.
  • the first condensing mirror 124 is disposed such that the IF (first IF) 125 of the condensed first light beam L1 is substantially coincident with the first through hole 123.
  • the second focusing mirror 224 focuses the second light beam L2 that has passed through the second polarization direction rotating unit 52.
  • the second condensing mirror 224 is disposed such that the IF (second IF) 225 of the condensed second light beam L 2 is substantially coincident with the second through hole 223.
  • the beam transmission control unit 61 controls the operation of the first polarization direction rotating unit 51 and the second polarization direction rotating unit 52 based on the information on the reticle 33 sent from the exposure apparatus control unit 60.
  • a FEL control unit 62 that controls the operation of the FEL device 10 is provided.
  • the FEL control unit 62 controls the operation of the FEL apparatus 10 based on the control signal sent from the exposure apparatus control unit 60.
  • the FEL apparatus 10 controlled in this manner outputs a light beam L which is a pulse laser beam at a predetermined timing.
  • the EUV exposure apparatus 130 includes a first FFM 135 and a second FFM 235 that constitute the illumination optical system 31 shown in FIG.
  • the first FFM 135 and the second FFM 235 basically have the same configuration as the FFM 35 shown in FIGS. 1 and 6.
  • the EUV exposure apparatus 130 also includes a PFM 136 that constitutes the illumination optical system 31 shown in FIG.
  • the PFM 136 plays the same role as the PFM 36 shown in FIGS. 1 and 6 but is not exactly the same PFM because it corresponds to two FFMs.
  • each facet (pupil facet) of the PFM 136 is indicated by 136a.
  • the angles of the plurality of facets 35a (not shown in FIG. 12; refer to FIG. 2) of the first FFM 135 and the second FFM 235 and the angles of the plurality of facets 136a of the PFM 136 are controlled by the exposure apparatus control unit 60. Ru.
  • the angle control of these facets is basically the same as that of the facets of FFM 35 and PFM 36 described with reference to FIG.
  • the optical relationship regarding the imaging etc. between the first FFM 135, the PFM 136 and the reticle 33, and the optical relationship regarding the imaging etc. between the second FFM 235, the PFM 136 and the reticle 33 will be described with reference to FIG.
  • the optical relationship between the FFM 35, the PFM 36 and the reticle 33 is basically the same.
  • the light beam branching unit 50 includes the oblique incidence high reflection mirror 50M.
  • the oblique incidence high reflection mirror 50M is formed using, for example, a substrate made of SiC or an AlSi alloy.
  • the oblique incidence high reflection mirror 50M is disposed so as to reflect substantially half of the light beam L, that is, only the lower half in the figure, obliquely to the traveling direction of the light beam L output from the FEL device 10. Ru.
  • the light beam L is split into a first light beam L1 as a reflected component and a second light beam L2 as a non-reflected component.
  • the incident angle ⁇ of the light beam L with respect to the oblique incidence high reflection mirror 50 M be a value within the range of 80 ° ⁇ ⁇ ⁇ 90 °, and a value within the range of 87 ° ⁇ ⁇ ⁇ 89.7 °. It is more desirable to
  • the oblique incidence high reflection mirror 50M is likely to be heated to a high temperature by being irradiated with the light beam L, it is desirable to use it while being cooled by flowing cooling water.
  • the first light beam L1 and the second light beam L2 after being branched travel at an angle to each other.
  • the first light beam L1 and the second light beam L2 are schematically shown to travel in directions parallel to each other.
  • FIGS. 14 and 15 are a side view and a front view, respectively, of this polarization direction rotating part.
  • FIG. 16 is a front view showing a polarization direction rotating unit in a state different from that in FIG.
  • the polarization direction rotation unit includes a tilt stage 70 and a rotation member 74 rotatably held by the tilt stage 70.
  • the rotating member 74 is a part of a cylindrical member cut away, and is rotatably held by the tilting stage 70 about the axis of the cylinder.
  • a plate 75 is fixed to the rotating member 74, and a first mirror holder 76 and a second mirror holder 77 are fixed to the plate 75.
  • the first mirror holder 76 has two inclined surfaces inclined with respect to the direction in which the first light beam L1 travels. Among these inclined surfaces, the first high reflection mirror 71 is held on the inclined surface on the rear side in the traveling direction of the first light beam L1, and on the inclined surface on the front side in the traveling direction of the first light beam L1. A high reflection mirror 73 is held. On the other hand, the second high reflection mirror 72 is held by the second mirror holder 77 so as to face the first high reflection mirror 71 and the third high reflection mirror 73. Further, a motor 78 for rotating the rotation member 74 by a desired angle is attached to the tilt stage 70. The driving of the motor 78 is controlled by the beam transmission control unit 61 also shown in FIG.
  • the polarization direction rotation unit of the above configuration is disposed such that the first light beam L1 travels on the rotation center of the rotation member 74 and is incident on the first high reflection mirror 71.
  • the incident first light beam L 1 is sequentially reflected by the first high reflection mirror 71, the second high reflection mirror 72, and the third high reflection mirror 73.
  • the FEL device 10 outputs a light beam L which is pulsed laser light.
  • the light beam L is linearly polarized by the undulator 11.
  • the light beam L enters the chamber 20 through the opening 22.
  • the light beam branching unit 50 branches the light beam L into a first light beam L1 and a second light beam L2.
  • the first light beam L 1 is incident on the first polarization direction rotating unit 51.
  • the second light beam L 2 is incident on the second polarization direction rotating unit 52.
  • the first polarization direction rotating unit 51 passes the first light beam L1 while keeping the linear polarization direction of the incident first light beam L1 unchanged.
  • the first light beam L ⁇ b> 1 that has passed through the first polarization direction rotating unit 51 is reflected by the first condensing mirror 124.
  • the reflected first light beam L1 passes through the first through hole 123, exits the chamber 20, is condensed by the first IF 125, and then enters the EUV exposure apparatus 130.
  • the second polarization direction rotating unit 52 rotates the linear polarization direction of the incident second light beam L2 by 90 °, and transmits the second light beam L2.
  • the second light beam L 2 that has passed through the second polarization direction rotating unit 52 is reflected by the second focusing mirror 224.
  • the reflected second light beam L2 passes through the second through hole 223, exits the chamber 20, is condensed by the second IF 225, and then enters the EUV exposure apparatus 130.
  • an arrow P indicates the linear polarization direction parallel to the paper surface of the first light beam L1 and the second light beam L2. Further, a linear polarization direction perpendicular to the paper surface of FIG. 12 is indicated by a point Q.
  • the linear polarization direction of the second light beam L2 that has passed through the second polarization direction rotating unit 52 is the straight line of the first light beam L1 that has passed through the first polarization direction rotating unit 51. It is rotated by 90 ° with respect to the polarization direction.
  • the rotation angle ⁇ of the rotary member 74 shown in FIGS. 15 and 16 with respect to the tilt stage 70 is defined as 0 (zero) ° in the state of FIG.
  • the first light beam L1 incident into the EUV exposure apparatus 130 is sequentially reflected by the first FFM 135 and PFM 136, and illuminates the reticle 33. Since the reticle 33 is not shown in FIG. 12, please refer to FIG. In addition, the second light beam L2 incident into the EUV exposure apparatus 130 is sequentially reflected by the second FFM 235 and the PFM 136, and illuminates the reticle 33.
  • the optical positional relationship between the first FFM 135, the second FFM 235, the PFM 136, and the reticle 33 is the same as the first light beam L1 incident on the first FFM 135 and the second light incident on the second FFM 235.
  • the relationship of the linear polarization direction with the beam L2 is a positional relationship maintained on the reticle 33 as it is.
  • the angles of the facets of the first FFM 135, the second FFM 235 and the PFM 136 can be controlled for each reticle 33 to control the shapes of the light beams L1 and L2 illuminating the reticle 33 first. As I said.
  • the image of the reticle is transferred and imaged on the photoresist on the wafer by the light beams L1 and L2 reflected by the reticle 33, and the entire image of the reticle is transferred and imaged on the photoresist by scanning the reticle and the wafer. Is also as described above.
  • the linear polarization direction of the first light beam L1 is not rotated in the first polarization direction rotation unit 51, and the linear polarization direction of the second light beam L2 is rotated 90 ° in the second polarization direction rotation unit 52.
  • rotation control of the linear polarization direction is not limited to this.
  • the linear polarization direction of both the first light beam L1 and the second light beam L2 is rotated 90 °, and the linear polarization direction of both the first light beam L1 and the second light beam L2 is You may make it not rotate.
  • the angle by which the linear polarization direction is rotated may be an angle other than 90 °.
  • Such rotation control of the linear polarization direction is performed by the beam transmission control unit 61 using the first polarization direction rotation unit 51 and the first polarization direction rotation unit 51 based on an instruction output from the exposure apparatus control unit 60 for each reticle 33 sequentially replaced. This can be done by controlling the operation of the second polarization direction rotation unit 52.
  • the two linear polarization directions on the reticle 33 are different by 90 ° from each other. If one of the first light beam L1 and the second light beam L2 is rotated by an angle other than 90 °, the two linearly polarized directions on the reticle 33 are other than 90 °. It is also possible to set to make an angle. However, in general, many of the patterns of the reticle 33 are patterns consisting of vertical lines and horizontal lines orthogonal to each other.
  • Embodiment 1 As described above, in the present embodiment, since the light beam branching unit 50, the first polarization direction rotating unit 51, and the second polarization direction rotating unit 52 are provided, The polarization direction of one or both of the first light beam L1 and the second light beam L2 can be freely changed. Thereby, two linear polarization directions can be freely set on the reticle 33.
  • the shape of the illumination light with respect to the reticle 33 can be freely set.
  • the shape of illumination light as shown, for example in FIG. 10, and the linear polarization pattern of illumination light can also be set.
  • the linear polarization pattern of the illumination light is set as shown in FIG. 9, or even if it is not optimal, it is set as shown in FIG. It is possible to As described above, according to this embodiment, it is possible to improve the resolving power of the exposure apparatus.
  • FIG. 17 is a partially cutaway side view schematically showing the configuration of a beam transmission system 221 and an EUV exposure apparatus 130 according to a second embodiment.
  • the same components as those shown in FIG. 12 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will not be repeated.
  • the beam transmission system 221 of the second embodiment has a different configuration from the beam transmission system 121 of the first embodiment. That is, the beam delivery system 221 includes an optical pulse stretcher 80 disposed in the light path of the light beam L between the FEL device 10 and the light beam splitting unit 50. The detailed configuration of this optical pulse stretcher 80 is shown in FIG. As shown, the optical pulse stretcher 80 includes a reflective first grating 85 and a second reflective grating 86 as well. The first grating 85 and the second grating 86 have a groove pitch substantially equal to each other.
  • the first grating 85 is disposed in a state where the incident angle of the light beam L is ⁇ and the diffraction angle is ⁇ at the position where the light beam L is incident.
  • the second grating 86 is disposed at a position where the light beam L reflected and diffracted by the first grating 85 is incident, the incident angle of the light beam L is approximately ⁇ , and the diffraction angle is approximately ⁇ .
  • the incident angle and the diffraction angle are with respect to the central wavelength of the light beam L.
  • the light beam L which is pulsed laser light output from the FEL device 10
  • the line width broadens and the energy per unit time becomes extremely high.
  • the pulse width of the light beam L is expanded according to the spectral line width.
  • Embodiment 2 When the pulse width of the beam L is expanded as described above, the energy per unit time of the light beam L which is a pulsed laser light is reduced. Therefore, it is possible to suppress that the film on the reflective surface of the optical element downstream of the optical pulse stretcher 80 or the resist on the wafer is damaged by ablation by the light beam L.
  • the optical element include polarization direction rotation units 51 and 52, condensing mirrors 124 and 224, and various optical elements in the EUV exposure apparatus 130.
  • FIG. 19 is a partially broken side view schematically showing the configurations of a beam transmission system 321 and an EUV exposure apparatus 130 according to a third embodiment.
  • the same components as those shown in FIG. 12 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
  • the beam transmission system 321 of the third embodiment has a different configuration from the beam transmission system 121 of the first embodiment. That is, the beam transmission system 321 includes the polarization direction rotating unit 52 only in the optical path of the second light beam L2 among the first light beam L1 and the second light beam L2 branched in the light beam branching unit 50. ing. As the polarization direction rotation unit 52, the same one as the second polarization direction rotation unit 52 used in the configuration of FIG. 12 can be used.
  • the beam transmission system 321 of the present embodiment includes a first optical pulse stretcher 81 and a first optical pulse stretcher 81 disposed in the optical path of the first light beam L1 and the second light beam L2 branched at the light beam branching unit 50, respectively.
  • a second optical pulse stretcher 82 is included.
  • these optical pulse stretchers 81 and 82 the same ones as the optical pulse stretcher 80 shown in FIG. 18 can be used.
  • the beam transmission system 321 of the present embodiment includes a light beam branching unit 90 having a configuration different from that of the light beam branching unit 50 shown in FIGS. 12 and 17.
  • the light beam branching unit 90 also has a function of selecting the light path of the light beam L, in particular.
  • the light beam branching unit 90 will be described in detail with reference to FIGS. 20 and 21.
  • the light beam branching unit 90 includes a movable grazing incidence high reflection mirror 90M.
  • the movable grazing incidence high reflection mirror 90M is equivalent to the grazing incidence high reflection mirror 50M shown in FIG. 13 as a mirror.
  • the light beam branching unit 90 includes an actuator (not shown) that changes the position of the movable grazing incidence high reflection mirror 90M.
  • the movable oblique incidence high reflection mirror 90M is driven by this actuator and is one of a first state shown by a solid line in FIG. 20, a second state shown by a broken line in FIG. 20, and a third state shown in FIG. May be set to
  • the first state is a state in which the movable grazing incidence high reflection mirror 90M, which is disposed so that all the light beams L are incident, reflects all the light beams L.
  • the movable grazing incidence high reflection mirror 90M is out of the optical path of the light beam L.
  • the third state is a state in which the movable grazing incidence high reflection mirror 90M, which is disposed so that a part of the light beam L is incident, reflects a part of the light beam L.
  • the drive of the actuator may be controlled by a manual switch or may be automatically controlled by the beam transmission control unit 61.
  • Embodiment 3 When the movable grazing incidence high reflection mirror 90M is set to the first state, all the light beams L are reflected and travel along the optical path as the first light beam L1. When the movable grazing incidence high reflection mirror 90M is set to the second state, all the light beams L travel along the optical path as the second light beam L2 without being reflected by the movable grazing incidence high reflection mirror 90M. When the movable grazing incidence high reflection mirror 90M is set to the third state, the light beam L is branched into the first light beam L1 and the second light beam L2. Also in this case, the first light beam L1 travels along the optical path as the first light beam, and the second light beam L2 travels along the optical path as the second light beam.
  • the beam transmission system 321 of the third embodiment has only one polarization direction rotation part 52, so simplification of the apparatus is possible as compared with the case where two polarization direction rotation parts are provided. It becomes possible.
  • the linear polarization directions of the first light beam L1 and the second light beam L2, respectively are difficult to arbitrarily change the linear polarization directions of the first light beam L1 and the second light beam L2, respectively.
  • many of the patterns of the reticle 33 are patterns consisting of vertical lines and horizontal lines orthogonal to each other. Therefore, for example, if the fixed linear polarization direction of the first light beam L1 is set parallel to the extending direction of the vertical or horizontal line on the reticle 33, no particular problem occurs in setting of the linear polarization direction. .
  • the linear polarization direction of the first light beam L1 should be parallel or perpendicular to the side of the reticle 33. You should do it. This is usually because the direction in which the vertical or horizontal line of the pattern of the reticle 33 extends is parallel to the side of the reticle 33.
  • linear polarization direction of the second light beam L2 rotated by the polarization direction rotating unit 52 is parallel to or orthogonal to the linear polarization direction of the fixed first light beam L1 on the reticle 33. It may be set in the direction of
  • FIG. 22 is a partially broken side view schematically showing the configuration of a beam transmission system 421 and an EUV exposure apparatus 130 according to a fourth embodiment.
  • the same components as those shown in FIG. 12 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
  • the beam transmission system 421 of the fourth embodiment has a configuration different from that of the beam transmission system 121 of the first embodiment. That is, the beam transmission system 421 does not include the light beam branching unit 50.
  • two FEL devices that is, the first FEL device 110 and the second FEL device 210 are provided.
  • the first FEL device 110 outputs a first light beam L1 which is pulsed laser light.
  • the second FEL device 210 also outputs a second light beam L2 that is pulsed laser light.
  • the second FEL device 210 is disposed in a state in which the output second light beam L2 travels in parallel with the light beam L1 output from the first FEL device 110.
  • a first polarization direction rotating unit 51 for rotating the linear polarization direction of the first light beam L1 is disposed in the optical path of the first light beam L1. Further, in the optical path of the second light beam L2, a second polarization direction rotating unit 52 for rotating the linear polarization direction of the second light beam L2 is disposed.
  • first FEL device 110 and the second FEL device 210 are provided as described above, only one of the first light beam L1 and the second light beam L2 is provided as shown in FIG.
  • the linear polarization direction of may be rotated.
  • the first light beam L1 and the second light beam L2 may be rotated in linear polarization direction by the first polarization direction rotating unit 51 and the second polarization direction rotating unit 52, respectively. Then, the first light beam L1 and the second light beam L2 are used as in the configuration of FIG.
  • FIG. 23 is a partially broken side view schematically showing the configuration of a beam transmission system 521 and an EUV exposure apparatus 130 according to a fifth embodiment.
  • the same components as those shown in FIG. 22 are denoted by the same reference numerals, and the redundant description will be omitted.
  • the beam transmission system 521 of this fifth embodiment has a different configuration from the beam transmission system 421 of the fourth embodiment. That is, in the beam transmission system 521, the first polarization direction rotation unit 51 and the second polarization direction rotation unit 52 are omitted from the beam transmission system 421.
  • Embodiment 5 By controlling the undulator 11 of the first FEL device 110, the linear polarization direction of the first light beam L1 is set to be a desired direction on the reticle 33. Further, by controlling the undulator 11 of the second FEL device 210, the linear polarization direction of the second light beam L2 is set to be a desired direction on the reticle 33.
  • the light beam branching portion is not required by using two FEL devices 110 and 210.
  • one or two polarization direction rotators are also unnecessary.
  • FIG. 24 is a partially broken side view showing Modification 1 of the light beam branch that can be used in the beam transmission system of the present invention.
  • the light beam branch portion of this modification 1 includes a wedge-shaped oblique incidence high reflection mirror 120.
  • a metal film such as Au or Ru is coated.
  • the wedge-shaped obliquely incident high reflection mirror 120 is disposed on the optical path of the light beam L so that the light beam L is incident from the sharp tip side.
  • FIG. 25 and FIG. 26 are a side view and a top view showing a modification 2 of the light beam branch that can be used in the beam transmission system of the present invention, respectively.
  • the light beam branching unit of the second modification includes a grating 140.
  • the grating 140 has a plurality of diffraction gratings, for example, rectangular in cross section, which are grooved at a predetermined grating pitch. These diffraction gratings are formed to have a groove depth such that the + 1st order and -1st order diffracted lights strengthen each other while the generation of 0th order light of the light beam L is suppressed.
  • the diffractive surface of the grating 140 is coated with a Mo / Si multilayer film or a metal film such as Au or Ru.
  • the grating 140 is disposed on the optical path of the light beam L such that the light beam L is incident on the diffractive surface.
  • the light beam L incident on the diffractive surface of the grating 140 is diffracted at the diffractive surface and split into + 1st order light and ⁇ 1st order light.
  • the branched light beams L travel as a first light beam L1 and a second light beam L2, respectively.
  • FIG. 27 is a schematic perspective view showing Modification 1 of the polarization direction rotating unit that can be used in the beam transmission system of the present invention.
  • FIG. 28 is a schematic perspective view showing a different state of the first modification.
  • the states of the polarization direction rotating unit shown in FIGS. 27 and 28 are referred to as a first state and a second state, respectively.
  • 27 and 28 show that the first light beam L1 is incident on the polarization direction rotating unit.
  • the polarization direction rotating unit of the first modification includes a first high reflection mirror 201, a second high reflection mirror 202, a third high reflection mirror 203, a fourth high reflection mirror 204, and a fifth high reflection mirror 205. Furthermore, the polarization direction rotation unit mounts the first high reflection mirror 201 and changes the position of the first high reflection mirror 201 and the fifth high reflection mirror 205 so as to set the fifth height.
  • the second linear stage 302 changes the position of the reflection mirror 205.
  • the first linear stage 301 and the second linear stage 302 constitute mirror moving means in the present disclosure. The operations of the first linear stage 301 and the second linear stage 302 are controlled by the beam transmission control unit 61.
  • the first high reflection mirror 201 is arranged to reflect the first light beam L1 in the V direction.
  • the second high reflection mirror 202 is arranged to reflect the first light beam L1 in the H direction.
  • the third high reflection mirror 203 is arranged to reflect the first light beam L1 in the Z direction.
  • the V direction, the H direction, and the Z direction are the first reflection direction, the second reflection direction, and the third reflection direction in the present disclosure.
  • the first light beam L1 is formed of the first high reflection mirror 201, the second high reflection mirror 202, and the like.
  • the light is reflected sequentially by the third high reflection mirror 203. That is, in this state, when the first linear stage 301 takes the first position, the first high reflection mirror 201 is inserted into the light path of the first light beam L1. Further, the fifth high reflection mirror 205 is removed from the optical path of the first light beam L1 by setting the second linear stage 302 to the first position. In this state, the first light beam L1 is reflected by the second high reflection mirror 202, whereby the linear polarization direction of the first light beam L1 is rotated by 90 °.
  • the first light beam L1 is sequentially reflected by the fourth high reflection mirror 204 and the fifth high reflection mirror 205. That is, in this state, when the first linear stage 301 takes the second position, the first high reflection mirror 201 is removed from the light path of the first light beam L1. Further, the fifth high reflection mirror 205 is inserted into the optical path of the first light beam L1 by setting the second linear stage 302 to the second position. In this state, the linear polarization direction of the first light beam L1 is not rotated.

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Abstract

露光装置の照明面における照明光の偏光方向を、より自由に設定可能とする。自由電子レーザ装置（１０）から出力される直線偏光した光ビーム（Ｌ）を露光装置（１３０）に伝送するビーム伝送システム（１２１）は、光ビーム（Ｌ）を第１の光ビーム（Ｌ１）と第２の光ビーム（Ｌ２）とに分岐する光ビーム分岐部（５０）、および第１の光ビーム（Ｌ１）の直線偏光方向を回転させる第１の偏光方向回転部（５１）を含む。

Description

ビーム伝送システム、露光装置および露光装置の照明光学系
　本開示は、露光装置、露光装置の照明光学系および、露光装置に自由電子レーザ装置から露光用の光ビームを伝送するシステムに関する。
　近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、２０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば２０ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３．５ｎｍの極端紫外（ＥＵＶ）光を生成する極端紫外光生成装置と縮小投影反射光学系（Reduced Projection Reflective Optics）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
　ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にパルスレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Laser Produced Plasma）式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）式の装置と、電子加速器から出力される電子を用いた自由電子レーザ（Free Electron Laser）装置の３種類の装置が提案されている。
特表２０１５－５２５９０６号公報 特表２０１５－５２３７２０号公報 特表２０１２－５３３７２９号公報 特開２０１４－３２９０号公報 米国公開特許明細書第２０１５／０３２３８７４号 米国公開特許明細書第２０１５／０１７３１６３号
概要
　本開示の一態様によるビーム伝送システムは、自由電子レーザ装置から出力される直線偏光した光ビームを露光装置に伝送するビーム伝送システムであって、光ビームを第１の光ビームと第２の光ビームとに分岐する光ビーム分岐部と、第１の光ビームの直線偏光方向を回転させる第１の偏光方向回転部とを備える。
　本開示の別の態様によるビーム伝送システムは、自由電子レーザ装置から出力される直線偏光した光ビームを露光装置に伝送するビーム伝送システムであって、第１の光ビームを出力する第１の自由電子レーザ装置と、第２の光ビームを出力する第２の自由電子レーザ装置と、第１の光ビームの直線偏光方向を回転させる第１の偏光方向回転部とを備える。
　一方、本開示の一態様による露光装置の照明光学系は、本開示の一態様による露光装置あるいは本開示の別の態様によるビーム伝送システムにより伝送された光ビームにより露光装置の照明面を照明する照明光学系であって、第１の光ビームが照射される第１の視野ファセットミラーと、第２の光ビームが照射される第２の視野ファセットミラーと、第１の視野ファセットミラーを経た第１の光ビームおよび、第２の視野ファセットミラーを経た第２の光ビームが照射される瞳ファセットミラーとを備える。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、例示的なビーム伝送システムおよび、露光装置の照明光学系の構成を示す概略側面図である。 図２は、図１に示した照明光学系の概略構成を示す斜視図である。 図３は、照明光形状の一例を瞳ファセットミラーの状態によって説明する概略図である。 図４は、照明光形状の別の例を瞳ファセットミラーの状態によって説明する概略図である。 図５は、照明光形状のさらに別の例を瞳ファセットミラーの状態によって説明する概略図である。 図６は、比較例としてのビーム伝送システムおよび、露光装置の照明光学系の構成を示す概略図である。 図７は、照明光の形状および直線偏光方向の一例を、瞳ファセットミラーの状態によって説明する概略図である。 図８は、照明光の形状および直線偏光方向の別の例を、瞳ファセットミラーの状態によって説明する概略図である。 図９は、照明光の形状および直線偏光方向のさらに別の例を、瞳ファセットミラーの状態によって説明する概略図である。 図１０は、照明光の形状および直線偏光方向の好ましい一例を、瞳ファセットミラーの状態によって説明する概略図である。 図１１は、照明光の形状および直線偏光方向の好ましい別の例を、瞳ファセットミラーの状態によって説明する概略図である。 図１２は、実施形態１に係るビーム伝送システムおよび、露光装置の照明光学系の構成を示す概略図である。 図１３は、図１２の構成に用いられた光ビーム分岐部の詳細構造を示す側面図である。 図１４は、図１２の構成に用いられた偏光方向回転部の詳細構造を示す側面図である。 図１５は、図１２の構成に用いられた偏光方向回転部の詳細構造を示す正面図である。 図１６は、図１５に示す偏光方向回転部の別の状態を示す正面図である。 図１７は、実施形態２に係るビーム伝送システムおよび、露光装置の照明光学系の構成を示す概略図である。 図１８は、図１７の構成に用いられた光学パルスストレッチャの詳細構造を示す側面図である。 図１９は、実施形態３に係るビーム伝送システムおよび、露光装置の照明光学系の構成を示す概略図である。 図２０は、図１９の構成に用いられた光ビーム分岐部の詳細構造を示す側面図である。 図２１は、図２０に示す光ビーム分岐部の別の状態を示す側面図である。 図２２は、実施形態４に係るビーム伝送システムおよび、露光装置の照明光学系の構成を示す概略図である。 図２３は、実施形態５に係るビーム伝送システムおよび、露光装置の照明光学系の構成を示す概略図である。 図２４は、光ビーム分岐部の変形例１を示す側面図である。 図２５は、光ビーム分岐部の変形例２を示す側面図である。 図２６は、光ビーム分岐部の変形例２を示す上面図である。 図２７は、偏光方向回転部の変形例１を示す斜視図である。 図２８は、図２７の偏光方向回転部の別の状態を示す斜視図である。
実施形態
＜目次＞
１．ＥＵＶ露光装置とビーム伝送システムの全体説明
１．１ 構成
１．２ 動作
２．比較例
２．１ 比較例の構成
２．２ 比較例の動作
２．３ 比較例の課題
３．実施形態１
３．１ 実施形態１の構成
３．２ 実施形態１の動作
３．３ 実施形態１の作用・効果
４．実施形態２
４．１ 実施形態２の構成
４．２ 実施形態２の動作
４．３ 実施形態２の作用・効果
５．実施形態３
５．１ 実施形態３の構成
５．２ 実施形態３の動作
５．３ 実施形態３の作用・効果
６．実施形態４
６．１ 実施形態４の構成
６．２ 実施形態４の動作
６．３ 実施形態４の作用・効果
７．実施形態５
７．１ 実施形態５の構成
７．２ 実施形態５の動作
７．３ 実施形態５の作用・効果
８．光ビーム分岐部の変形例１
８．１ 光ビーム分岐部の変形例１の構成
８．２ 光ビーム分岐部の変形例１の動作
８．３ 光ビーム分岐部の変形例１の作用・効果
９．光ビーム分岐部の変形例２
９．１ 光ビーム分岐部の変形例２の構成
９．２ 光ビーム分岐部の変形例２の動作
１０．偏光方向回転部の変形例１
１０．１ 偏光方向回転部の変形例１の構成
１０．２ 偏光方向回転部の変形例１の動作
１０．３ 偏光方向回転部の変形例１の作用・効果
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。
　以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成および動作の全てが本開示の構成および動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．ＥＵＶ露光装置とビーム伝送システムの全体説明
　　１．１ 構成
　図１にＥＵＶ露光装置と、このＥＵＶ露光装置に自由電子レーザ（Free Electron Laser）装置から露光用光ビームを伝送するビーム伝送システムを概略的に示す。なお、以下では自由電子レーザ装置をＦＥＬ装置と称する。図１は、ＦＥＬ装置１０を含むビーム伝送システム２１、およびＥＵＶ露光装置３０の概略側面形状を示している。
　本開示では、ＦＥＬ装置１０から出射する光ビームの進行方向がＺ方向と定義される。また、ＦＥＬ装置１０が載置される面に平行で、Ｚ方向と直交する方向がＨ方向と定義される。そしてＺ方向およびＨ方向に直交する方向がＶ方向と定義される。なお、ＦＥＬ装置１０およびＥＵＶ露光装置３０の通常の使用状態下では、Ｈ方向が水平方向であり、Ｖ方向が鉛直方向である。
　図１に示されるようにＦＥＬ装置１０は、出力するパルスレーザ光の直線偏光方向を制御するアンジュレータ１１を備えている。本実施形態のビーム伝送システム２１によって伝送される光ビームＬは、ＦＥＬ装置１０が出力するパルスレーザ光である。
　ビーム伝送システム２１は、チャンバ２０と、このチャンバ２０に設けられた開口部２２と、同じくチャンバ２０に設けられた貫通孔２３と、チャンバ２０内に配置された集光ミラー２４とを含む。
　ＦＥＬ装置１０から発せられた光ビームＬは、開口部２２を通過してチャンバ２０内に入射する。この開口部２２と、ＦＥＬ装置１０の出力部とは、Ｏリング等によってシールされるか、あるいは溶接されることが望ましい。集光ミラー２４は、例えば軸外放物面ミラーである。この集光ミラー２４は、ＦＥＬ装置１０から発せられた光ビームＬが所定の入射角で入射するように配置されている。集光ミラー２４は、入射した光ビームＬが中間集光点（ＩＦ：Intermediate Focus）２５で集光してから、ＥＵＶ露光装置３０内に入射するように配置されている。以下では、上記中間集光点をＩＦと称し、図中でもそのように表記する。
　光ビームＬは、貫通孔２３を通過してチャンバ２０の外に出る。この貫通孔２３と、ＥＵＶ露光装置３０の光ビーム入力部とは、図示外のシール部材によってシールされることが望ましい。チャンバ２０内は、光ビームＬの減衰が抑制されるように、図示しない排気装置により排気されて、高真空状態に維持されることが望ましい。
　ＥＵＶ露光装置３０は、照明光学系３１と、投影光学系３２と、レチクル３３と、ウエハ３４と、筐体３９とを含む。
　照明光学系３１は、視野ファセットミラー（ＦＦＭ：Field Facet Mirror）３５と、瞳ファセットミラー（ＰＦＭ：Pupil Facet Mirror）３６と含む。以下では視野ファセットミラーをＦＦＭと称し、瞳ファセットミラーをＰＦＭと称し、図中でもそのように表記する。ＦＦＭ３５およびＰＦＭ３６は、光ビームＬを複数の光ビームＬに分割し、照明面であるレチクル３３上において、分割されたそれぞれの光ビームＬを複数のスリットに整形してこのレチクル３３を照明するように配置されている。またＦＦＭ３５およびＰＦＭ３６は、上記複数の光ビームＬが、レチクル３３に対して所定の角度分布を持つように配置されている。さらにＦＦＭ３５およびＰＦＭ３６は、上記複数のスリット同士がレチクル３３上で殆ど全て重なり合うように配置されている。
　投影光学系３２は、凹面ミラー３７および凹面ミラー３８を含む。これらの凹面ミラー３７および凹面ミラー３８は、照明されたレチクル３３の像をウエハ３４上に投影結像するように配置されている。
ここで、投影光学系３２は、複数のミラーの組合せであって、さらに多くの凹面ミラーと凸面ミラーと、を含む構成であってもよい。
　なおＥＵＶ露光装置３０は、照明光学系３１および投影光学系３２に対して、レチクル３３およびウエハ３４を同期走査させる図示外の走査機構を備えている。
　次に図２を参照して、照明光学系３１について詳しく説明する。この照明光学系３１は、ＦＦＭ３５およびＰＦＭ３６を含む。ＦＦＭ３５およびＰＦＭ３６は、シリコン基板等を用いて作製されたいわゆるＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）である。
　ＦＦＭ３５は、複数のファセット（視野ファセット）３５ａを有する。これらのファセット３５ａは、一例として円弧形状とされた凹面の微小ミラーである。この微小ミラーであるファセット３５ａの形状が、レチクル３３を照射するスリットの形状となる。各ファセット３５ａには、例えば静電力によってファセット３５ａの角度を変化させる、図示外のアクチュエータが連結されている。
　ＰＦＭ３６は、複数のファセット（瞳ファセット）３６ａを有する。これらのファセット３６ａは、一例として円形の凹面の微小ミラーである。各ファセット３６ａには、例えば静電力によってファセット３６ａの角度を変化させる、図示外のアクチュエータが連結されている。
　ここで、ＦＦＭ３５は、各ファセット３５ａ毎に、ＩＦ２５の像をＰＦＭ３６の対応する一つのファセット３６ａに上結像する。ＰＦＭ３６は各ファセット３６ａが反射した対応するファセット３５ａの像をレチクル３３上に重なり合って結像するように配置されている。
　ＦＦＭ３５の各ファセット３５ａ、およびＰＦＭ３６の各ファセット３６ａは、露光装置制御部６０が上記アクチュエータの駆動を制御することにより、個別に角度が設定され得る。
　　１．２ 動作
　上述した図１の構成において、ＦＥＬ装置１０から出力されたパルスレーザ光である光ビームＬは、チャンバ２０の中に入射する。この光ビームＬは集光ミラー２４に所定の角度で入射し、反射する。反射した光ビームＬは、ＩＦ２５で集光する。集光した光ビームＬはチャンバ２０の貫通孔２３を通過して、ＥＵＶ露光装置３０の中に入射する。
　ＥＵＶ露光装置３０内に入射した光ビームＬは照明光学系３１により、レチクル３３上において、走査するスリット形状に整形される。レチクル３３では、走査スリットの形状に整形された複数の光ビームＬが殆ど全て重なり合って照明される。なお図２には、上記スリットの形状となった光ビームＬの最終断面形状をＬｓとして示してある。このようにＦＦＭ３５によって各々がスリットの形状に整形された複数の光ビームＬは、レチクル３３に対して所定の角度分布を持つように変換され、ＰＦＭ３６によりレチクル３３を均一な照度で照明する。
　レチクル３３を照明した複数の光ビームＬはレチクル３３で反射し、投影光学系３２を介してウエハ３４を照射する。それにより、レチクル３３の照明された部分の像が、ウエハ３４上のフォトレジストに転写結像される。
　また、前述した走査機構により、照明光学系３１および投影光学系３２に対してレチクル３３およびウエハ３４が同期走査され、それにより、レチクル３３の全体像がウエハ３４上のフォトレジストに転写結像される。なおレチクル３３の走査速度とウエハ３４の走査速度は、投影光学系３２の倍率に応じた比率に設定される。
　次に図２を参照して、照明光学系３１のＦＦＭ３５およびＰＦＭ３６の動作について説明する。露光装置制御部６０は、レチクル３３のパターンに最適な照明光の形状を決定する。なお多くの場合、１つのウエハ３４を露光するに当たり、複数のレチクル３３が順次取り替え使用されるが、上記最適な照明光の形状は、１つのレチクル３３毎に決定される。露光装置制御部６０は、決定した照明光の形状が得られるように、ＦＦＭ３５の各ファセット３５ａの角度、およびＰＦＭ３６の各ファセット３６ａの角度を制御する。この角度の制御は、前述したように各ファセット３５ａおよびファセット３６ａに連結している各アクチュエータの駆動を制御することによってなされる。
　ここで、上記照明光の形状例について図３～図５を参照して説明する。これらの図は、ＰＦＭ３６を用いて照明光の形状を概略的に示している。各図に示された大きい円はＰＦＭ３６を示し、その中に示された２４個の小円はＰＦＭ３６のファセット３６ａを示している。２４個のファセット３６ａのうち、白丸のファセット３６ａは、ＦＦＭ３５のファセット３５ａから分割された光ビーム光Ｌが入射するように、ＦＦＭ３５のファセット３５ａの角度が設定されている状態を示している。
一方、ハッチングが付されているファセット３６ａは、ＦＦＭ３５のファセット３５ａから分割された光ビーム光Ｌが届いていない状態を示している。光ビームＬは、白丸で示すファセット３６ａの配置パターン通りの角度分布で、レチクル３３を照明する。
　例えば、図３に示すように概略円環状に連なる複数のファセット３６ａで反射した光ビームＬにより、レチクル３３を照明する場合を考える。この場合、図２のＩＦ２５から拡がった光ビームＬは、ＦＦＭ３５の複数のファセット３５ａに入射し、そこで反射する。こうして光ビームＬは、複数のファセット３５ａ毎に分割されてＦＦＭ３５から出射する。これらの分割された光ビームＬは、ＰＦＭ３６の複数のファセット３６ａのうち、上記概略円環状に連なる複数のファセット３６ａの各々に入射する。
　上記複数のファセット３６ａの各々で反射して複数に分割された光ビームＬは、レチクル３３を照明する。この際、レチクル３３上で光ビームＬにより、ＦＦＭ３５の円弧形状のファセット３５ａの像が殆ど重なって結像される。そこでレチクル３３は、上記円弧形状をスリットとして、均一な照度で照明される。また、レチクル３３は、上記概略円環状の角度分布で照明される。
　その他、図４に示すパターンとなるように複数のファセット３５ａと複数のファセット３６ａの角度をそれぞれ設定すれば、左右に分かれた２極形状の照明光形状を持った角度分布でレチクル３３を照明することができる。さらには、図５に示すパターンとなるように複数の複数のファセット３５ａとファセット３６ａの角度をそれぞれ設定すれば、上下に分かれた２極形状の照明光形状を持った角度分布でレチクル３３を照明することができる。
２．比較例
　　２．１ 比較例の構成
　図６は、本発明に対する比較例であるビーム伝送システム２１を示す概略図である。この図６の構成においては、図１に示した構成におけるのと同様に、ＦＥＬ装置１０から１本の光ビームＬが出力される。この光ビームＬは、一方向、つまり図中に矢印Ｐで示す方向に直線偏光した光ビームである。
　　２．２ 比較例の動作
　比較例の構成によれば、図１に示した構成におけるのと同様に、光ビームＬが複数に分割される。そして分割された光ビームＬによって、レチクル３３が照明される。この際、レチクル３３を照明する複数の光ビームＬは、互いに同じ方向に直線偏光した状態となっている。
　　２．３ 比較例の課題
　ＥＵＶ露光装置においては、先に述べたように微細加工の要求に応えるべく、投影光学系の解像力を高めることが望まれている。その要求を満たすために、投影光学系のＮＡ（開口数）を高めることが考えられる。しかし、投影光学系のＮＡを例えば０．５以上に大きくすると、結像光束がウエハ上のレジストに入射する角度が大きくなって、照明光の偏光の影響が無視できなくなる。例えば、波長が１３．５ｎｍの極端紫外光を用い、ハーフピッチが１０ｎｍ以下の１：１のライン・アンド・スペースをｐ偏光で結像させると、光学像のコントラストは２０％以上低下する。このコントラスト低下を防ぐには、レチクルのパターンに応じて、照明光の形状だけでなく、照明光の直線偏光方向も制御する必要がある。
　しかし、図６に示す比較例の構成では、照明光の直線偏光方向は、ＦＥＬ装置１０から出射した際の光ビームＬの直線偏光方向に応じて一方向に定まってしまう。したがって比較例の構成では、照明光の直線偏光方向を、レチクルのパターンに応じて好ましい方向に設定することは困難となっている。
　以下、上述のことを、より具体的に説明する。図７、図８および図９はそれぞれ、照明光形状が先に説明した図３、図４および図５の形状とされる場合について、図６に示す比較例の構成で設定され得る照明光の直線偏光方向を示している。各図において直線偏光方向は、ファセット３６ａ内に記載した矢印で示している。また、ファセット３６ａの並ぶ面内で、互いに直交するＸ方向およびＹ方向を考える。
　図７に示すように、概略円環状に連なる複数のファセット３６ａで反射した光ビームＬにより、レチクル３３を照明する場合を考える。この場合、直線偏光方向は、ＦＥＬ装置１０から出射した際の光ビームＬの直線偏光方向に応じて定まるＹ方向のみとなる。
　このような照明光形状とする場合、好ましい偏光照明として、円周方向の偏光照明が知られている。これは、照明光の形状を概略円環状や概略円形とする場合、直線偏光方向を概略円周に沿った方向に設定するものである。つまり図７に示す照明光形状の場合は、図１０に示すように直線偏光方向を設定することが望まれる。しかし、図６に示す比較例の構成では、ＰＦＭ３６に入射する光を個別にそのような直線偏光方向の設定する機能がなく、偏光方向の制御が困難である。
　また、図８に示すように、左右に分かれた２極形状の照明光形状でレチクル３３を照明する場合を考える。なおこの照明光形状は、図７に示した照明光形状から、図８においてファセット３６ａ同士の間に引いた４本の長い矢印で示すように、４個のファセット３５ａの角度をそれぞれ設定し、４個のファセット３６ａの角度をそれぞれ設定することにより実現される。この場合も、直線偏光方向は、ＦＥＬ装置１０から出射した際の光ビームＬの直線偏光方向に応じて定まるＹ方向となり、一応所望の円周方向に準じた照明を行うことが可能である。
　別の場合として図９に示すように、上下に分かれた２極形状の照明光形状でレチクル３３を照明する場合を考える。なおこの照明光形状は、図７に示した照明光形状から、図９においてファセット３６ａ同士の間に引いた４本の長い矢印で示すように、４個のファセット３５ａの角度をそれぞれ設定し、４個のファセット３６ａの角度をそれぞれ設定することにより実現される。この場合も、直線偏光方向は、ＦＥＬ装置１０から出射した際の光ビームＬの直線偏光方向に応じて定まるＹ方向のみとなってしまう。
　図９に示すような照明光形状の場合、所望の円周方向に準じた照明を行うには、レチクル３３のパターンによっては、図１１に示すように直線偏光方向を全てＸ方向に設定することが望ましい。しかし、図６に示す比較例の構成では、そのような直線偏光方向の設定は困難である。
３．実施形態１
　　３．１ 実施形態１の構成
　図１２は、実施形態１に係るビーム伝送システム１２１およびＥＵＶ露光装置１３０の構成を概略的に示す一部破断側面図である。なおＥＵＶ露光装置１３０は、本発明による照明光学系を備えて構成されている。図１２の構成において、図１および図６に示した構成要素と同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複した説明を省略する。
　以下、この実施形態１の構成の中で、図１および図６に示した構成と異なる部分について説明する。本実施形態１において、以下で説明する相違点以外の構成は、基本的に、図１および図６に示した構成と同様とすればよい。
　本実施形態のビーム伝送システム１２１は、ＦＥＬ装置１０から発せられた光ビームＬを、ＥＵＶ露光装置１３０まで伝送する。ビーム伝送システム１２１は、ＦＥＬ装置１０と、チャンバ２０と、ビーム伝送制御部６１とを含む。チャンバ２０には、第１の貫通孔１２３および第２の貫通孔２２３が設けられている。またチャンバ２０内には、第１の集光ミラー１２４および第２の集光ミラー２２４と、光ビーム分岐部５０と、第１の偏光方向回転部５１と、第２の偏光方向回転部５２とが配置されている。
　上記光ビーム分岐部５０は、ＦＥＬ装置１０から出力されてチャンバ２０内に入射した光ビームＬを、第１の光ビームＬ１と第２の光ビームＬ２とに分岐する。この光ビーム分岐部５０の詳細な構成については、後に詳しく説明する。
　第１の偏光方向回転部５１は、第１の光ビームＬ１の光路に配され、この第１の光ビームＬ１の直線偏光方向を回転させ得る。第２の偏光方向回転部５２は、第２の光ビームＬ２の光路に配され、この第２の光ビームＬ２の直線偏光方向を回転させ得る。
　第１の集光ミラー１２４は、第１の偏光方向回転部５１を通過した第１の光ビームＬ１を集光する。この第１の集光ミラー１２４は、集光した第１の光ビームＬ１のＩＦ（第１のＩＦ）１２５が、第１の貫通孔１２３と略一致する位置に有るように配置されている。また第２の集光ミラー２２４は、第２の偏光方向回転部５２を通過した第２の光ビームＬ２を集光する。この第２の集光ミラー２２４は、集光した第２の光ビームＬ２のＩＦ（第２のＩＦ）２２５が、第２の貫通孔２２３と略一致する位置に有るように配置されている。
　ビーム伝送制御部６１は、露光装置制御部６０から送られるレチクル３３に関する情報に基づいて、第１の偏光方向回転部５１および第２の偏光方向回転部５２の動作を制御する。
　また、ＦＥＬ装置１０の動作を制御するＦＥＬ制御部６２が設けられている。このＦＥＬ制御部６２は、露光装置制御部６０から送られる制御信号に基づいてＦＥＬ装置１０の動作を制御する。こうして制御されるＦＥＬ装置１０は、所定のタイミングで、パルスレーザ光である光ビームＬを出力する。
　ＥＵＶ露光装置１３０は、図１に示した照明光学系３１を構成する第１のＦＦＭ１３５および第２のＦＦＭ２３５を含む。これら第１のＦＦＭ１３５および第２のＦＦＭ２３５は、図１および図６に示したＦＦＭ３５と基本的に同じ構成を有する。またＥＵＶ露光装置１３０は、図１に示した照明光学系３１を構成するＰＦＭ１３６を含む。このＰＦＭ１３６は、図１および図６に示したＰＦＭ３６と同じ役割を果たすが、２つのＦＦＭに対応しているため、まったく同一のＰＦＭではない。なお、図１２中で、ＰＦＭ１３６の各ファセット（瞳ファセット）を１３６ａで示す。
　第１のＦＦＭ１３５および第２のＦＦＭ２３５が有する複数のファセット３５ａ（図１２では図示せず。図２参照）の角度、およびＰＦＭ１３６が有する複数のファセット１３６ａの角度は、露光装置制御部６０によって制御される。これらのファセットの角度制御は、図２を参照して説明した、ＦＦＭ３５およびＰＦＭ３６のファセットの角度制御と基本的に同じである。
　第１のＦＦＭ１３５、ＰＦＭ１３６およびレチクル３３の間の結像等に関する光学的関係、並びに、第２のＦＦＭ２３５、ＰＦＭ１３６およびレチクル３３の間の結像等に関する光学的関係は、図２を参照して説明したＦＦＭ３５、ＰＦＭ３６およびレチクル３３の間の光学的関係と基本的に同じである。
　次に図１３を参照して、光ビーム分岐部５０の具体的な構成について説明する。本実施形態において光ビーム分岐部５０は、斜入射高反射ミラー５０Ｍを含むものとされている。この斜入射高反射ミラー５０Ｍは、例えばＳｉＣやＡｌＳｉ合金からなる基板を用いて形成される。この斜入射高反射ミラー５０Ｍは、ＦＥＬ装置１０から出力された光ビームＬの進行方向に対して斜めにして、光ビームＬの略半分、つまり図中の下半分だけを反射するように配置される。それにより光ビームＬは、反射した成分が第１の光ビームＬ１として、また反射しない成分が第２の光ビームＬ２として分岐される。
　なお、斜入射高反射ミラー５０Ｍに対する光ビームＬの入射角θは、８０°≦θ＜９０°なる範囲内の値とすることが望ましく、８７°≦θ＜８９．７°なる範囲内の値とすることがさらに望ましい。
　また斜入射高反射ミラー５０Ｍは、光ビームＬの照射を受けることによって高温になりやすいので、流れる冷却水によって冷却しながら使用することが望ましい。
　ここで、上述のような斜入射高反射ミラー５０Ｍを用いた場合、分岐した後の第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２は、互いに角度をなして進行することになる。しかし図１２においては、第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２を概略的に、互いに平行な方向に進行する状態に示している。
　次に図１４～図１６を参照して、偏光方向回転部５１および５２の具体的な構成について説明する。なお、それらの偏光方向回転部５１および５２は互いに同じ構成のものであるので、ここでは第１の光ビームＬ１が通るものとして偏光方向回転部を説明する。図１４および図１５はそれぞれ、この偏光方向回転部の側面図および正面図である。また図１６は、図１５とは異なる状態にある偏光方向回転部を示す正面図である。
　この偏光方向回転部は、傾斜ステージ７０と、この傾斜ステージ７０に回転可能に保持された回転部材７４とを含む。回転部材７４は円柱状部材の一部を切り取った形のもので、その円柱の軸を中心として回転可能に傾斜ステージ７０に保持されている。この回転部材７４にはプレート７５が固定され、このプレート７５には第１ミラーホルダ７６および第２ミラーホルダ７７が固定されている。
　上記第１ミラーホルダ７６は、第１の光ビームＬ１が進行する方向に対して傾斜した２つ傾斜面を有する。これらの傾斜面のうち、第１の光ビームＬ１の進行方向後方側の傾斜面には第１高反射ミラー７１が保持され、第１の光ビームＬ１の進行方向前方側の傾斜面には第３高反射ミラー７３が保持されている。一方、第２ミラーホルダ７７には、上記第１高反射ミラー７１および第３高反射ミラー７３の方を向く状態にして、第２高反射ミラー７２が保持されている。また傾斜ステージ７０には、回転部材７４を所望の角度回転させるモータ７８が取り付けられている。このモータ７８の駆動は、図１２にも示したビーム伝送制御部６１によって制御される。
　上記構成の偏光方向回転部は、第１の光ビームＬ１が上記回転部材７４の回転中心上を進行して第１高反射ミラー７１に入射するように配置される。入射した第１の光ビームＬ１は、第１高反射ミラー７１、第２高反射ミラー７２および第３高反射ミラー７３で順次反射する。
　　３．２ 実施形態１の動作
　図１２の構成において、ＦＥＬ装置１０はパルスレーザ光である光ビームＬを出力する。この光ビームＬはアンジュレータ１１により、直線偏光した光となる。この光ビームＬは、開口部２２からチャンバ２０内に入射する。光ビーム分岐部５０はこの光ビームＬを、第１の光ビームＬ１と第２の光ビームＬ２とに分岐する。第１の光ビームＬ１は、第１の偏光方向回転部５１に入射する。第２光ビームＬ２は、第２の偏光方向回転部５２に入射する。
　第１の偏光方向回転部５１は、一例として、入射した第１の光ビームＬ１の直線偏光方向はそのままにして、この第１の光ビームＬ１を通過させる。第１の偏光方向回転部５１を通過した第１の光ビームＬ１は、第１の集光ミラー１２４において反射する。反射した第１の光ビームＬ１は、第１の貫通孔１２３を通過してチャンバ２０の外に出射し、第１のＩＦ１２５で集光した後、ＥＵＶ露光装置１３０内に入射する。
　一方、第２の偏光方向回転部５２は、一例として、入射した第２の光ビームＬ２の直線偏光方向を９０°回転させて、この第２の光ビームＬ２を通過させる。第２の偏光方向回転部５２を通過した第２の光ビームＬ２は、第２の集光ミラー２２４において反射する。反射した第２の光ビームＬ２は、第２の貫通孔２２３を通過してチャンバ２０の外に出射し、第２のＩＦ２２５で集光した後、ＥＵＶ露光装置１３０内に入射する。
　図１２において、第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２の、紙面に平行な直線偏光方向を矢印Ｐで示す。また、図１２の紙面に垂直な直線偏光方向については、点Ｑで示す。この図１２に示される通り、第２の偏光方向回転部５２を通過した第２の光ビームＬ２の直線偏光方向は、第１の偏光方向回転部５１を通過した第１の光ビームＬ１の直線偏光方向に対して、９０°回転している。
　ここで、第２の光ビームＬ２の回転について詳しく説明する。図１５および図１６に示す回転部材７４の傾斜ステージ７０に対する回転角度φを、図１５の状態にある場合において０（ゼロ）°と規定する。この図１５の状態下では、第１高反射ミラー７１に入射する前の第１の光ビームＬ１の直線偏光方向は、第３高反射ミラー７３で反射した後もそのまま維持される。つまり回転角度φ＝０°の場合、光ビームＬ１の直線偏光方向は回転されない。
　それに対して、回転部材７４を回転角度φ＝４５°として回転させると、図１６に示す状態となる。つまりこの場合、第３高反射ミラー７３で反射した第１の光ビームＬ１の直線偏光方向は、第１高反射ミラー７１に入射する前の第１の光ビームＬ１の直線偏光方向に対して９０°回転することになる。
　ＥＵＶ露光装置１３０内に入射した第１の光ビームＬ１は、第１のＦＦＭ１３５、ＰＦＭ１３６で順次反射した後、レチクル３３を照明する。なお図１２ではレチクル３３を図示していないので、図１を参照されたい。また、ＥＵＶ露光装置１３０内に入射した第２の光ビームＬ２は、第２のＦＦＭ２３５、ＰＦＭ１３６で順次反射した後、レチクル３３を照明する。
　なお、第１のＦＦＭ１３５、第２のＦＦＭ２３５、ＰＦＭ１３６およびレチクル３３の光学的な位置関係は、第１のＦＦＭ１３５に入射する第１の光ビームＬ１と、第２のＦＦＭ２３５に入射する第２の光ビームＬ２との間の直線偏光方向の関係が、レチクル３３上でそのまま維持される位置関係とされている。
　第１のＦＦＭ１３５、第２のＦＦＭ２３５およびＰＦＭ１３６の各ファセットの角度が、１枚のレチクル３３毎に制御されて、レチクル３３を照明する光ビームＬ１およびＬ２の形状が制御され得ることは、先に述べた通りである。
　また、レチクル３３で反射した光ビームＬ１およびＬ２によりレチクルの像がウエハ上のフォトレジストに転写結像され、そして、レチクルおよびウエハの走査により、レチクルの全面像が上記フォトレジストに転写結像されることも、先に説明した通りである。
　以上、第１の光ビームＬ１の直線偏光方向は第１の偏光方向回転部５１において回転されず、第２の光ビームＬ２の直線偏光方向が第２の偏光方向回転部５２において９０°回転される例を説明したが、直線偏光方向の回転制御はこれに限定されない。例えば、第１の光ビームＬ１と第２の光ビームＬ２の双方について直線偏光方向を９０°回転させたり、さらには第１の光ビームＬ１と第２の光ビームＬ２の双方について直線偏光方向を回転しないようにしてもよい。さらに、直線偏光方向を回転させる角度も、９０°以外の角度とされても構わない。
　そのような直線偏光方向の回転制御は、逐次取り替えられる１枚のレチクル３３毎に露光装置制御部６０が出力する指示に基づいて、ビーム伝送制御部６１が第１の偏光方向回転部５１および第２の偏光方向回転部５２の動作を制御することによってなされ得る。
　第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２の一方の直線偏光方向を９０°回転させた場合、レチクル３３上における２つの直線偏光方向は、互いに９０°異なる状態となる。また、第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２の一方の直線偏光方向を回転させる角度を９０°以外の角度とすれば、レチクル３３上における２つの直線偏光方向を、９０°以外の角度をなすように設定することも可能である。しかし一般にレチクル３３のパターンは、多くのものが、互いに直交する縦線と横線からなるパターンである。そこで、レチクル３３上において２つの直線偏光方向を設定する要求がある場合は、２つの直線偏光方向を互いに９０°の角度をなすように設定したいことが圧倒的に多い。以上のことに鑑みれば、第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２がレチクル３３上でなす偏光の角度を同一方向の０°以外に１通りにしか設定できない場合は、その角度を９０°に設定することが好ましい。
　　３．３ 実施形態１の作用・効果
　以上説明した通り本実施形態においては、光ビーム分岐部５０、第１の偏光方向回転部５１および第２の偏光方向回転部５２が設けられているので、第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２の一方、あるいは双方の偏光方向を自由に変更することができる。それにより、レチクル３３上において２つの直線偏光方向を自在に設定可能となる。
　また、第１のＦＦＭ１３５、第２のＦＦＭ２３５およびＰＦＭ１３６が有する複数のファセットの角度を制御することにより、レチクル３３に対する照明光の形状も自在に設定可能となる。
　そこで本実施形態においては、例えば図１０に示したような照明光の形状および、照明光の直線偏光パターンも設定可能である。また、図９および図１１に示したような照明光の形状を設定する場合に、照明光の直線偏光パターンを図９のように設定したり、最適ではなくても図１１のように設定したりすることが可能となる。以上により、本実施形態によれば、露光装置の解像力を向上させることが可能になる。
４．実施形態２
　　４．１ 実施形態２の構成
　図１７は、実施形態２に係るビーム伝送システム２２１およびＥＵＶ露光装置１３０の構成を概略的に示す一部破断側面図である。図１７の構成において、図１２に示した構成要素と同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複した説明を省略する。
　この実施形態２のビーム伝送システム２２１は、実施形態１におけるビーム伝送システム１２１とは異なる構成を有する。すなわちビーム伝送システム２２１は、ＦＥＬ装置１０と光ビーム分岐部５０との間において、光ビームＬの光路に配された光学パルスストレッチャ８０を含んでいる。この光学パルスストレッチャ８０の詳細な構成を図１８に示す。図示の通り光学パルスストレッチャ８０は、反射型の第１グレーティング８５と、同じく反射型の第２グレーティング８６とを含む。第１グレーティング８５と第２グレーティング８６は、互いに略等しい溝ピッチを有する。
　第１グレーティング８５は、光ビームＬが入射する位置において、光ビームＬの入射角がα、回折角がβとなる状態に配置されている。第２グレーティング８６は、第１グレーティング８５で反射回折した光ビームＬが入射する位置において、光ビームＬの入射角が略β、回折角が略αとなる状態に配置されている。なお、上記入射角および回折角は、光ビームＬの中心波長に対するものとする。
　　４．２ 実施形態２の動作
　ＦＥＬ装置１０から出力されるパルスレーザ光である光ビームＬは、パルス幅が例えば０．１～０．２ｐｓ（ピコ秒）と短いため、不確定性原理によりスペクトル線幅は、広がり、単位時間当たりのエネルギーが極めて高くなる。上記グレーティング８５および８６で光ビームＬを反射回折させると、光ビームＬの長波長成分、短波長成分に対する回折角が異なることから、長波長成分の光路長が短くなる一方、短波長成分の光路長が長くなる。それにより、スペクトル線幅に応じて光ビームＬのパルス幅が伸長される。
　　４．３ 実施形態２の作用・効果
　以上のようにしてビームＬのパルス幅が伸長されると、パルスレーザ光である光ビームＬの単位時間当たりのエネルギーが低下する。そこで、光学パルスストレッチャ８０よりも後段の光学要素の反射面に使用される膜やウエハ上のレジストが、光ビームＬによるアブレーションで損傷することを抑制できる。上記光学要素としては、例えば偏光方向回転部５１および５２、集光ミラー１２４、２２４、さらにはＥＵＶ露光装置１３０内の各種光学要素等が挙げられる。
５．実施形態３
　　５．１ 実施形態３の構成
　図１９は、実施形態３に係るビーム伝送システム３２１およびＥＵＶ露光装置１３０の構成を概略的に示す一部破断側面図である。図１９の構成において、図１２に示した構成要素と同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複した説明を省略する。
　この実施形態３のビーム伝送システム３２１は、実施形態１におけるビーム伝送システム１２１とは異なる構成を有する。すなわちビーム伝送システム３２１は、光ビーム分岐部５０において分岐された第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２のうち、第２の光ビームＬ２の光路にだけ、偏光方向回転部５２を備えている。この偏光方向回転部５２としては、図１２の構成において用いられた第２の偏光方向回転部５２と同じものを用いることができる。
　また本実施形態のビーム伝送システム３２１は、光ビーム分岐部５０において分岐された第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２の光路にそれぞれ配置された、第１の光学パルスストレッチャ８１および第２の光学パルスストレッチャ８２を含んでいる。これらの光学パルスストレッチャ８１および８２としては、図１８に示した光学パルスストレッチャ８０と同様のものを用いることができる。
　また本実施形態のビーム伝送システム３２１は、図１２および図１７に示した光ビーム分岐部５０とは異なる構成の光ビーム分岐部９０を含んでいる。この光ビーム分岐部９０は、特に光ビームＬの光路を選択する機能も有する。以下、図２０および図２１を参照して、光ビーム分岐部９０について詳しく説明する。
　この光ビーム分岐部９０は、可動斜入射高反射ミラー９０Ｍを含む。この可動斜入射高反射ミラー９０Ｍは、ミラーとしての構成は、図１３に示した斜入射高反射ミラー５０Ｍと同等である。それに加えて光ビーム分岐部９０は、可動斜入射高反射ミラー９０Ｍの位置を変更する図示外のアクチュエータを含んでいる。
　このアクチュエータにより駆動されて可動斜入射高反射ミラー９０Ｍは、図２０に実線で示す第１状態と、図２０に破線で示す第２状態と、図２１に示す第３状態とのうちのいずれかに設定され得る。上記第１状態は、光ビームＬが全部入射するように配置された可動斜入射高反射ミラー９０Ｍが、この光ビームＬを全部反射させる状態である。上記第２状態は、可動斜入射高反射ミラー９０Ｍが光ビームＬの光路から退出した状態である。上記第３状態は、光ビームＬの一部が入射するように配置された可動斜入射高反射ミラー９０Ｍが、この光ビームＬの一部を反射させる状態である。なお上記アクチュエータの駆動は、手動のスイッチで制御されてもよいし、あるいはビーム伝送制御部６１によって自動的に制御されてもよい。
　　３．２ 実施形態３の動作
　可動斜入射高反射ミラー９０Ｍが上記第１状態に設定された場合、光ビームＬは全て反射されて、第１の光ビームＬ１としての光路を進行する。可動斜入射高反射ミラー９０Ｍが上記第２状態に設定された場合、光ビームＬは可動斜入射高反射ミラー９０Ｍで反射することなく、全てが第２の光ビームＬ２としての光路を進行する。可動斜入射高反射ミラー９０Ｍが上記第３状態に設定された場合、光ビームＬは第１の光ビームＬ１と第２の光ビームＬ２とに分岐される。この場合も第１の光ビームＬ１は第１の光ビームとしての光路を進行し、第２の光ビームＬ２は第２の光ビームとしての光路を進行する。
　　３．３ 実施形態３の作用・効果
　この実施形態３のビーム伝送システム３２１は、偏光方向回転部５２を１つだけ有するので、偏光方向回転部を２つ設ける場合と比べて装置の簡素化が可能となる。
　この実施形態３によれば、第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２の各直線偏光方向をそれぞれ任意に変更することは困難である。しかし、先に述べた通り、一般にレチクル３３のパターンは、多くのものが、互いに直交する縦線と横線からなるパターンである。そこで、例えば第１の光ビームＬ１の固定された直線偏光方向を、レチクル３３上で上記縦線または横線が伸びる方向と平行に設定しておけば、直線偏光方向の設定において特に問題は生じない。なお、第１の光ビームＬ１の直線偏光方向を上記のように設定するには、具体的に、第１の光ビームＬ１の直線偏光方向がレチクル３３の辺に対して平行あるいは直角となるようにすればよい。これは通常、レチクル３３のパターンの縦線または横線が伸びる方向がレチクル３３の辺と平行になっているからである。
　また、偏光方向回転部５２によって回転された第２の光ビームＬ２の直線偏光方向は、固定である第１の光ビームＬ１の直線偏光方向に対して、レチクル３３上で平行な方向、あるいは直交する方向に設定すればよい。
　そして光ビーム分岐部９０の光路選択機能により、第１の光ビームＬ１あるいは第２の光ビームＬ２だけがＥＵＶ露光装置１３０に伝送される状態と、双方の光ビームＬ１およびＬ２がＥＵＶ露光装置１３０に伝送される状態とを選択的に設定可能となる。
６．実施形態４
　　６．１ 実施形態４の構成
　図２２は、実施形態４に係るビーム伝送システム４２１およびＥＵＶ露光装置１３０の構成を概略的に示す一部破断側面図である。図２２の構成において、図１２に示した構成要素と同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複した説明を省略する。
　この実施形態４のビーム伝送システム４２１は、実施形態１におけるビーム伝送システム１２１とは異なる構成を有する。すなわちビーム伝送システム４２１は、光ビーム分岐部５０を備えていない。
　そしてこの実施形態４では、２つのＦＥＬ装置つまり、第１のＦＥＬ装置１１０および第２のＦＥＬ装置２１０が設けられている。第１のＦＥＬ装置１１０はパルスレーザ光である第１の光ビームＬ１を出力する。第２のＦＥＬ装置２１０もパルスレーザ光である第２の光ビームＬ２を出力する。第２のＦＥＬ装置２１０は、出力する第２の光ビームＬ２が、第１のＦＥＬ装置１１０が出力する光ビームＬ１と平行に進行する状態に配置されている。
　第１の光ビームＬ１の光路には、この第１の光ビームＬ１の直線偏光方向を回転させる第１の偏光方向回転部５１が配されている。また、第２の光ビームＬ２の光路には、この第２の光ビームＬ２の直線偏光方向を回転させる第２の偏光方向回転部５２が配されている。
　なお、このように第１のＦＥＬ装置１１０および第２のＦＥＬ装置２１０が設けられる場合も、図１９に示した構成のように、第１の光ビームＬ１と第２の光ビームＬ２の一方だけの直線偏光方向を回転させるようにしてもよい。
　　６．２ 実施形態４の動作
　第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２はそれぞれ、第１の偏光方向回転部５１、第２の偏光方向回転部５２によって直線偏光方向が回転され得る。そして第１の光ビームＬ１および第２の光ビームＬ２は、図１２の構成におけるのと同様に利用される。
　　６．３ 実施形態４の作用・効果
　本実施形態では、２台のＦＥＬ装置１１０および２１０を用いることにより、光ビーム分岐部が不要となっている。
７．実施形態５
　　７．１ 実施形態５の構成
　図２３は、実施形態５に係るビーム伝送システム５２１およびＥＵＶ露光装置１３０の構成を概略的に示す一部破断側面図である。図２３の構成において、図２２に示した構成要素と同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複した説明を省略する。
　この実施形態５のビーム伝送システム５２１は、実施形態４におけるビーム伝送システム４２１とは異なる構成を有する。すなわちビーム伝送システム５２１は、上記ビーム伝送システム４２１から第１の偏光方向回転部５１および第２の偏光方向回転部５２が省かれた構成となっている。
　　７．２ 実施形態５の動作
　第１のＦＥＬ装置１１０のアンジュレータ１１を制御することにより、第１の光ビームＬ１の直線偏光方向は、レチクル３３上において所望の方向となるように設定される。また第２のＦＥＬ装置２１０のアンジュレータ１１を制御することにより、第２の光ビームＬ２の直線偏光方向は、レチクル３３上において所望の方向となるように設定される。
　　７．３ 実施形態５の作用・効果
　本実施形態では、２台のＦＥＬ装置１１０および２１０を用いることにより、光ビーム分岐部が不要となっている。それに加えて、１つあるいは２つの偏光方向回転部も不要となっている。
８．光ビーム分岐部の変形例１
　　８．１ 光ビーム分岐部の変形例１の構成
　図２４は、本発明のビーム伝送システムに用いられ得る光ビーム分岐部の変形例１を示す一部破断側面図である。この変形例１の光ビーム分岐部は、楔形状斜入射高反射ミラー１２０を含む。この楔形状斜入射高反射ミラー１２０の先端から分かれた２つの反射面、つまり図中の上側および下側の反射面には、ＡｕやＲｕ等の金属膜がコーティングされている。楔形状斜入射高反射ミラー１２０は光ビームＬの光路上において、鋭利な先端側から光ビームＬが入射するように配置される。
　　８．２ 光ビーム分岐部の変形例１の動作
　上記楔形状斜入射高反射ミラー１２０の先端側から入射した光ビームＬは、楔形状斜入射高反射ミラー１２０の図中上側および下側の反射面において反射する。こうして２方向に分岐して反射した光ビームＬは、それぞれ第１の光ビームＬ１、第２の光ビームＬ２として進行する。
　　８．３ 光ビーム分岐部の変形例１の作用・効果
　上記楔形状斜入射高反射ミラー１２０を用いることにより、光ビーム分岐部の構成が簡素化される。
９．光ビーム分岐部の変形例２
　　９．１ 光ビーム分岐部の変形例２の構成
　図２５および図２６はそれぞれ、本発明のビーム伝送システムに用いられ得る光ビーム分岐部の変形例２を示す側面図および上面図である。この変形例２の光ビーム分岐部は、グレーティング１４０を含む。グレーティング１４０は所定の格子ピッチで溝加工された、例えば断面矩形の複数の回折格子を有する。これらの回折格子は、光ビームＬの０次光の発生が抑制される一方、＋１次と－１次の回折光が強め合うような溝深さに形成されている。グレーティング１４０の回折面には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜、あるいはＡｕやＲｕ等の金属膜がコーティングされている。グレーティング１４０は光ビームＬの光路上において、回折面に光ビームＬが入射するように配置される。
　　９．２ 光ビーム分岐部の変形例２の動作
　上記グレーティング１４０の回折面に入射した光ビームＬは、回折面において回折して、＋１次光と－１次光とに分岐される。分岐された光ビームＬは、それぞれ第１の光ビームＬ１、第２の光ビームＬ２として進行する。
１０．偏光方向回転部の変形例１
　　１０．１ 偏光方向回転部の変形例１の構成
　図２７は、本発明のビーム伝送システムに用いられ得る偏光方向回転部の変形例１を示す概略斜視図である。また図２８は、この変形例１の違う状態を示す概略斜視図である。ここで、図２７、図２８に示す偏光方向回転部の状態をそれぞれ第１の状態、第２の状態と称する。なお図２７および図２８は、偏光方向回転部に第１の光ビームＬ１が入射するものとして示している。
　この変形例１の偏光方向回転部は、第１高反射ミラー２０１、第２高反射ミラー２０２、第３高反射ミラー２０３、第４高反射ミラー２０４および第５高反射ミラー２０５を含む。さらにこの偏光方向回転部は、第１高反射ミラー２０１を搭載してこの第１高反射ミラー２０１の位置を変える第１リニアステージ３０１および、第５高反射ミラー２０５を搭載してこの第５高反射ミラー２０５の位置を変える第２リニアステージ３０２を含む。第１リニアステージ３０１および第２リニアステージ３０２は、本開示におけるミラー移動手段を構成する。これらの第１リニアステージ３０１および第２リニアステージ３０２の動作は、ビーム伝送制御部６１によって制御される。
　第１高反射ミラー２０１は、第１の光ビームＬ１をＶ方向に反射させるように配置されている。第２高反射ミラー２０２は、第１の光ビームＬ１をＨ方向に反射させるように配置されている。第３高反射ミラー２０３は、第１の光ビームＬ１をＺ方向に反射させるように配置されている。上記Ｖ方向、Ｈ方向およびＺ方向が、本開示における第１の反射方向、第２の反射方向および第３の反射方向である。
　　１０．２ 偏光方向回転部の変形例１の動作
　図２７に示す偏光方向回転部の第１の状態において、第１の光ビームＬ１は、第１高反射ミラー２０１、第２高反射ミラー２０２および第３高反射ミラー２０３において順次反射する。すなわちこの状態では、第１リニアステージ３０１が第１の位置を取ることにより、第１高反射ミラー２０１が第１の光ビームＬ１の光路に挿入される。また第２リニアステージ３０２が第１の位置を取ることにより、第５高反射ミラー２０５が第１の光ビームＬ１の光路から外される。この状態においては、第１の光ビームＬ１が第２高反射ミラー２０２で反射することにより、第１の光ビームＬ１の直線偏光方向が９０°回転する。
　一方、図２８に示す偏光方向回転部の第２の状態において、第１の光ビームＬ１は、第４高反射ミラー２０４および第５高反射ミラー２０５において順次反射する。すなわちこの状態では、第１リニアステージ３０１が第２の位置を取ることにより、第１高反射ミラー２０１が第１の光ビームＬ１の光路から外される。また第２リニアステージ３０２が第２の位置を取ることにより、第５高反射ミラー２０５が第１の光ビームＬ１の光路に挿入される。この状態において、第１の光ビームＬ１の直線偏光方向は回転しない。
　　１０．３ 偏光方向回転部の変形例１の作用・効果
　以上の通りにして、第１の光ビームＬ１の直線偏光方向を回転させない状態と、第１の光ビームＬ１の直線偏光方向を９０°回転させる状態とを選択的に設定可能となる。
　なお以上の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。したがって、添付の請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
　本明細書および添付の請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」または「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、および添付の請求の範囲に記載される不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」または「１またはそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
１０　　ＦＥＬ装置
１１　　アンジュレータ
２０　　チャンバ
２１、１２１、２２１、３２１、４２１、５２１　　ビーム伝送システム
２２　　開口部
２３　　貫通孔
２４　　集光ミラー
２５　　中間集光点（ＩＦ：Intermediate Focus）
３０　　ＥＵＶ露光装置
３１　　照明光学系
３２　　投影光学系
３３　　レチクル
３４　　ウエハ
３５　　ＦＦＭ：視野ファセットミラー（ＦＦＭ：Field Facet Mirror）
３５ａ　　視野ファセット
３６　　ＰＦＭ：瞳ファセットミラー（ＰＦＭ：Pupil Facet Mirror）
３６ａ　　瞳ファセット
３７　　凹面ミラー
３８　　凹面ミラー
３９　　筐体
５０　　光ビーム分岐部
５０Ｍ　　斜入射高反射ミラー
５１　　第１の偏光方向回転部
５２　　第２の偏光方向回転部
６０　　露光装置制御部
６１　　ビーム伝送制御部
６２　　ＦＥＬ制御部
７０　　傾斜ステージ
７１　　第１高反射ミラー
７３　　第３高反射ミラー
７２　　第２高反射ミラー
７４　　回転部材
７５　　プレート
７６　　第１ミラーホルダ
７７　　第２ミラーホルダ
７８　　モータ
８０　　光学パルスストレッチャ
８５　　第１グレーティング
８６　　第２グレーティング
９０　　偏光方向回転部
９０Ｍ　可動斜入射高反射ミラー
１２０　楔形状斜入射高反射ミラー
１１０　第１のＦＥＬ装置
１２３　　第１の貫通孔
１２４　　第１の集光ミラー
１２５　　第１のＩＦ
１３０　　ＥＵＶ露光装置
１３５　　第１のＦＦＭ
１３６　　ＰＦＭ
１３６ａ　瞳ファセット
１４０　　グレーティング
２０１　　第１高反射ミラー
２０２　　第２高反射ミラー
２０３　　第３高反射ミラー
２０４　　第４高反射ミラー
２０５　　第５高反射ミラー
２１０　　第２のＦＥＬ装置
２２３　　第２の貫通孔
２２４　　第２の集光ミラー
２２５　　第２のＩＦ
２３５　　第２のＦＦＭ
３０１　　第１リニアステージ
３０２　　第２リニアステージ
Ｌ　　光ビーム
Ｌｓ　　光ビームの断面形状
Ｌ１　　第１の光ビーム
Ｌ２　　第２の光ビーム
θ　　　入射角
φ　　回転角度

Claims (20)

  1. 　自由電子レーザ装置から出力される直線偏光した光ビームを露光装置に伝送するビーム伝送システムであって、
    　前記光ビームを第１の光ビームと第２の光ビームとに分岐する光ビーム分岐部と、
    　前記第１の光ビームの直線偏光方向を回転させる第１の偏光方向回転部と、
    を含むビーム伝送システム。
  2. 　前記第２の光ビームの直線偏光方向を回転させる第２の偏光方向回転部をさらに含む請求項１記載のビーム伝送システム。
  3. 　前記光ビーム分岐部は、前記光ビームが斜め入射する状態に配置されて、この光ビームの一部を反射させる斜入射高反射ミラーを含む請求項１記載のビーム伝送システム。
  4. 　前記光ビーム分岐部は、配置位置が変更され得る可動斜入射高反射ミラーであって、前記光ビームが全部斜め入射する状態であってこの光ビームを全部反射させる第１状態と、前記光ビームの光路から退出した第２状態と、前記光ビームの一部が斜め入射する状態であってこの光ビームの一部を反射させる第３状態とのうちの１つを選択的に取り得る可動斜入射高反射ミラーを含む請求項１記載のビーム伝送システム。
  5. 　前記光ビーム分岐部は、楔形状に形成されて楔形の先端から分かれた２つの反射面を有する楔形状斜入射高反射ミラーであって、前記２つの反射面においてそれぞれ前記光ビームを反射させる状態に配置された楔形状斜入射高反射ミラーを含む請求項１記載のビーム伝送システム。
  6. 　前記光ビーム分岐部は、入射した前記光ビームＬを回折させる回折面を有するグレーティングであって、回折した＋１次回折光を前記第１の光ビームとし、回折した－１次回折光を前記第２の光ビームとするグレーティングを含む請求項１記載のビーム伝送システム。
  7. 　前記第１の偏光方向回転部は、前記露光装置の照明面上で、前記第１の光ビームの直線偏光方向が前記第２の光ビームの直線偏光方向に対して９０°の角度をなす状態に前記第１の光ビームの直線偏光方向を回転させる請求項１記載のビーム伝送システム。
  8. 　前記第１の偏光方向回転部および／または前記第２の偏光方向回転部は、前記光ビームを複数回反射させることによって前記光ビームの直線偏光方向を回転させる請求項１記載のビーム伝送システム。
  9. 　前記第１の偏光方向回転部および／または前記第２の偏光方向回転部は、
    　前記光ビームを反射させる第１高反射ミラーと、
    　前記第１高反射ミラーで反射した光ビームを反射させる第２高反射ミラーと、
    　前記第２高反射ミラーで反射した光ビームを反射させる第３高反射ミラーと、
    　前記第１高反射ミラー、第２高反射ミラーおよび第３高反射ミラーを保持して、回転中心の周りに回転する回転部材であって、前記回転中心上を前記第１高反射ミラーに入射する前の前記光ビームが進行する状態に配置された回転部材と、
    を含む請求項８記載のビーム伝送システム。
  10. 　前記第１の偏光方向回転部および／または前記第２の偏光方向回転部は、
    　前記光ビームを第１の反射方向に反射させ得る第１高反射ミラーと、
    　前記第１高反射ミラーで反射した光ビームを、前記第１の反射方向と直交する第２の反射方向に反射させ得る第２高反射ミラーと、
    　前記第２高反射ミラーで反射した光ビームを、前記第１の反射方向および前記第２の反射方向と直交する第３の反射方向に反射させ得る第３高反射ミラーと、
    　前記第１高反射ミラーを、この第１高反射ミラー、前記第２高反射ミラーおよび前記第３高反射ミラーにおいて前記光ビームが順次反射する位置と、これらの順次反射が生じない位置との間で移動させるミラー移動手段と、
    を含む請求項８記載のビーム伝送システム。
  11. 　前記光ビーム、前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームの少なくとも１つの光路に配された光学パルスストレッチャをさらに含む請求項１記載のビーム伝送システム。
  12. 　請求項１記載のビーム伝送システムにより伝送された光ビームにより露光装置の照明面を照明する照明光学系であって、
    　前記第１の光ビームが照射される第１の視野ファセットミラーと、
    　前記第２の光ビームが照射される第２の視野ファセットミラーと、
    　前記第１の視野ファセットミラーを経た前記第１の光ビームおよび、前記第２の視野ファセットミラーを経た前記第２の光ビームが照射される瞳ファセットミラーと、
    を含む照明光学系。
  13. 　前記第１の視野ファセットミラーおよび前記瞳ファセットミラーを経た第１の光ビームの前記照明面上における直線偏光方向と、前記第２の視野ファセットミラーおよび前記瞳ファセットミラーを経た第２の光ビームの前記照明面上における直線偏光方向とが、互いに直交する請求項１２記載の照明光学系。
  14. 　前記第１の視野ファセットミラーおよび前記瞳ファセットミラーを経た第１の光ビームの前記照明面上における直線偏光方向と、前記第２の視野ファセットミラーおよび前記瞳ファセットミラーを経た第２の光ビームの前記照明面上における直線偏光方向とが、互いに平行である請求項１２記載の照明光学系。
  15. 　前記第１の視野ファセットミラーおよび前記瞳ファセットミラーを経た第１の光ビームと、前記第２の視野ファセットミラーおよび前記瞳ファセットミラーを経た第２の光ビームの双方により前記照明面を照明する請求項１２記載の照明光学系。
  16. 　前記第１の視野ファセットミラーおよび前記瞳ファセットミラーを経た第１の光ビームと、前記第２の視野ファセットミラーおよび前記瞳ファセットミラーを経た第２の光ビームの一方により前記照明面を照明する請求項１２記載の照明光学系。
  17. 　前記照明面としてレチクルを照明する請求項１２記載の照明光学系。
  18. 　自由電子レーザ装置から出力される直線偏光した光ビームを露光装置に伝送するビーム伝送システムであって、
    　第１の光ビームを出力する第１の自由電子レーザ装置と、
    　第２の光ビームを出力する第２の自由電子レーザ装置と、
    　前記第１の光ビームの直線偏光方向を回転させる第１の偏光方向回転部と、
    を含むビーム伝送システム。
  19. 　前記第２の光ビームの直線偏光方向を回転させる第２の偏光方向回転部をさらに含む請求項７記載のビーム伝送システム。
  20. 第１の視野ファセットミラーおよび第２の視野ファセットミラーと
    前２つの視野ファセットミラーを経た光を反射する瞳ファセットミラーと、
    を持ち、前記第１の視野ファセットミラーに入射する光と前記第２の視野ファセットミラーにそれぞれ入射する光の偏光方向をそれぞれ独立に制御する制御部と、
    を備える照明光学系を含む露光装置。
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