DE102012209412A1

DE102012209412A1 - Optisches Verfahren und optische Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten zumindest eines Facettenspiegels für EUV-Anwendungen

Info

Publication number: DE102012209412A1
Application number: DE201210209412
Authority: DE
Inventors: Matthias Manger; Daniel Runde; Rolf Freimann
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2012-06-04
Filing date: 2012-06-04
Publication date: 2013-12-05
Also published as: JP2014003290A; JP6297793B2

Abstract

Bei einem optischen Verfahren zum Messen von Winkellagen von Facetten (16, 18) zumindest eines Facettenspiegels (12, 14) eines für EUV-Anwendungen ausgelegten optischen Systems und zum anschließenden Justieren der Winkellagen in Abhängigkeit der gemessenen Winkellagen werden die Facetten (16, 18) des Facettenspiegels (12, 14) mit Messlicht beleuchtet, das von den Facetten (16, 18) reflektierte Messlicht detektiert und zur Erfassung von Ist-Winkellagen ausgewertet. Anschließend werden die Winkellagen bei einer Abweichung der Ist-Winkellagen von Soll-Winkellagen justiert. Das optische Verfahren ist dazu ausgelegt, Ist-Winkellagen der Facetten (16, 18) in einem Spektrum von Winkellagen von zumindest ±10° bezüglich einer Referenzachse zu erfassen. Des Weiteren wird eine optische Messvorrichtung zur Durchführung des Verfahrens beschrieben.

Description

Die Erfindung betrifft ein optisches Verfahren zum Messen von Winkellagen von Facetten zumindest eines Facettenspiegels eines für EUV-Anwendungen ausgelegten optischen Systems und zum anschließenden Justieren der Winkellagen in Abhängigkeit der gemessenen Winkellagen, wobei die Facetten des Facettenspiegels mit Messlicht beleuchtet werden, das von den Facetten reflektierte Messlicht detektiert und zur Erfassung von Ist-Winkellagen ausgewertet wird, und wobei anschließend die Winkellagen bei einer Abweichung der Ist-Winkellagen von Soll-Winkellagen justiert werden.
Die Erfindung betrifft weiterhin eine optische Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten zumindest eines Facettenspiegels eines für EUV-Anwendungen ausgelegten optischen Systems, mit einer Messlichtquelle zum Beleuchten der Facetten des Facettenspiegels mit Messlicht, einem Detektor zum Detektieren des von den Facetten reflektierten Messlichts und einer Auswerteeinheit, die das detektierte Messlicht zur Erfassung von Ist-Winkellagen der Facetten auswertet.
Ein optisches Verfahren und eine optische Messvorrichtung der eingangs genannten Art ist aus dem Dokument WO 2010/008993 A1 bekannt.
In dem vorstehend genannten Dokument ist eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithographie beschrieben, die zur Herstellung von fein strukturierten elektronischen Bauelementen verwendet wird. Mittels der Projektionsbelichtungsanlage wird von einer Strahlungsquelle erzeugte elektromagnetische Strahlung auf ein Retikel gerichtet, das mit feinen Strukturen versehen ist. Das Retikel ist in der Objektebene eines Projektionsobjektivs der Projektionsbelichtungsanlage angeordnet, wobei die Strukturen des Retikels mittels des Projektionsobjektivs auf einen Wafer abgebildet werden, der üblicherweise ein Halbleitermaterial aufweist, und der in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnet ist. Der Wafer ist dabei mit einem strahlungssensitiven Fotolack beschichtet, der durch die Strahlung den Strukturen des Retikels entsprechend belichtet und anschließend entwickelt wird.
Eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithographie arbeitet mit extrem kurzwelliger Strahlung, und zwar mit Strahlung im extremen Ultraviolett, abgekürzt als EUV-Strahlung, deren Wellenlänge bspw. im Bereich von etwa 1 nm bis etwa 50 nm liegt. Eine beispielhafte Wellenlänge beträgt 13 nm.
Da die für die Herstellung von refraktiven optischen Bauelementen, wie Linsen, verfügbaren Materialien gegenüber EUV-Strahlung undurchlässig sind, sind EUV-Projektionsbelichtungsanlagen zumindest überwiegend aus Spiegeln aufgebaut.
In dem Beleuchtungssystem der bekannten Projektionsbelichtungsanlage, d.h. zwischen der Strahlungsquelle und dem Projektionsobjektiv, sind Facettenspiegel enthalten. Ein Facettenspiegel ist ein Spiegel, dessen reflektierende Fläche aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, die in der vorliegenden Beschreibung als Facetten bezeichnet werden, gebildet ist.
An dieser Stelle sei angemerkt, dass Facettenspiegel im Rahmen der vorliegenden Erfindung nicht nur in dem Beleuchtungssystem einer Projektionsbelichtungsanlage verwendet werden können, sondern auch in optischen Systemen für andere EUV-Anwendungen.
Das Beleuchtungssystem der bekannten Projektionsbelichtungsanlage weist zwei Facettenspiegel auf, und zwar einen ersten, der in einer Feldebene angeordnet ist und daher auch als Feldspiegel bezeichnet wird, und einen zweiten, der in einer Pupillenebene des Beleuchtungssystems angeordnet ist, und der entsprechend als Pupillenspiegel bezeichnet wird.
Die beiden Facettenspiegel, das heißt der Feldspiegel und der Pupillenspiegel, dienen im Beleuchtungssystem der Projektionsbelichtungsanlage dazu, die EUV-Strahlung zu homogenisieren bzw. zu mischen. Bei einer mit refraktiven optischen Elementen arbeitenden Projektionsbelichtungsanlage entspricht den Facettenspiegeln üblicherweise eine Wabenkondensoranordnung, die ein oder mehrere Zylinderlinsenarrays aufweist.
Bei Facettenspiegeln für EUV-Anwendungen ist die korrekte Winkellage der einzelnen Facetten jedes Facettenspiegels von Bedeutung für die Qualität der Strahlformung. Dabei ist zu berücksichtigen, dass die einzelnen Facetten eines einzelnen Facettenspiegels relativ zueinander unterschiedliche Winkellagen aufweisen können, und jede Winkellage jeder Facette muss für die ordnungsgemäße Funktion des Facettenspiegels im optischen System korrekt justiert sein.
Daher ist es erforderlich, die Winkellagen der Facetten bei der Herstellung eines Facettenspiegels lagerichtig zu justieren, was eine entsprechende präzise Messung der Winkellagen der einzelnen Facetten voraussetzt.
Bei einer Weiterbildung von Facettenspiegeln sind die einzelnen Facetten verkippbar, um durch Verkippen einzelner oder aller Facetten bspw. ein anderes Beleuchtungssetting während des Betriebs der Projektionsbelichtungsanlage einstellen zu können. Dies ist in dem eingangs genannten Dokument ebenfalls beschrieben. Dort ist auch eine Messvorrichtung offenbart, um die Winkellagen der kippbaren Facetten während des Betriebs des Projektionsbelichtungsobjektivs messen zu können. Dazu weist die bekannte Messvorrichtung für jeden Facettenspiegel eine Messlichtquelle und einen Detektor auf, wobei letzterer als Shack-Hartmann-Sensor ausgebildet ist. Die Messlichtquelle richtet Messlicht dabei auf zumindest einige der Facetten des Facettenspiegels, und der Shack-Hartmann-Sensor empfängt das von den Facetten reflektierte Messlicht. Der Shack-Hartmann-Sensor wandelt das empfangene Messlicht in ein Array von Brennpunkten auf einem ebenen CCD-Array um. Die Positionen der Brennpunkte relativ zu Referenzdaten ergeben dann Daten, die die Winkellagen der Facetten wiedergeben.
An dieser bekannten Messvorrichtung ist nachteilig, dass bei großen Kippwinkeln der einzelnen Facetten das Messlicht nach Reflexion an den Facetten am Shack-Hartmann-Sensor vorbeilaufen kann. Daher ist es notwendig, den Shack-Hartmann-Sensor dicht am Facettenspiegel anzuordnen, was jedoch aus Gründen des verfügbaren Bauraumes schwierig ist, oder in größerer Entfernung einen sehr großen Shack-Hartmann-Sensor anzubringen, was jedoch kostenaufwendig ist und einen großen Bauraum erfordert.
Eine weitere Facettenspiegelanordnung zur Verwendung im Beleuchtungssystem einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage ist in WO 2008/101 656 A2 beschrieben. Dort wird die Herstellung von Facettenspiegeln, insbesondere die Justage der Facetten, beschrieben, jedoch nicht, wie die Winkellagen der einzelnen Facetten gemessen bzw. kontrolliert werden können.
Das Dokument WO 2010/079 133 A2 offenbart Facettenspiegel mit kippbaren Facetten, offenbart jedoch kein Messverfahren zum Messen der Winkellagen der Facetten. Weitere Facettenspiegel mit kippbaren Facetten sind in den Dokumenten WO 03/040796 A1 , US 7,246,909 B2 und DE 102 04 249 A1 beschrieben.
Im Stand der Technik ist den Anforderungen an die hochgenaue Messung und Einstellung der Winkellagen von Facettenspiegeln, seien die Facetten kippbar oder nicht kippbar, nicht in ausreichendem Maße Rechnung getragen worden.
Vor diesem Hintergrund liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein optisches Verfahren und eine optische Messvorrichtung der eingangs genannten Arten dahingehend weiterzubilden, dass eine hochgenaue Messung und Einstellung der Winkellagen von Facettenspiegeln für EUV-Anwendungen durchgeführt werden kann.
Hinsichtlich des eingangs genannten optischen Verfahrens wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass Ist-Winkellagen der Facetten in einem Spektrum von Winkellagen von zumindest ±10° bezüglich einer Referenzachse erfasst werden.
Hinsichtlich der eingangs genannten optischen Messvorrichtung wird die Aufgabe entsprechend dadurch gelöst, dass die Messvorrichtung dazu ausgelegt ist, Ist-Winkellagen der Facetten in einem Spektrum von Winkellagen von zumindest ±10° bezüglich einer Referenzachse zu erfassen.
Das erfindungsgemäße Verfahren und die erfindungsgemäße Messvorrichtung erfüllen somit die Anforderungen an einen großen Messbereich möglicher Facettenwinkellagen, und ermöglichen in diesem Messbereich eine hochgenaue Messung und damit einhergehend eine hochgenaue Justage der Facetten von Facettenspiegeln. Insbesondere ermöglichen das erfindungsgemäße Verfahren und die erfindungsgemäße Vorrichtung die gleichzeitige Messung mehrerer oder sogar aller Facetten eines Facettenspiegels in einem Messvorgang. Die einzelnen Facetten eines Facettenspiegels weisen nämlich, wie bereits eingangs erwähnt, relativ zueinander unterschiedliche Winkellagen bezüglich einer Referenzachse auf, die bspw. die Flächennormale im Zentrum des Grundkörpers des Facettenspiegels ist, wobei diese Winkellagen insgesamt ein Winkelspektrum von zumindest ±10° bezüglich der Referenzachse aufspannen können. Das erfindungsgemäße optische Verfahren und die erfindungsgemäße optische Messvorrichtung schaffen diesen Messbereich bei gleichzeitig hoher Genauigkeit. Die Messgenauigkeit liegt dabei im Bereich von wenigen µrad.
Vorzugsweise werden mit dem erfindungsgemäßen Messverfahren und der erfindungsgemäßen Messvorrichtung Ist-Winkellagen in einem Spektrum von Winkellagen von zumindest ±15°, weiter vorzugsweise von zumindest ±20° erfasst.
Mit dem Messverfahren können die Winkellagen der Facetten bei aus dem optischen System ausgebautem Facettenspiegel gemessen werden, oder die Winkellagen der Facetten werden bei in dem optischen System eingebautem Facettenspiegel gemessen.
Die Messung der Winkellagen der Facetten bei aus dem optischen System ausgebautem Facettenspiegel hat den Vorteil eines einfacheren Aufbaus der Messvorrichtung, die entsprechend in diesem Fall als externer Prüfstand ausgebildet ist. Insbesondere können auf diese Weise Facettenspiegel verschiedener optischer Systeme mittels ein und derselben Messvorrichtung gemessen werden.
Wenn die Winkellagen der Facetten bei in dem optischen System eingebautem Facettenspiegel gemessen werden, hat dies den Vorteil, dass reale Sensitivitäten des optischen Systems in die Messung eingehen, wobei auch Einflüsse des gesamten optischen Systems mit berücksichtigt werden können. Insbesondere kann dadurch ein Zusammenspiel mehrerer Facettenspiegel des optischen Systems berücksichtigt werden, um so sicherzustellen, dass die Facettenspiegel den korrekten Strahlengang der EUV-Strahlung im optischen System formen. Für die Justage der Winkellagen der Facetten des Facettenspiegels wird dieser dann ausgebaut und nach Justage wieder in das optische System eingebaut.
Die Messvorrichtung ist in diesem Fall entsprechend in das optische System integriert oder integrierbar, um die Winkellagen der Facetten bei in dem optischen System eingebautem Facettenspiegel zu messen.
In weiteren Ausführungsformen des Verfahrens werden mehrere, vorzugsweise alle Facetten des Facettenspiegels gleichzeitig mit dem Messlicht beleuchtet, und das von den mehreren, vorzugsweise von allen Facetten reflektierte Messlicht wird gleichzeitig detektiert. Alternativ hierzu ist es auch möglich, die Facetten einzeln und nacheinander mit dem Messlicht zu beleuchten.
Bei der Messvorrichtung beleuchtet entsprechend die Messlichtquelle mehrere, vorzugsweise alle Facetten des Facettenspiegels gleichzeitig mit dem Messlicht, und der Detektor detektiert das von den mehreren, vorzugsweise allen Facetten reflektierte Messlicht gleichzeitig. Alternativ hierzu beleuchtet die Messlichtquelle die Facetten einzeln und nacheinander mit dem Messlicht, wobei die Messlichtquelle und der Detektor gemeinsam verfahrbar sind.
Eine gleichzeitige Messung der Winkellagen mehrerer oder sogar aller Facetten des Facettenspiegels hat den Vorteil, dass die Messung mit geringem Zeitaufwand durchgeführt werden kann, während die Einzelmessung der Winkellagen der Facetten ggf. mit höherer Präzision durchgeführt werden kann.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung des Verfahrens und der Messvorrichtung werden die Winkellagen deflektometrisch gemessen.
Hierbei ist es weiterhin bevorzugt, wenn zusätzlich die Ortslagen der Facetten in Normalenrichtung der Facetten gemessen werden, wozu die Messvorrichtung vorzugsweise zusätzlich einen Abstandssensor zur Messung der Ortslagen der Facetten in Normalenrichtung der Facetten aufweist.
Mit dieser Maßnahme können nicht nur die Winkellagen der Facetten gemessen werden, sondern auch die Position der Facetten in Richtung des Strahlengangs der EUV-Strahlung, wenn der Facettenspiegel in das optische System eingebaut ist.
Im Fall, dass der Facettenspiegel in im optischen System eingebautem Zustand ein Pupillenspiegel einer Spiegelanordnung ist, die zusätzlich einen dem Pupillenspiegel vorgeordneten Feldspiegel aufweist, wobei der Pupillenspiegel zwischen dem Feldspiegel und einer nachgeordneten Feldebene angeordnet ist, wird bei dem Verfahren vorzugsweise das Messlicht von einem Punkt in einer Ebene, die im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung der Feldebene entspricht, ausgehend entlang eines Lichtstrahlengangs, der dem Nutzlichtstrahlengang im Betrieb der Spiegelanordnung entgegengesetzt gleich ist, auf den Pupillenspiegel gerichtet, wobei das von den Facetten des Pupillenspiegels reflektierte Messlicht in einer Messebene aufgefangen wird, deren Orientierung und Lage der Orientierung und Lage des Feldspiegels im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung entspricht.
Die Messlichtquelle der Messvorrichtung ist dazu vorzugsweise eine Punktlichtquelle, die Messlicht von einem Punkt in einer Ebene, die im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung der Feldebene entspricht, ausgehend entlang eines Lichtstrahlengangs, der dem Nutzlichtstrahlengang im Betrieb der Spiegelanordnung entgegengesetzt gleich ist, auf den Pupillenspiegel richtet, wobei ein Mess-Retikel zum Auffangen des von den Facetten des Pupillenspiegels reflektierten Messlichts in einer Messebene angeordnet ist, deren Orientierung und Lage der Orientierung und Lage des Feldspiegels im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung entspricht.
Bei dieser Ausführungsform des Verfahrens und der Messvorrichtung wird somit mit der Messung der partielle Nutzstrahlengang der EUV-Strahlung nachgebildet, das heißt genauer gesagt wird im Fall der Messung der Winkellagen der Facetten des Pupillenspiegels der Nutzstrahlengang rückwärts nachgebildet. Die Facetten des Pupillenspiegels werden dabei von dem Messlicht gemeinsam beleuchtet, und das von den Facetten reflektierte Licht wird auf einem Mess-Retikel aufgefangen, so dass das aufgefangene Messlicht bei korrekter Winkellage der Facetten des Pupillenspiegels ein Lichtpunktemuster ergeben müsste, das der Anordnung der Zentren der Facetten des Feldspiegels entspricht. Weicht dieses Lichtpunktemuster jedoch von der (theoretischen) Lage der Zentren der Facetten des Feldspiegels ab, werden anschließend die Facetten des Pupillenspiegels justiert, bis das Lichtpunktemuster auf dem Mess-Retikel der Anordnung der Zentren des Feldspiegels entspricht.
Entsprechend ist dazu bei dem Messverfahren vorgesehen, dass anhand eines durch die Reflexion des Messlichts an den Facetten des Pupillenspiegels in der Messebene aufgefangenen Ist-Lichtpunktemusters die Ist-Winkellagen des Pupillenspiegels erfasst werden, und durch Abgleich des Ist-Lichtpunktemusters mit einem Soll-Lichtpunktemuster werden Winkelablagen der Facetten des Pupillenspiegels erfasst, um die die Facetten anschließend justiert werden.
Bei der Messvorrichtung detektiert der Detektor entsprechend ein durch die Reflexion des Messlichts an den Facetten des Pupillenspiegels auf dem Mess-Retikel aufgefangenes Ist-Lichtpunktemuster, und die Auswerteeinheit wertet das Ist-Lichtpunktemuster zur Erfassung von Winkelablagen der Facetten des Pupillenspiegels durch Abgleich mit einem Soll-Lichtpunktemuster aus.
Bei der vorstehend genannten Ausführungsform des Messverfahrens und der Messvorrichtung wird als Messlicht vorzugsweise Licht im sichtbaren Spektralbereich verwendet, und als Detektor kann eine Kamera verwendet werden, die das Ist-Lichtpunktemuster aufnimmt. Die Messung der Winkellage der Facetten erfolgt dabei bei aus dem optischen System ausgebautem Pupillenspiegel, während die Messanordnung jedoch so getroffen ist, dass sie den Nutzlichtstrahlengang des optischen Systems zwischen der nachgeordneten Feldebene und dem vorgeordneten Feldspiegel, der bei dieser Vorgehensweise durch das Mess-Retikel ersetzt ist, so identisch wie möglich nachbildet.
Im Fall, dass der Facettenspiegel in im optischen System eingebautem Zustand ein Feldspiegel einer Spiegelanordnung ist, die zusätzlich einen dem Feldspiegel nachgeordneten Pupillenspiegel aufweist, wobei der Feldspiegel zwischen dem Pupillenspiegel und einer vorgeordneten Feldebene angeordnet ist, wird das Messlicht von einem Punkt in einer Ebene, die im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung der Feldebene entspricht, ausgehend entlang eines Lichtstrahlengangs, der gleich dem Nutzlichtstrahlengang im Betrieb der Facettenspiegelanordnung ist, auf den Feldspiegel gerichtet, wobei das von den Facetten des Feldspiegels reflektierte Messlicht in einer Messebene aufgefangen wird, deren Orientierung und Lage der Orientierung und Lage des Pupillenspiegels im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung entspricht.
Bei der Messvorrichtung ist die Messlichtquelle entsprechend vorzugsweise eine Punktlichtquelle, die Messlicht von einem Punkt in einer Ebene, die im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung der Feldebene entspricht, ausgehend entlang eines Lichtstrahlengangs, der gleich dem Nutzlichtstrahlengang im Betrieb der Facettenspiegelanordnung ist, auf den Feldspiegel richtet, wobei ein Mess-Retikel zum Auffangen des von den Facetten des Feldspiegels reflektierten Messlichts in einer Messebene angeordnet ist, deren Orientierung und Lage der Orientierung und Lage des Pupillenspiegels im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung entspricht.
Wie im Falle der Messung der Winkellagen der Facetten des Pupillenspiegels wird bei der vorstehend genannten Ausführungsform des Messverfahrens und der Messvorrichtung auch bei der Messung der Winkellagen der Facetten des Feldspiegels mit der Messanordnung der reale Nutzlichtstrahlengang bei aus dem optischen System ausgebautem Feldspiegel nachgebildet, und im Unterschied zu der Messung der Winkellagen der Facetten des Pupillenspiegels wird hier der Nutzlichtstrahlengang in Vorwärtsrichtung nachgebildet.
Dabei ist es weiter bevorzugt, dass anhand eines durch die Reflexion des Messlichts an den Facetten des Feldspiegels in der Messebene aufgefangenen Ist-Lichtpunktemusters die Ist-Winkellagen der Facetten des Feldspiegels erfasst werden, und durch Abgleich des Ist-Lichtpunktemusters mit einem Soll-Lichtpunktemuster werden Winkelablagen der Facetten des Feldspiegels erfasst, um die die Facetten anschließend justiert werden.
Bei der Messvorrichtung detektiert der Detektor entsprechend ein durch die Reflexion des Messlichts in den Facetten des Feldspiegels auf dem Mess-Retikel aufgefangenes Ist-Lichtpunktemuster, und die Auswerteeinrichtung wertet das Ist-Lichtpunktemuster zur Erfassung von Winkelablagen der Facetten des Feldspiegels durch Abgleich mit einem Soll-Lichtpunktemuster aus.
Alternativ zu den vorstehend genannten Ausführungsformen des Messverfahrens und der Messvorrichtung, bei denen die Winkellagen der Facetten des Facettenspiegels auf dem Prinzip der Nachbildung der partiellen Nutzstrahlengänge in Vorwärts- bzw. Rückwärtsrichtung beruhend gemessen werden, ist in einer weiteren Ausführungsform vorgesehen, dass das Messlicht als Messlichtstrahl mit punktförmigem Querschnitt mittig und mit senkrechtem Einfall einzeln und nacheinander auf die Facetten des Facettenspiegels gerichtet wird, wobei der von der jeweiligen Facette reflektierte Messlichtstrahl als Lichtpunkt detektiert wird, und wobei die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette als Abweichung des Ortes des detektierten Lichtpunktes von einem Referenzort erfasst wird.
Die Messlichtquelle der Messvorrichtung emittiert entsprechend einen Messlichtstrahl mit punktlichtförmigem Querschnitt, der mittig und mit etwa senkrechtem Einfall einzeln und nacheinander auf die Facetten des Facettenspiegels gerichtet wird, wobei der Detektor den von der jeweiligen Facette reflektierten Messlichtstrahl als Lichtpunkt detektiert, und wobei die Auswerteeinheit die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette als Abweichung des Ortes des detektierten Lichtpunktes von einem Referenzort erfasst.
In dieser Ausgestaltung wird die Messung der Winkellagen der Facetten des Facettenspiegels wie bei den vorherigen Ausgestaltungen deflektometrisch durchgeführt, jedoch werden nun die Facetten einzeln und nacheinander von dem Messlicht abgetastet. Das Messlicht wird entsprechend als Messlichtstrahl auf einem Punkt, vorzugsweise dem Scheitelpunkt jeder einzelnen Facette, gerichtet, und der rücklaufende Messlichtstrahl wird, bspw. mittels eines Strahlteilers, dann auf den Detektor gerichtet, wobei die Strahlablage des rückreflektierten Messlichtstrahls gegenüber einer Referenzlage erfasst und daraus die Winkelablage jeder einzelnen Facette erfasst wird. Die Anordnung aus Messlichtquelle und Detektor ist dabei vorzugsweise verfahrbar, um nacheinander alle Facetten abtasten zu können.
Während das zuvor genannte Messprinzip der Nachbildung der partiellen Nutzstrahlengänge den Vorteil hat, dass die Facetten bei der Winkellagenmessung ähnlich wirken wie später beim Betrieb im System, ist dieses Prinzip jedoch nicht Voraussetzung für die Winkellagenmessung. Die Winkellagen sind nämlich auch bei vom Betriebsstrahlengang abweichendem Messstrahlengang bestimmbar.
In einer Abwandlung der vorstehend genannten Ausgestaltung des Verfahrens werden die Winkellagen der Facetten mittels Autokollimation gemessen, wobei das Messlicht einzeln und nacheinander auf die Facetten des Facettenspiegels gerichtet wird, wobei das Messlicht die jeweilige Facette flächig beleuchtet, wobei das von der jeweiligen Facette reflektierte Messlicht nach Fokussierung als Messlichtpunkt detektiert wird, und wobei die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette aus der Verschiebung des Messlichtpunktes gegenüber einem Referenzpunkt erfasst wird.
Die Messvorrichtung weist entsprechend eine Autokollimationsoptik auf, wobei die Messlichtquelle einzeln und nacheinander die Facetten des Facettenspiegels flächig mit Messlicht ausleuchtet, wobei der Detektor das von der jeweiligen Facette reflektierte Messlicht nach Fokussierung durch eine Fokussieroptik als Messlichtpunkt detektiert, und wobei die Auswerteeinheit die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette aus der Verschiebung des detektierten Messlichtpunktes gegenüber einem Referenzpunkt erfasst.
Im Unterschied zu der zuvor genannten Ausgestaltung des Verfahrens und der Messvorrichtung wird jede einzelne Facette nicht punktförmig durch einen Messlichtstrahl abgetastet, sondern jede Facette wird einzeln flächig ausgeleuchtet, und das Messlicht wird auf den Detektor fokussiert. Vorzugsweise weist die Messvorrichtung im Strahlengang des Messlichts eine Zerstreuungslinse auf, wobei die Abweichung des Messlichtpunktes auf dem Detektor gegenüber dem Referenzpunkt proportional zur Verschiebung des Zentrums der Wellenfront des rückreflektierten Messlichts vom Brennpunkt der Zerstreuungslinse ist.
In einer noch weiteren alternativen Ausgestaltung des Verfahrens wird das Messlicht einzeln und nacheinander auf die Facetten gerichtet, das Messlicht von einem Punkt ausgehend zunächst kollimiert und anschließend mit im Wesentlichen senkrechtem Einfall auf die jeweilige Facette fokussiert, das von der jeweiligen Facette rückreflektierte Messlicht wieder kollimiert, und das kollimierte rückreflektierte Messlicht als Kreisscheibe detektiert, und die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette wird als Verschiebung der detektierten Kreisscheibe gegenüber einer Referenzkreisscheibe erfasst.
Bei der Messvorrichtung ist die Messlichtquelle entsprechend als Punktlichtquelle ausgebildet, die das Messlicht einzeln und nacheinander auf die Facetten richtet, wobei im Messlichtstrahlengang ein Kollimator, der das Messlicht kollimiert, und eine Fokussieroptik angeordnet sind, die das Messlicht mit im Wesentlichen senkrechtem Einfall auf die jeweilige Facette fokussiert, wobei das von der jeweiligen Facette rückreflektierte Messlicht von der Fokussieroptik wieder kollimiert wird und der Detektor das kollimierte rückreflektierte Messlicht als Kreisscheibe detektiert, wobei die Auswerteeinheit die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette als Verschiebung der detektierten Kreisscheibe gegenüber einer Referenzkreisscheibe erfasst.
In dieser Ausgestaltung des Verfahrens und der Messvorrichtung werden die Facetten wiederum einzeln und nacheinander punktförmig abgetastet, während das rückreflektierte Messlicht nicht punktförmig auf den Detektor einfällt, sondern das Messlicht wird im parallelen Strahlengang auf den Detektor gerichtet, und zwar in Form einer Kreisscheibe. Aus der Verschiebung der detektierten Kreisscheibe gegenüber einer Referenzkreisscheibe wird dann die Winkelablage der Facette erfasst und der nachfolgenden Justage der Facette zugrunde gelegt.
In einer Weiterbildung der vorstehend genannten Ausgestaltung des Verfahrens wird ein Teil des rückreflektierten Messlichts Weißlicht- oder Farblicht-interferometrisch detektiert, um die Ortslage der jeweiligen Facette in Normalenrichtung der jeweiligen Facette zu messen.
Bei der Messvorrichtung weist die Messlichtquelle dazu vorzugsweise einen verstellbaren Abstandssensor auf.
In der vorstehend genannten Ausgestaltung des Verfahrens und der Messvorrichtung wird die Deflektometrie für die Winkellagenmessung kombiniert mit einer Interferometrie zur Ortslagenbestimmung der jeweiligen Facette. Hierbei ist weiterhin von Vorteil, dass durch Verstellen des Abstandssensors über die gemessene Abstandsänderung die Winkellage der Facette besonders genau bestimmt werden kann. Als Abstandssensor kann ein Weißlichtinterferometrisches Schichtdicken-Messgerät mit Vorschaltkavität verwendet werden, oder es kann ein chromatischer Abstandssensor als Messlichtquelle verwendet werden.
Eine weitere Ausgestaltung des Verfahrens besteht darin, dass die Winkellagen der Facetten nicht deflektometrisch, sondern interferometrisch gemessen werden, wobei das Messlicht durch ein Interferometer einzeln und nacheinander auf die Facetten gerichtet wird, wobei das von der jeweiligen Facette rückflektierte Messlicht als Interferenzmuster detektiert wird, und wobei die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette als Neigungen von Phasenflächen gegenüber einer Referenzphasenfläche erfasst wird.
Bei der Messvorrichtung ist entsprechend ein Interferometer vorhanden, wobei die Messlichtquelle das Messlicht durch das Interferometer einzeln und nacheinander auf die Facetten richtet, wobei der Detektor das von der jeweiligen Facette rückreflektierte Messlicht als Interferenzmuster detektiert, und wobei die Auswerteeinheit die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette als Neigungen von Phasenflächen gegenüber einer Referenzphasenfläche erfasst.
Auch die interferometrische Messung ist für die hochgenaue Messung der Winkellagen der Facetten des Facettenspiegels geeignet. Die Messverhältnisse bei der interferometrischen Messung sind etwa identisch zur Messung mittels Autokollimation, wobei der Unterschied zwischen der interferometrischen Messung und der Messung mittels Autokollimation darin besteht, dass bei der Autokollimation eine Luftbildlage ausgewertet wird, bei der interferometrischen Messung jedoch eine Wellenfrontverkippung. Bei der interferometrischen Messung wird auch nicht, wie bei der Messung mittels Autokollimation, eine Messlichtpunktverschiebung gegenüber einem Referenzpunkt detektiert und zur Auswertung der Ist-Winkellage herangezogen, sondern es werden Neigungen von Phasenflächen gegenüber einer Referenzphasenfläche ausgewertet. Die Neigungen der Phasenflächen sind ein Maß für die Winkellage der gemessenen Facette. Bei der interferometrischen Messung werden die Facetten flächig abgetastet.
Eine weitere Ausgestaltung des Verfahrens, bei der die Messung der Winkellagen der Facetten des Facettenspiegels im im optischen System eingebauten Zustand durchgeführt wird, wird nachfolgend beschrieben.
Diese Ausgestaltung betrifft den Fall, dass der Facettenspiegel in im optischen System eingebautem Zustand ein Pupillenspiegel einer Spiegelanordnung ist, und dass die Spiegelanordnung einen weiteren Facettenspiegel aufweist, der ein Feldspiegel ist, wobei der Pupillenspiegel die Facetten des Feldspiegels einander überlagert in eine Feldebene abbildet, wobei jeder Facette des Feldspiegels zumindest eine Facette des Pupillenspiegels zugeordnet ist, und wobei das Messlicht entlang des Nutzlichtstrahlengangs des optischen Systems auf den Feldspiegel und den Pupillenspiegel gerichtet wird, wobei eine einzelne Facette des Feldspiegels ausgewählt wird, und die Ist-Winkellage der ausgewählten Facette des Feldspiegels und/oder der zugeordneten Facette des Pupillenspiegels als Verschiebung des Bildes der ausgewählten Facette von der Soll-Lage des Bildes in der Feldebene erfasst wird.
Bei der zugehörigen Messvorrichtung richtet die Messlichtquelle das Messlicht entlang des Nutzlichtstrahlengangs des optischen Systems auf den Feldspiegel und den Pupillenspiegel, wobei eine einzelne Facette des Feldspiegels ausgewählt wird, wobei in der Feldebene als Detektor eine Kamera angeordnet ist, die das Bild der ausgewählten Facette aufnimmt, und dass die Auswerteeinheit die Ist-Winkellage der ausgewählten Facette des Feldspiegels und/oder der zugeordneten Facette des Pupillenspiegels als Verschiebung des Bildes der ausgewählten Facette von der Soll-Lage des Bildes in der Feldebene erfasst.
Weiter oben wurde eine Ausgestaltung beschrieben, bei der ein aus dem optischen System ausgebauter Pupillenspiegel oder ein aus dem optischen System ausgebauter Feldspiegel dadurch vermessen wird, dass mit dem Messlicht der Nutzlichtstrahlengang vor bzw. hinter dem Pupillen- bzw. Feldspiegel nachgebildet wurde. Im Unterschied dazu ist in der vorstehend genannten Ausgestaltung sowohl der Pupillenspiegel als auch der Feldspiegel im optischen System eingebaut, und es wird im realen System die Winkellage der Facetten des Pupillenspiegels und/oder der Feldspiegels durch die Erfassung der Lage des Bildes einer ausgewählten Facette des Feldspiegels in der dem Pupillenspiegel nachgeordneten Feldebene gemessen. Dies kann mit einer in oder nahe der Feldebene angeordneten Kamera erfolgen. Das Auswählen einer einzelnen Facette, deren Abbildung in der Feldebene durch die Kamera aufgenommen wird, kann durch Ausblenden der übrigen Facetten mittels einer Blende, oder bei kippbaren Facetten durch Umklappen der anderen Facetten des Feldspiegels durchgeführt werden.
Bei dieser Ausgestaltung des Verfahrens und der Messvorrichtung können reale Sensitivitäten des gesamten optischen Systems und auch der Umgebung des optischen Systems mit berücksichtigt werden, was eine besonders genaue Messung und besonders genaue Justage der Facetten der Facettenspiegel ermöglicht, damit diese den im Betrieb des optischen Systems erforderlichen Strahlengang so genau wie möglich formen können.
Bei dieser Vorgehensweise wird zunächst die Spiegelanordnung, bestehend aus den beiden Facettenspiegeln, montiert und vorjustiert und anschließend in das optische System eingebaut. Im optischen System erfolgt dann die Messung der Winkellagen der einzelnen Facetten und deren Abweichung von den Soll-Winkellagen. Anschließend werden die Facettenspiegel wieder aus dem optischen System ausgebaut und die Facetten werden im Justagestand unter Verwendung der zuvor bestimmten Abweichungen der Winkellagen von den Soll-Winkellagen nachjustiert. Anschließend wird die Spiegelanordnung wieder in das optische System eingebaut.
Ein weiterer Vorteil dieser Vorgehensweise besteht darin, dass auch das Zusammenspiel des Feldspiegels mit dem Pupillenspiegel bei der Messung erfasst und berücksichtigt wird.
In einer Weiterbildung dieser Ausgestaltung wird zusätzlich die Ist-Winkellage der ausgewählten Facette des Feldspiegels und/oder der zugeordneten Facette des Pupillenspiegels als Abweichung der Ist-Ausleuchtung einer Pupillenebene von der Soll-Ausleuchtung der Pupillenebene erfasst.
Bei der Messvorrichtung ist entsprechend ein weiterer Detektor in Form einer Kamera in oder nahe einer Pupillenebene angeordnet, die die Ausleuchtung der Pupillenebene aufnimmt, wobei die Auswerteeinheit die Ist-Winkellage der ausgewählten Facette des Feldspiegels und/oder der zugeordneten Facette des Pupillenspiegels als Abweichung der Ist-Ausleuchtung der Pupillenebene von der Soll-Ausleuchtung der Pupillenebene erfasst.
Auch die Messergebnisse der Ausleuchtung der Pupillenebene werden bei der nachfolgenden Justage der Facetten berücksichtigt.
Diese Vorgehensweise berücksichtigt vorteilhafterweise, dass eine nicht korrekte Winkellage der Facetten des Feldspiegels und des Pupillenspiegels sich in ihrer Wirkung auf eine Verschiebung des Bildes der Facetten des Feldspiegels in der Feldebene äußert. Eine nicht korrekte Winkellage der Facetten des Feldspiegels führt dabei nicht nur zu einer Verschiebung des Bildes in der Feldebene, sondern auch zu einer Verschiebung des ausgeleuchteten Bereichs in der Pupille, das heißt, zu einer Abweichung von der Telezentrie. Aus den Messungen des ausgeleuchteten Bereichs in der Feldebene und in der Pupillenebene von einzelnen Facettenkanälen lässt sich ableiten, wie die Facetten des Feldspiegels und des Pupillenspiegels zueinander orientiert werden müssen.
Das erfindungsgemäße Verfahren gemäß einer oder mehrerer der vorstehend genannten Ausgestaltungen lässt sich auch dann anwenden, wenn die Facetten des zumindest einen Facettenspiegels zumindest zwei diskrete Kippstellungen aufweisen, zwischen denen die Facetten verkippt werden können, oder wenn die Facetten des zumindest einen Facettenspiegels ein kontinuierliches Spektrum von Kippstellungen aufweisen, wobei die Facetten innerhalb des Spektrums der Kippstellungen kontinuierlich verkippt werden können. In diesen beiden Fällen werden die Winkellagen der Facetten für verschiedene mögliche Kippstellungen gemessen. Die Messvorrichtung ist entsprechend dazu ausgelegt, die Winkellagen der Facetten für verschiedene mögliche Kippstellungen zu messen.
Nachfolgend wird eine Ausgestaltung des Verfahrens und der Messvorrichtung beschrieben, die eine Messung der Winkellagen der Facetten für verschiedene mögliche Kippstellungen ermöglicht, auch wenn der Facettenspiegel im optischen System eingebaut ist, ohne dass die eingangs genannten Nachteile der aus dem Dokument WO 2010/008993 A1 bekannten Messvorrichtung auftreten.
Dazu ist in der bevorzugten Ausgestaltung des Verfahrens vorgesehen, dass das Messlicht zunächst auf ein erstes Spiegelarray gerichtet wird, das eine Mehrzahl an ersten Spiegeln aufweist, deren Winkellage verstellbar ist, dass das Messlicht von dem Spiegelarray auf den Facettenspiegel gerichtet wird, und dass das Messlicht von dem Facettenspiegel auf ein zweites Spiegelarray gerichtet wird, das eine Mehrzahl an zweiten Spiegeln aufweist, deren Winkellage verstellbar ist, und dass die ersten Spiegel und die zweiten Spiegel entsprechend der eingestellten Kippstellung der Facetten verkippt werden, um die Verkippung der Facetten bei der Messung der Winkellagen zu kompensieren.
Bei der dazugehörigen Messvorrichtung ist ein erstes Spiegelarray, das eine Mehrzahl an ersten Spiegeln aufweist, deren Winkellage verstellbar ist, und ein zweites Spiegelarray vorhanden, das eine Mehrzahl an zweiten Spiegeln aufweist, deren Winkellage verstellbar ist, sowie eine Steuerung zum Verkippen der ersten Spiegel und der zweiten Spiegel entsprechend der eingestellten Kippstellung der Facetten, um die Verkippung der Facetten bei der Messung der Winkellagen zu kompensieren.
In dieser Ausgestaltung des Verfahrens und der Messvorrichtung wird der Messlichtstrahl bei Einstellung verschiedener Kippstellungen der Facetten, deren Winkellagen gemessen werden sollen, lediglich geringfügig parallel verschoben, mit dem Vorteil, dass die Messlichtquelle sowie der Detektor in größeren Entfernungen zum zu vermessenden Facettenspiegel angeordnet werden können, ohne dass der Detektor wie im Fall der bekannten Messvorrichtung aufgrund dieser größeren Entfernung zum zu vermessenden Facettenspiegel sehr groß ausgeführt werden muss.
Ein weiterer Aspekt des erfindungsgemäßen Verfahrens betrifft die Justage und Fixierung der einzelnen Facetten nach Messung der Winkellagen. Dazu ist in einer Ausgestaltung vorgesehen, dass die Facetten an einem Grundkörper des Facettenspiegels einzeln verschwenkbar angeordnet sind, wobei die Facetten jeweils einen durch den Grundkörper durchgeführten Schaft aufweisen, auf dem eine Zentrierhülse und eine Mutter sitzt, wobei zwischen der Zentrierhülse und dem Grundkörper eine Tellerfeder mit einer Mehrzahl an Federbeinen angeordnet ist, wobei zum Justieren der Winkellage der jeweiligen Facette bei angezogener Mutter der Schaft durch Verschiebung der Tellerfeder relativ zum Grundkörper verschwenkt wird, wobei gegebenenfalls die justierte Winkellage anschließend mit einem Fixiermittel, bspw. Klebstoff, fixiert wird.
Ein Aufbau des Facettenspiegels, bei dem die Facetten jeweils einen durch den Grundkörper durchgeführten Schaft aufweisen, auf dem eine Zentrierhülse und eine Mutter sitzt, ist zwar prinzipiell in dem Dokument WO 2008/101 565 A2 beschrieben, jedoch ist dort die Justage der Facetten nicht erwähnt. Bei der zuvor genannten Ausgestaltung wird eine einfache Justage durch Verschiebung der Tellerfeder bei angezogener Mutter ermöglicht, wobei die Tellerfeder unter Reibung gegen den Grundkörper hinreichend selbstfixiert ist, wobei diese Fixierung ggf. durch ein Fixiermittel noch verbessert werden kann, bspw. mittels Klebstoff.
Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Facettenspiegelanordnung in einer Beleuchtungseinrichtung einer Masteninspektionsanlage für die EUV-Lithographie verwendet.
Eine Maskeninspektionsanlage ist in dem Dokument WO 2009/118130 beschrieben. Die Maskeninspektionsanlage weist ein Mikroskop auf, das eine Abbildungsoptik aufweist. Das Beleuchtungssystem zur Beleuchtung der Maske ist dort als Spiegeloptik ohne nähere Spezifikation offenbart. Die Verwendung einer Facettenspiegelanordnung, vorzugsweise einer solchen, die ausgehend von der Lichtquelle einen Feldfacettenspiegel und einen Pupillenfacettenspiegel aufweist, in der Beleuchtungsoptik hat den Vorteil einer homogenen Ausleuchtung der Maske. Die Maske befindet sich dabei vorzugsweise in der Feldebene, in die die Facetten des Feldfacettenspiegels abgebildet werden. Ein weiterer Vorteil der Verwendung einer Facettenspiegelanordnung in einer Beleuchtungseinrichtung einer Maskeninspektionsanlage für die EUV-Lithographie besteht darin, dass über die Facettenspiegelanordnung die Maske mit einem größeren Feld beleuchtet werden kann.
In einer bevorzugten Ausgestaltung der vorstehend genannten Verwendung weist die Facettenspiegelanordnung einen ersten Facettenspiegel, der eine Vielzahl von ersten Facetten aufweist, und zumindest einen zweiten Facettenspiegel auf, der eine Vielzahl von zweiten Facetten aufweist.
Vorzugsweise sind die ersten Facetten langgestreckt bogenförmig ausgebildet, und/oder die zweiten Facetten sind vorzugsweise stempelförmig ausgebildet.
Weiter vorzugsweise ist der erste Facettenspiegel in einer zu einer Feldebene, in der eine zu inspizierende Maske angeordnet ist, konjugierten Ebene und der zumindest eine zweite Facettenspiegel in einer zu einer Pupillenebene konjugierten Ebene angeordnet.
Weitere Vorteile und Merkmale ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung und der beigefügten Zeichnung.
Es versteht sich, dass die vorstehend genannten und nachstehend noch zu erläuternden Merkmale nicht nur in der jeweils angegebenen Kombination, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung verwendbar sind, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden mit Bezug auf diese noch näher beschrieben. Es zeigen:
1 eine Spiegelanordnung mit zwei Facettenspiegeln in einer schematischen Darstellung;
2 einen der beiden Facettenspiegel von 1 in Alleinstellung sowie eine einzelne Facette des Facettenspiegels;
3 eine Prinzipdarstellung eines optischen Verfahrens zum Messen von Winkellagen von Facetten eines der beiden Facettenspiegel in 1;
4 eine optische Messvorrichtung in einer schematischen Darstellung zur Durchführung des Verfahrens in 3;
5 eine Prinzipdarstellung eines optischen Verfahrens zum Messen von Winkellagen von Facetten des anderen Facettenspiegels in 1;
6 eine optische Messvorrichtung zur Durchführung des Verfahrens in 5;
7 eine Prinzipdarstellung eines optischen Verfahrens und einer optischen Messvorrichtung zum Messen Winkellagen von Facetten eines Facettenspiegels gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel;
8 eine Prinzipdarstellung eines optischen Verfahrens und einer optischen Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten eines Facettenspiegels gemäß einem noch weiteren Ausführungsbeispiel;
9 eine Prinzipdarstellung eines optischen Verfahrens und einer optischen Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten eines Facettenspiegels gemäß einem noch weiteren Ausführungsbeispiel;
10 eine Prinzipdarstellung eines optischen Verfahrens und einer optischen Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten eines Facettenspiegels gemäß einem noch weiteren Ausführungsbeispiel;
11 eine Prinzipdarstellung eines optischen Verfahrens und einer optischen Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten eines Facettenspiegels gemäß einem noch weiteren Ausführungsbeispiel;
12 eine Prinzipdarstellung eines optischen Verfahrens und einer optischen Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten eines Facettenspiegels gemäß einem noch weiteren Ausführungsbeispiel;
13A die Spiegelanordnung in 1, wobei die Facetten der beiden Facettenspiegel einen ordnungsgemäßen Strahlengang formen;
13B dieselbe Spiegelanordnung in 13A, wobei nun die Facetten der Facettenspiegel einen nicht ordnungsgemäßen Strahlengang formen;
14 ein Flussdiagramm eines Verfahrens zum Messen von Winkellagen von Facetten zumindest eines Facettenspiegels, wenn dieser im optischen System eingebaut ist;
15 eine Prinzipdarstellung eines Justageschrittes zum Justieren der Winkellage einer Facette eines ausschnittsweise dargestellten Facettenspiegels;
15A Draufsicht einer Teilansicht von 15
16 eine Prinzipdarstellung eines optischen Verfahrens zum Messen der Winkellage einer Facette, die unterschiedliche Kippstellungen einnehmen kann;
17 eine Prinzipdarstellung eines optischen Verfahrens und einer optischen Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten eines Facettenspiegels, wobei die Facetten verschiedene Kippstellungen einnehmen können;
18 eine Prinzipdarstellung einer Verwendung einer Spiegelanordnung gemäß 1 in einer Maskeninspektionsanlage gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel; und
19 eine Prinzipdarstellung einer Verwendung einer Spiegelanordnung gemäß 1 in einer Maskeninspektionsanlage gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel.
In 1 ist zunächst beispielhaft eine Spiegelanordnung 10 dargestellt, die einen ersten Facettenspiegel 12 und einen zweiten Facettenspiegel 14 aufweist. Die Spiegelanordnung 10 wird in einem für EUV-Anwendungen ausgelegten optischen System verwendet, das bspw. ein Beleuchtungssystem einer Projektionsbelichtungsanlage ist, oder ein Beleuchtungssystem einer Maskeninspektionsanlage, wie später noch beschrieben wird. Ein Beispiel eines Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithographie ist bspw. in 1 in dem Dokument WO 2010/079133 A2 beschrieben, auf das für eine Beschreibung eines Beleuchtungssystems einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage verwiesen wird.
Der Facettenspiegel 12 weist eine Vielzahl von Facetten 16 auf, die im gezeigten Ausführungsbeispiel langgestreckt bogenförmig ausgebildet sind. Diese Form der Facetten 16 ist jedoch nur beispielhaft zu verstehen. In 1 sind nur einige wenige der Facetten 16 gezeigt. Die Anzahl an Facetten 16 ist in der Praxis wesentlich höher und kann über 100, oder sogar über 300 betragen.
Der Facettenspiegel 14 weist eine Vielzahl von Facetten 18 auf, die im gezeigten Ausführungsbeispiel in Form von kleinen Stempeln ausgebildet sind, was wiederum nur als Beispiel zu verstehen ist.
Die Facetten 16 des Facettenspiegels 12 sind auf einem Grundkörper 17 angeordnet, und die Facetten 18 des Facettenspiegels 14 sind auf einem Grundkörper 19 angeordnet.
In 1 sind beispielhaft ein paar Nutzlichtstrahlen 20 eingezeichnet, die den EUV-Nutzlichtstrahlengang veranschaulichen, wenn die Spiegelanordnung 10 in einem optischen System eingebaut und im Betrieb ist. Die Nutzlichtstrahlen 20 gehen hier von einer ersten Feldebene F₁ (Zwischenfokus) aus, werden dann von den Facetten 16 des Facettenspiegels 12 auf die Facetten 18 des Facettenspiegels 14 reflektiert. Von den Facetten 18 des Facettenspiegels 14 werden die Nutzlichtstrahlen 20 in eine zweite Feldebene F₂ gerichtet. In der zweiten Feldebene F₂ entsteht dabei ein Bild 22 der Facetten 16 des Facettenspiegels 12, wobei genauer gesagt in der Feldebene F₂ die Bilder aller Facetten 16 einander überlagert entstehen, wenn die Facetten 16 und die Facetten 18 hinsichtlich ihrer Winkellagen lagerichtig positioniert sind.
Zwischen den Facetten 16 des Facettenspiegels 12 und den Facetten 18 des Facettenspiegels 14 besteht eine eindeutige Zuordnung, das heißt, jeder Facette 16 des Facettenspiegels 12 ist eine bestimmte Facette 18 des Facettenspiegels 14 zugeordnet. In 1 ist dies für eine Facette 16a und eine Facette 16b des Facettenspiegels 12 und eine Facette 18a und eine Facette 18b des Facettenspiegels 14 gezeigt. Diejenigen Nutzlichtstrahlen 20, die von der Facette 16a reflektiert werden, treffen mit anderen Worten genau auf die Facette 18a, und diejenigen Nutzlichtstrahlen, die von der Facette 16b reflektiert werden, treffen auf die Facette 18b, usw. In diesem Fall besteht eine 1:1-Zuordnung zwischen den Facetten 16 des Facettenspiegels 12 und den Facetten 18 des Facettenspiegels 14.
Abweichend von einer 1:1-Zuordnung zwischen den Facetten 16 und 18 ist es jedoch auch möglich, dass jeder Facette 16 mehr als eine Facette der Facetten 18 zugeordnet ist. Dies ist dann der Fall, wenn die Facetten 16 verkippbar sind, das heißt verschiedene Kippstellungen einnehmen können, so dass in einer ersten Kippstellung jeder Facette 16 eine erste Facette der Facetten 18 zugeordnet ist, und in einer anderen Kippstellung entsprechend eine andere Facette der Facetten 18. Allgemein ist eine 1:n-Zuordnung (n ist eine natürliche Zahl) zwischen den Facetten 16 und den Facetten 18 möglich, je nach dem wie viele Stellungen die Facetten 16 einnehmen können.
In dem gezeigten Ausführungsbeispiel der Spiegelanordnung 10 ist der erste Facettenspiegel 12 zu der Feldebene F₂ konjugiert und wird daher auch als Feldspiegel bezeichnet. Demgegenüber ist der zweite Facettenspiegel 14 zu einer Pupillenebene konjugiert und wird daher auch als Pupillenspiegel bezeichnet.
Die Feldebene F₂ ist im Fall, dass die Spiegelanordnung 10 in einem Beleuchtungssystem einer Projektionsbelichtungsanlage verwendet wird, die Ebene, in der das Retikel, dessen Muster auf einem Wafer abgebildet werden soll, angeordnet ist. Im Fall der Verwendung des Spiegelanordnung 10 in einer Maskeninspektionsanlage ist die Feldebene F₂ die Ebene, in der die zu inspizierende Maske angeordnet ist.
Die Facettenspiegel 12 und 14 formen einen ordnungsgemäßen Strahlengang der EUV-Strahlung (Nutzlichtstrahlen 20), wenn alle Facetten 16, die von den Nutzlichtstrahlen 20 getroffen werden, bezüglich eines Zentrums Z zentriert einander überlagert in der Feldebene F₂ als das Bild 22 abgebildet werden.
Für die Formung des ordnungsgemäßen Strahlengangs der EUV-Nutzstrahlung ist es wichtig, dass die Winkellagen der Facetten 16 und/oder der Facetten 18 korrekt sind, das heißt die Facetten 16 und die Facetten 18 lagerichtig orientiert sind. Insbesondere ist die duldbare Toleranz der Winkellagen der Facetten 18 des Pupillenspiegels 14 sehr gering, aber auch die Winkellagen der Facetten 16 müssen in Spezifikation sein.
Es ist daher wichtig, die einzelnen Winkellagen der Facetten 16 und die einzelnen Winkellagen der Facetten 18 zum einen präzise zu messen, und zum anderen anhand der Messergebnisse präzise zu justieren.
In 2 ist der Facettenspiegel 14 nochmals in Alleinstellung gezeigt.
Eine Schwierigkeit der hochgenauen Messung der Winkellagen der Facetten 18 des Facettenspiegels 14, und das Gleiche gilt für die Messung der Winkellagen der Facetten 16 des Facettenspiegels 12, besteht darin, dass die Facetten 18 bzw. 16 auf dem jeweiligen Grundkörper 19 bzw. 17 nicht von Facette 18 zu Facette 18 bzw. von Facette 16 zu Facette 16 gleich sind, sondern dass die Winkellagen über die Facetten 18 verteilt bzw. über die Facetten 16 verteilt in einem Spektrum von Winkellagen liegen, das eine Bandbreite von 2_max von zumindest ±10° bezüglich einer Referenzachse 24, die bspw. die Flächennormale des Grundkörpers 17 ist, aufweist. In dem gezeigten Ausführungsbeispiel beträgt die Bandbreite 2_max des Spektrums der Winkellagen für den Facettenspiegel 14 ≈ 13° und für den Facettenspiegel 12 beträgt die Bandbreite 2_max des Spektrums von Winkellagen ≈ 16°. Die nachfolgend zu beschreibenden optischen Verfahren und optischen Messvorrichtungen zum Messen der Winkellagen der Facetten 16 bzw. 18 der Facettenspiegel 12 bzw. 14 sind entsprechend dazu ausgelegt, Ist-Winkellagen der Facetten 16 bzw. 18 in einem Spektrum von Winkellagen von zumindest ±10° bezüglich der Referenzachse 24 zu erfassen, weiter vorzugsweise in einem Spektrum von Winkellagen von ±15°, weiter vorzugsweise von zumindest ±20° zu erfassen. Die vorgeschlagenen Verfahren und Messvorrichtungen sind nicht nur dazu ausgelegt, diesen relativ großen Messbereich zu erfassen, sondern gleichzeitig auch eine hohe Messgenauigkeit in diesem Messbereich zu liefern.
Eine weitere Herausforderung an ein Messverfahren und eine Messvorrichtung ergibt sich dann, wenn es gewünscht ist, die Winkellagen aller Facetten 16 des Facettenspiegels 12 und/oder aller Facetten 18 des Facettenspiegels 14 gleichzeitig zu messen. Eine solche Messung aller Facetten 16 bzw. aller Facetten 18 gleichzeitig stellt in Anbetracht der Durchmesser der Facettenspiegel 12 bzw. 14 eine Herausforderung dar, da bspw. der Durchmesser des Facettenspiegels 12 ≈ 550 mm und der Durchmesser des Facettenspiegels 14 ≈ 200 mm beträgt.
Die Messung muss auch die Krümmungsradien der einzelnen Facetten 16 bzw. 18 berücksichtigen, die im Falle des Facettenspiegels 12 ≈ 1040 mm und im Falle des Facettenspiegels 14 ≈ 1100–1200 mm betragen.
Die Messgenauigkeit der Messung der Winkellagen der Facetten 16 bzw. 18 soll dabei wenige µrad betragen.
Nachfolgend werden verschiedene Ausführungsbeispiele von optischen Verfahren und optischen Messvorrichtungen zum Messen von Winkellagen der Facetten 16 bzw. 18 beschrieben, die die vorstehend genannten Anforderungen erfüllen können.
Mit Bezug auf 3 bis 6 werden nachfolgend optische Verfahren und optische Messvorrichtungen zum Messen von Winkellagen der Facetten 16 bzw. 18 der Facettenspiegel 12 bzw. 14 beschrieben, die auf dem Prinzip beruhen, dass der Nutzstrahlengang der EUV-Strahlung, wie er in 1 anhand weniger Nutzstrahlen 20 veranschaulicht ist, im Falle des Facettenspiegels 14 ausgehend von der Feldebene F2 in Rückwärtsrichtung partiell nachgebildet wird, und im Fall des Facettenspiegels 12 ausgehend von der Feldebene F1 in Vorwärtsrichtung partiell nachgebildet wird.
3 zeigt, wie auf vorstehend beschriebene Weise die Winkellagen der Facetten 18 des Facettenspiegels 14 (Pupillenspiegel) auf dem vorstehend genannten Prinzip beruhend gemessen werden können.
Für die Messung der Winkellagen der Facetten 18 des Facettenspiegels 14 (Pupillenspiegel) ist der Facettenspiegel 14 aus dem optischen System, in dem er im Betrieb des optischen Systems verwendet wird, ausgebaut.
In einer Ebene F₂, die im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung 10 der Feldebene F₂ gemäß 1 entspricht, wird von einem Punkt 26 ausgehend Messlicht 28, bspw. Licht im sichtbaren Spektralbereich, ausgesandt. Der Punkt 26 entspricht dabei der Lage des Zentrums Z des Bildes 22 in 1. In 3 ist eine entsprechende Messlichtquelle 27 gezeigt. Das Messlicht 28 wird dem Nutzlichtstrahlengang in 1 zwischen dem Facettenspiegel 14 und der Feldebene F₂ in umgekehrter Richtung folgend, das heißt in Rückwärtsrichtung, auf den Facettenspiegel 14 gerichtet, wobei das Messlicht 28 auf einige oder alle Facetten 18 des Facettenspiegels 14 gleichzeitig gerichtet wird. Der Messlichtstrahl 28 ist entsprechend zwischen dem Punkt 26 und dem Facettenspiegel 14 divergent. Das von den Facetten 18 des Facettenspiegels 14 reflektierte Licht wird in einer Messebene 30, deren Orientierung und Lage der Orientierung und Lage des Facettenspiegels 12 in 1 entspricht, wenn die Spiegelanordnung 10 im optischen System eingebaut wäre, aufgefangen. In der Messebene 30 ist dazu ein Mess-Retikel 32 angeordnet.
In der Messebene 30 entsteht aufgrund der Reflexion des Messlichts 28 an den Facetten 18 ein Ist-Lichtpunktemuster 34, das eine Vielzahl von Lichtpunkten aufweist, die, wenn die Winkellagen der Facetten 18 korrekt sind, den Mittelpunkten der Facetten 16 des Facettenspiegel 12 entsprechen müsste. Entsprechend wird das Ist-Lichtpunktemuster 34 zur Erfassung der Ist-Winkellagen der Facetten 18 des Facettenspiegels 14 dahingehend ausgewertet, ob dieses Ist-Lichtpunktemuster von einem Soll-Lichtpunktemuster abweicht. Weichen einzelne Ist-Lichtpunkte von der Lage der Soll-Lichtpunkte ab, bedeutet dies, dass einzelne Facetten 18 des Facettenspiegels 14 eine Winkelablage bezüglich ihrer Soll-Winkellage aufweisen. Diejenigen Facetten 18, die eine Winkelablage von ihrer Soll-Winkellage aufweisen, werden dann anschließend justiert, bis das Ist-Lichtpunktemuster mit dem Soll-Lichtpunktemuster so gut wie möglich übereinstimmt.
4 zeigt eine Messvorrichtung 40, mit der das Messverfahren gemäß 3 durchgeführt werden kann. Die optische Messvorrichtung 40 weist einen Rahmen 42 auf, an der die Messlichtquelle 27, die als Punktlichtquelle ausgebildet ist, der Facettenspiegel 14, das Mess-Retikel 32 und ein Detektor 44 in Form einer Kamera 46 gehalten sind. Die Kamera 46 ist dabei an dem Rahmen 42 verfahrbar gehalten, damit die Kamera 46 das Mess-Retikel 32 zum Detektieren des Ist-Lichtpunktemusters 34 erfassen kann. Dazu ist die Kamera 46 an einem zweidimensional verfahrbaren Tisch 48 angeordnet, der relativ zu dem Rahmen 42 verfahrbar ist, und zwar in zwei zueinander senkrechten Richtungen parallel zur Ebene des Mess-Retikels 32.
Unterhalb des Facettenspiegels 14 befindet sich des Weiteren eine Justage-Manipulatorik 50, die die Facetten 18 des Facettenspiegels 14 anhand des Ergebnisses der Auswertung des Abgleichs des Ist-Lichtpunktemusters 34 mit einem Soll-Lichtpunktemuster um die so ermittelten Winkelablagen der Facetten 18 justiert, das heißt korrigiert. Die Messvorrichtung 40 weist auch eine Auswerteeinheit auf, die nicht im Einzelnen dargestellt ist, die die Auswertung des Ist-Lichtpunktemusters durchführt und ggf. anhand der Auswertung die Justage-Manipulatorik steuert.
In 4 ist im rechten Teilbild das Mess-Retikel 32 zusammen mit der Kamera 46 isoliert dargestellt. Das Mess-Retikel 32 weist ein Substrat 52, einen weißen Siebdruck 54 und Chromschichtabschnitte 56 auf, wobei letztere als Referenzmarker dienen.
Am Objektiv der Kamera 46 kann ein LED-Ringlicht um das Objektiv der Kamera 46 angeordnet sein, um die Referenzmarker auf dem Mess-Retikel 32 sichtbar zu machen.
Die Messgenauigkeit der Messvorrichtung 40 bzw. des Verfahrens gemäß 3 wird durch die Topografie des Mess-Retikels 32, die Starrkörperlagen des Facettenspiegels 14, des Mess-Retikels 32 und der Messlichtquelle 27, die Schreibgenauigkeit des Mess-Retikels 32, die Definiertheit der Messlichtquelle 27 und die Definiertheit des Facettenrandes der Facetten 18 des Facettenspiegels 14 bestimmt. Die Einbaulage des Facettenspiegels 14 in der Messvorrichtung 40 muss in Bezug auf die Messlichtquelle 27 und das Mess-Retikel 32 der Einbaulage im optischen System, in dem der Facettenspiegel 14 verwendet wird, möglichst genau entsprechen.
5 zeigt nun das zu dem Verfahren gemäß 3 analoge Verfahren zum Messen der Winkellagen der Facetten 16 des Facettenspiegels 12, bei dem ebenfalls die Messung auf dem Prinzip der Nachbildung des Nutzlichtstrahlengangs beruht. Hierzu wird von einem Punkt 60 ausgehend, dessen Position dem Zwischenfokus F₁ in 1 entspricht, Messlicht 62, bspw. im sichtbaren Spektralbereich, auf den Facettenspiegel 12 (Feldspiegel) gerichtet, wobei das Messlicht 62 dem Nutzlichtstrahlengang (Nutzlichtstrahlen 20) in 1 entsprechend auf die Facetten 16 des Facettenspiegels 12 gerichtet wird, von diesem entsprechend dem Nutzlichtstrahlengang in 1 reflektiert und das reflektierte Messlicht 62 in einer Messebene 64 auf einem Mess-Retikel 66 aufgefangen wird, deren Lage und Orientierung der Lage und Orientierung des Facettenspiegels 14 entspricht, wenn die Spiegelanordnung 10 im optischen System eingebaut wäre.
In der Messebene 64 wird ein Ist-Lichtpunktemuster 65 aufgefangen, das durch die Reflexion des Messlichts 32 an den Facetten 16 des Facettenspiegels 12 auf dem in der Messebene 64 angeordneten Mess-Retikel 66 entsteht, und das entsprechend mit einem Soll-Lichtpunktemuster abgeglichen wird, um Winkelablagen der Facetten 16 von ihrer Soll-Winkellage zu erfassen, um die die Facetten 16 anschließend justiert werden.
6 zeigt eine Vorrichtung 70 zum Messen der Winkellagen der Facetten des Facettenspiegels 12 zur Durchführung des Verfahrens gemäß 5. Die Messvorrichtung 70 weist einen Rahmen 72 auf, an dem eine Messlichtquelle 74, der Facettenspiegel 12, das Mess-Retikel 66 und ein Detektor 76 in Form einer Kamera 78 gehalten sind. Die Messvorrichtung 70 weist weiterhin einen Scheinwerfer, bspw. LED-Scheinwerfer 80, zur Sichtbarmachung von Referenzmarkern auf dem Mess-Retikel 66 auf.
Das Mess-Retikel 66 ist wie das Mess-Retikel 32 in 4 ausgebildet.
Die Faktoren, die die Messgenauigkeit der Messvorrichtung 70 bestimmen, sind mit den Faktoren, die die Messgenauigkeit der Messvorrichtung 40 bestimmen, gleich oder zumindest ähnlich.
Die zuvor mit Bezug auf 3 bis 6 beschriebenen Messverfahren und Messvorrichtungen arbeiten deflektometrisch.
Nachfolgend werden weitere deflektometrische Verfahren zum Messen von Winkellagen von Facetten von Facettenspiegeln beschrieben, die sich von den Messverfahren und Messvorrichtungen gemäß 3 bis 6 dadurch unterscheiden, dass die Facetten eines Facettenspiegels einzeln und nacheinander gemessen werden.
7 zeigt schematisch eine Messvorrichtung 90 zum Messen der Winkellage einer Facette 18 des Facettenspiegels 14 in 1, wobei in 7 nur eine einzelne Facette 18 des Facettenspiegels 14 dargestellt ist. Es versteht sich, dass mit der Messvorrichtung 90 auch eine Facette 16 des Facettenspiegels 12 gemessen werden kann. Die Messvorrichtung 90 weist eine Messlichtquelle 92, einen Strahlteiler 94, einen Detektor 96, eine Auswerteeinheit 98, die bspw. einen Monitor 100 umfasst, auf. Die Messlichtquelle 92 erzeugt einen Messlichtstrahl 102 mit punktförmigem Querschnitt, der unter etwa senkrechtem Einfall und etwa mittig auf die Facette 18 gerichtet wird. Der Messlichtstrahl 102 definiert eine Messrichtung k, wobei in 7 die zur Messrichtung k senkrechten Richtungen w und v ebenfalls als Pfeile eingezeichnet sind. Ein Pfeil n bezeichnet die Normalenrichtung der Facette 18.
Ist die Winkellage der Facette 18, das heißt die Normalenrichtung n, gegenüber der Messrichtung k verkippt, wird der Messlichtstrahl 102 bei Reflexion an der Facette 18 nicht in sich zurückreflektiert, sondern der rückreflektierte Messlichtstrahl 102' wird unter einem Winkel β zur Messrichtung k zurückreflektiert. Der rückreflektierte Messlichtstrahl 102' wird an dem Strahlteiler 94 auf den Detektor 96 reflektiert, und zwar trifft der Messlichtstrahl 102' als Lichtpunkt 104 auf den Detektor 96 auf. Mit 106 ist ein Lichtpunkt bezeichnet, der auf dem Detektor 96 entstehen würde, wenn die Normalenrichtung n der Facette 18 gegenüber der Messrichtung k nicht verkippt wäre, das heißt, wenn β = 0° gelten würde. Die Winkellage der Facette 18 ergibt sich somit aus der Lichtpunktverschiebung des Lichtpunktes 104 gegenüber dem Referenzort des Lichtpunktes 106, wobei diese Lichtpunktverschiebung auf dem Monitor 100 dargestellt wird. Die Ist-Winkellage der Facette 18 wird als Abweichung des Ortes des detektierten Lichtpunktes 104 von dem Referenzort des Lichtpunktes 106 erfasst. Die Facette 18 wird entsprechend der gemessenen Winkelablage anschließend in die Soll-Winkellage justiert.
Es versteht sich, dass die Winkelablage der Facette 18 räumlich erfasst wird, das heißt, es werden auch die Winkelablagenkomponenten in Richtung der Raumrichtungen w und v erfasst.
8 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines deflektometrischen Messverfahrens und einer Messvorrichtung 110 zum Messen der Winkellagen von Facetten eines Facettenspiegels, wobei wie bei dem vorhergehenden Ausführungsbeispiel gemäß 7 die Facetten 18 des Facettenspiegels 14 (oder in gleicher Weise die Facetten 16 des Facettenspiegels 12) einzeln und nacheinander vermessen werden. Das Messverfahren und die Messvorrichtung 110 gemäß 8 beruhen wie das Messverfahren und die Messvorrichtung 90 gemäß 7 auf dem Prinzip der Strahlablenkung, wobei das Messverfahren und die Messvorrichtung 110 gemäß 8 speziell auf dem Prinzip der Autokollimation beruhen.
Die Messvorrichtung 110 weist ein Autokollimationsfernrohr auf, das eine Zerstreuungslinse 114 und eine Sammellinse 116 aufweist. Die Messvorrichtung 110 weist weiterhin einen Detektor 118, eine Auswerteeinheit 120, die einen Monitor 122 umfasst, auf. Ein Pfeil k bezeichnet die Messrichtung, und Pfeile w und v die dazu senkrechten Raumrichtungen.
Messlicht 124 einer nicht dargestellten Messlichtquelle, die zum Autokollimationsfernrohr 112 gehört, wird im Unterschied zu dem Ausführungsbeispiel in 7 flächig auf die Facette 18 gerichtet, und zwar in der Messrichtung k. Das von der Facette 18 reflektierte Messlicht ist mit 124' bezeichnet, dessen Hauptstrahlrichtung mit einem Pfeil h veranschaulicht ist.
M₀ bezeichnet den virtuellen Brennpunkt der Zerstreuungslinse 114, und M das Zentrum der Wellenfront des rückreflektierten Messlichts 124'. Das rückreflektierte Messlicht 124' wird über einen Strahlteiler 126 und über die Sammellinse 116 auf den Detektor 118 fokussiert. Die Sammellinse 116 dient somit als Fokussieroptik. Das rückreflektierte Messlicht 124' erzeugt auf dem Detektor einen Messlichtpunkt 128, der im Fall einer Verkippung der Facette 18 zur Messrichtung k von einem Referenzpunkt 129 abweicht, das heißt gegenüber Letzterem verschoben ist.
Die Ist-Winkellage der Facette 18 wird von der Auswerteeinheit 120 als Verschiebung des Messlichtpunktes 128 gegenüber dem Referenzpunkt 129 erfasst, wobei letztere Verschiebung proportional zur Verschiebung der räumlichen Lage des Zentrums M der Wellenfront des rückreflektierten Messlichts 124' gegenüber dem virtuellen Brennpunkt M₀ der Zerstreuungslinse 114 ist.
Bei dieser Vorgehensweise werden somit die Winkellagen der Facetten eines Facettenspiegels als Ablage der Krümmungsmittelpunkte der Facetten gemessen.
9 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Verfahrens zum Messen von Winkellagen von Facetten eines Facettenspiegels mittels einer Messvorrichtung 130, wobei das Messverfahren und die Messvorrichtung 130 auf dem Prinzip der Retroreflexion beruhen.
Die Messvorrichtung 130 weist eine Messlichtquelle 132, einen Kollimator 133 in Form einer Sammellinse, eine Blende 134, einen Strahlteiler 136, eine Fokussieroptik 138 in Form einer Sammellinse, einen Detektor 140 und eine Auswerteeinheit 142, die einen Monitor 144 umfasst, auf.
Die Messlichtquelle 132 emittiert Messlicht 146, das von dem Kollimator 133 kollimiert wird. Das Messlicht 146 durchläuft den Strahlteiler 136 und wird von der Fokussieroptik 138 auf einen Punkt, etwa im Zentrum der Facette 18, der Facette fokussiert. Ein Pfeil k bezeichnet die Messrichtung, und Pfeile v und w die dazu senkrechten Raumrichtungen. Das von der Facette 18 rückreflektierte Messlicht 146' fällt im Fall, dass die Facette 18 gegenüber der Messrichtung k nicht verkippt ist, mit dem einfallenden Messlicht 146 zusammen. Dies entspricht der Winkellage der Facette 18, wie sie in 9 mit einer durchgezogenen Linie dargestellt ist. Nimmt die Winkellage der Facette 18 jedoch einen von 0° verschiedenen Wert bezüglich der Messrichtung k ein, wie in 9 mit unterbrochenen Linien dargestellt wird, wird das Messlicht 146 von der Facette 18 nicht in sich rückreflektiert, sondern das rückreflektierte Messlicht 146' wird entlang einer Hauptstrahlrichtung k' rückreflektiert, die gegenüber der Hauptstrahlrichtung des rückreflektierten Messlichts 146' im Fall der nicht verkippten Facette 18 abweicht. Das rückreflektierte Messlicht wird von der Fokussieroptik 138 wieder kollimiert und von dem Strahlteiler 136 im parallelen Strahlengang auf den Detektor 140 gerichtet. Das rückreflektierte Messlicht 146' wird auf dem Detektor 140 als Kreisscheibe 148 detektiert, wobei die Ist-Winkellage der Facette 18 als Verschiebung der detektierten Kreisscheibe 148 gegenüber einer Referenzkreisscheibe 150 von der Auswerteeinheit 142 erfasst wird, die der unverkippten Winkellage der Facette 18 entspricht.
Die Verschiebung der Kreisscheibe 148 gegenüber der Referenzkreisscheibe 150 ist somit proportional zur Verkippung der Facette 18 senkrecht zur Messrichtung k.
Bei dem Messverfahren gemäß 9 werden die Facetten 18 des Facettenspiegels 14 (und das Gleiche gilt für die Facetten 16 des Facettenspiegels 12) einzeln und nacheinander punktförmig abgetastet.
10 zeigt eine Weiterbildung der Messvorrichtung 130 in 9, die mit dem Bezugszeichen 130a in 10 versehen ist. Elemente der Messvorrichtung 130a, die mit Elementen der Messvorrichtung 130 in 9 identisch oder vergleichbar sind, wurden mit den gleichen Bezugszeichen versehen, ergänzt um ein a.
Der Unterschied der Messvorrichtung 130a zur Messvorrichtung 130 besteht in einer Abwandlung der Messlichtquelle 132a, die als Weißlicht-interferometrischer verstellbarer Abstandssensor 156 ausgebildet ist. Die Messlichtquelle 132a weist eine gemäß einem Pfeil 158 verstellbare Kavität 160 auf, in die Licht einer Lichtquelle 162 eingespeist wird. Das von der verstellbaren Kavität 160 zurückreflektierte Licht 164 wird in eine Faser oder einen Lichtleiter 166 eingekoppelt, die bzw. der das Licht 164 an einer Stelle 168, die dem Ort der Messlichtquelle 132 in 9 entspricht, als Messlicht 146a emittiert. Die Messvorrichtung 130a weist weiterhin ein Spektrometer 170 auf, in das ein Teil des rückreflektierten Messlichts 146a über eine Faser oder einen Lichtleiter 172 eingekoppelt wird, wobei das Spektrometer 172 dieses rückreflektierte Messlicht Weißlicht-interferometrisch auswertet.
Mit der Messvorrichtung 130a kann somit auch die Ortslage der Facette 18 in Normalenrichtung der Facette 18 gemessen werden. Mit anderen Worten wird zusätzlich zur lokalen Winkellage der Facette 18 noch der Abstand zum Facettenreflexionspunkt 174 durch das chromatische Prinzip der Messvorrichtung 130a gemessen. Über eine Verstellung der Kavität 160 kann über die gemessene Abstandsänderung die Winkellage der Facette besonders genau bestimmt werden.
11 zeigt eine Abwandlung der Messvorrichtung 130a, die mit dem Bezugszeichen 130b versehen ist. Elemente der Messvorrichtung 130b, die mit Elementen der Messvorrichtung 130 in 9 oder 130a in 10 identisch oder ähnlich sind, sind mit den gleichen Bezugszeichen versehen, ergänzt um ein b.
Der Unterschied der Messvorrichtung 130b zur Messvorrichtung 130a in 10 besteht darin, das die Messlichtquelle 132b nicht als Weißlicht-interferometrischer Abstandssensor ausgebildet ist, sondern als chromatischer Abstandssensor. Die Messlichtquelle 132b weist entsprechend eine Lichtquelle 180, einen ersten Lichtwellenleiter 182, einen zweiten Lichtwellenleiter 184, einen Faserkoppler 186 und einen Messkopf 188 auf. Während die Anordnung aus dem Kondensor 133b, der Fokussieroptik 138b und dem Detektor 140b getrennt von dem Messkopf 188 dargestellt ist, ist die vorstehend genannte Anordnung idealerweise in den Messkopf 188 integriert (der Kondensor 133b und die Fokussieroptik 138b sind bereits in den Messkopf integriert gezeigt).
Eine Oberfläche 190 in 11 ist dabei ausschnittsweise die Oberfläche der Facette 18, die besonders präzise selbst auf mikroskopische Rauigkeiten vermessen werden kann. Der Messbereich 192 zwischen einer Wellenlänge λ_min und einer Wellenlänge λ_max ist der Messbereich an Abständen, die mit der als chromatischer Abstandssensor ausgebildeten Messlichtquelle 132b vermessen werden können. Die Messvorrichtung 132b ermöglicht somit in Kombination eine präzise Winkellagenmessung sowie eine Ortslagenmessung der Facette 18, d.h. der reflektierenden Oberfläche der Facette 18 in Normalenrichtung der Facette 18 auf sehr präzise Weise.
Während die zuvor beschriebenen Messverfahren und Messvorrichtungen auf dem Prinzip der Deflektometrie beruhen, wird nachfolgend ein optisches Verfahren und eine optische Messvorrichtung 200 beschrieben, mit denen die Winkellagen von Facetten von Facettenspiegeln interferometrisch gemessen werden.
Die Messvorrichtung 200 weist eine Messlichtquelle 202, bspw. einen Laser, und ein Interferometer 204, bspw. ein Twyman-Green-Interferometer, auf Das Interferometer 204 weist eine Aufweitungsoptik 206 zum Aufweiten des Messlichts 208, einen Strahlteiler 210, einen Spiegel 212, der lageverstellbar ist, eine Kavität 214, eine Prüfoptik 216, einen Detektor 218 und eine Auswerteeinheit 220, die einen Monitor 222 umfasst, auf.
Die Messverhältnisse bei der interferometrischen Messung der Winkellage der Facette 18 sind etwa identisch zu den Messverhältnissen, die bei der Messung der Winkellage der Facette 18 mit der Messvorrichtung 110 in 8 vorliegen, wobei der Unterschied zwischen beiden darin besteht, dass bei der Messvorrichtung 110 eine Luftbildlage ausgewertet wird, während hier eine Wellenfrontverkippung mittels der Auswerteeinheit 220 ausgewertet wird. Die Ausrichtung des Zentrums der Messlichtprüfwelle erfolgt auf den Mittelpunkt der zu prüfenden Facette 18.
Der Detektor 218, bspw. eine Kamera, erfasst im Unterschied zu der Messvorrichtung 110 in 8 keinen Messlichtpunkt, sondern ein Interferenzstreifenmuster 224, das durch das von der Facette 18 rückreflektierte Messlicht auf dem Detektor 218 entsteht, wobei die Ist-Winkellage der Facette 18 als Neigungen von Phasenflächen 226 gegenüber einer Referenzphasenfläche erfasst werden. Die Neigungen der Phasenflächen 226 sind proportional zur Verschiebung des Zentrums der Wellenfront des von der Facette 18 rückreflektierten Messlichts 208 zum Brennpunkt der Prüfoptik 216 senkrecht zur Messrichtung (siehe 8).
Während die zuvor beschriebenen Messverfahren und Messvorrichtungen darauf beruhen, dass die Winkellagen von Facetten von Facettenspiegeln im aus dem optischen System, in dem die Facettenspiegel verwendet werden, ausgebauten Zustand gemessen werden, wird nachfolgend ein Messverfahren beschrieben, mit dem die Messung der Winkellagen der Facetten von Facettenspiegel im im optischen System eingebauten Zustand durchgeführt werden kann.
13A zeigt zunächst die Spiegelanordnung 10 aus 1, wobei davon ausgegangen wird, dass die Spiegelanordnung 10 in einem optischen System eingebaut ist.
13A zeigt nochmals die Spiegelanordnung 10 in 1. In 13A sind die Winkellagen der Facetten 16 und die Winkellagen der Facetten 18 korrekt justiert, so dass in der Feldebene F₂ die Bilder der Facetten 16 zueinander zentriert überlagert abgebildet werden (Bild 22). 13B zeigt nun die Wirkung einer Abweichung der Ist-Winkellage der Facette 16b von ihrer Soll-Winkellage und/oder die Abweichung der Ist-Winkellage der Facette 18b von ihrer Soll-Winkellage. Die Abweichung der Ist-Winkellage der Facette 16b und/oder die Abweichung der Ist-Winkellage der Facette 18b von ihrer jeweiligen Soll-Winkellage führt zu einer Verschiebung des Bildes 22 in der Feldebene F₂, das heißt zu einer Strahlablage, wie mit Pfeilen 21 angedeutet ist.
Der Strahlenverlauf der EUV-Nutzstrahlen, wie er von den Facettenspiegeln 12 und 14 geformt wird, entspricht somit nicht mehr der gewünschten bzw. geforderten Spezifikation.
Bei einem Verfahren zum Messen der Winkellagen der Facetten 16 und/oder der Facetten 18 wird die Verschiebung des Bildes 22 gemäß 13B in der Feldebene F₂ mit einer dort oder in ihrer Nähe angeordneten Kamera aufgenommen und ausgewertet.
Dabei wird vorzugsweise jede der Facetten 16 einzeln vermessen, das heißt, es wird eine einzelne Facette 16 des Feldspiegels 12 ausgewählt, was durch eine nicht dargestellte Blende oder bei verkippbaren Facetten durch Verkippen der übrigen Facetten 16 erfolgen kann. Mit der zuvor erwähnten Kamera (nicht dargestellt) wird das Bild 22 aufgenommen und die Ist-Winkellage der ausgewählten Facette (bspw. Facette 16b) wird als Verschiebung des Bildes 22 von der Soll-Lage des Bildes (13A) in der Feldebene F₂ erfasst.
14 zeigt ein Flussdiagramm eines Verfahrens zum Messen von Winkellagen von Facetten von Facettenspiegeln, wenn diese in einem optischen System eingebaut sind.
Das Messverfahren 230 weist einen Schritt 232 der Montage und Vorjustage der Spiegelanordnung 10, die die Facettenspiegel 12 und 14 umfasst, einen Schritt 234 des Einbaus der Spiegelanordnung 10 in das optische System, in dem die Spiegelanordnung 10 verwendet wird, einen Schritt 236 der Messung der Winkellagen der einzelnen Facetten 16 und/oder 18 von ihren Soll-Winkellagen, einen Schritt 238 des Ausbaus der Spiegelanordnung 10 aus dem optischen System und Nachjustage der Winkellagen der Facetten 16 und/oder 18 in einem Justagestand unter Verwendung der zuvor bestimmten Abweichungen der Ist-Winkellagen von den Soll-Winkellagen, und einen Schritt 240 des Einbaus der nachjustierten Spiegelanordnung in das optische System, auf.
Wie bereits zuvor beschrieben, umfassen alle oben beschriebenen Messverfahren auch das Justieren der Facetten des geprüften Facettenspiegels in Abhängigkeit des Ergebnisses der Messung der Winkellagen der Facetten.
15 zeigt beispielhaft die Justage einer Facette 18' eines Facettenspiegels 14', der einen Grundkörper 19' aufweist. Der Facettenspiegel 14' ist bspw. eine spezifische Ausgestaltung des Facettenspiegels 14 in 1.
Die Facette 18' weist einen Facettenkopf 250 auf, dessen Oberfläche 252 die reflektierende Fläche der Facette 18' bildet.
Die Facette 18' weist weiterhin einen Schaft 254 auf, an dem eine Zentrierhülse 256 und eine Mutter 258 angeordnet sind. Zwischen der Zentrierhülse 256 und dem Grundkörper 19' ist eine Tellerfeder 260 angeordnet, die in 15A in Draufsicht gezeigt ist.
Die Tellerfeder 260 weist bspw. drei Federbeine 262, 264 und 266 auf, deren äußere Enden gegen den Grundkörper 19' anliegen. Zum Justieren der Winkellage der Facette 18' wird die Mutter zunächst angezogen, wodurch die Zentrierhülse 256 gegen die Tellerfeder 260 und diese gegen den Grundkörper 19' gedrückt wird. Bei angezogener Mutter 258 wird dann über eine Verschiebung der Tellerfeder 260 relativ zu dem Grundkörper 19' und damit einer Verschwenkung des Schafts 254 der Facette 18' die Winkellage der Facette 18’ justiert. Anschließend kann die auf diese Weise justierte Winkellage mittels eines Fixiermittels, bspw. durch Klebstoff, fixiert werden.
Mit Bezug auf 16 und 17 wird ein Verfahren zum Messen von Facetten eines Facettenspiegels beschrieben, wobei die Facetten des Facettenspiegels zumindest zwei diskrete Kippstellungen aufweisen, zwischen denen die Facetten verkippt werden können, oder wobei die Facetten des Facettenspiegels ein kontinuierliches Spektrum von Kippstellungen aufweisen, wobei die Facetten innerhalb des Spektrums der Kippstellungen kontinuierlich verkippt werden können.
Die Messaufgabe hierbei besteht darin, für jede der möglichen Kippstellungen die Ist-Winkellagen in Bezug auf die Soll-Winkellagen in den einzelnen möglichen Kippstellungen zu messen.
Wenn die Facetten diskrete Kippstellungen aufweisen, müssen entsprechend die Winkellagen in den diskreten Kippstellungen gemessen werden, und wenn die Facetten ein kontinuierliches Spektrum von Kippstellungen einnehmen können, muss die Kennlinie der kontinuierlichen Kippstellungsansteuerung bestimmt werden.
Grundsätzlich kann diese Messaufgabe mit den bereits oben beschriebenen Verfahren, bspw. dem Messverfahren gemäß 5 oder dem Messverfahren gemäß 7 bis 12, durchgeführt werden, wobei die oben mit Bezug auf 8 beschriebene Autokollimationsmessung oder die mit Bezug auf 9 bis 11 beschriebenen Retroreflexions-Messverfahren hier sehr geeignet erscheinen.
Nachfolgend wird ein Messverfahren zum Messen von Winkellagen von verkippbaren Facetten beschrieben, das insbesondere geeignet ist, die Winkellagen in den verschiedenen Kippstellungen im im eingebauten Zustand des Facettenspiegels in einem optischen System zu messen.
16 zeigt im oberen Teilbild beispielhaft eine einzelne Facette 16 des Facettenspiegels 12 in 1 in Seitenansicht, wobei die Facette 16 im oberen Teilbild eine erste Kippstellung einnimmt, und wobei die Facette 16 im unteren Teilbild in 16 eine zweite Kippstellung einnimmt, die von der ersten Kippstellung verschieden ist. Die Facette 16 weist eine nicht dargestellte Ansteuerung auf, mittels der die Facette 16 zwischen den beiden Kippstellungen gezielt verkippt werden kann.
Zum Messen der Ist-Winkellage der Facette 16 in dem im oberen Teilbild von 16 dargestellten Schaltzustand der Kippstellung wird Messlicht 270 zunächst auf ein erstes Spiegelarray 272 gerichtet. Das Spiegelarray 272 weist eine Mehrzahl an ersten Spiegeln 274 auf, deren Winkellage verstellbar ist, wobei die Verstellbarkeit hier im gezeigten Ausführungsbeispiel der Einfachheit halber um eine Achse senkrecht zur Zeichenebene möglich ist. Von dem ersten Spiegelarray 272 wird das Messlicht 272 auf die Facette 16 gerichtet, von der das Messlicht auf ein zweites Spiegelarray 276 gerichtet wird. Das zweite Spiegelarray weist eine Mehrzahl von zweiten Spiegeln 278 auf, die ebenfalls in ihrer Winkellage verstellbar sind, aus Gründen der Einfachheit hier um eine Achse senkrecht zur Zeichenebene.
Soll nun die Ist-Winkellage der Facette 16 gemäß dem unteren Teilbild in 16 in einer anderen Kippstellung als im oberen Teilbild in 16 gemessen werden, wird die Facette 16 entsprechend in diese andere Kippstellung verkippt. Gleichzeitig werden auch die Spiegel 274 und 278 der Spiegelarrays 272 und 276 verkippt, wie im unteren Teilbild in 16 für zwei Spiegel 274a und 278a gezeigt ist. Die Verkippung der Spiegel 274 und 278 der Spiegelarrays 272 und 276 kompensiert die Verkippung der Facette 16, so dass das Messlicht in seinem Strahlverlauf eingangsseitig des Spiegelarrays 272 und ausgangsseitig des Spiegelarrays 276 lediglich um einen geringen Betrag parallel verschoben wird, so dass eine entsprechende Messlichtquelle und ein entsprechender Detektor in größeren Entfernungen von der Facette 16 angeordnet werden können, ohne dass der Detektor eine übermäßig große Detektorfläche aufweisen muss.
In 16 sind mit unterbrochenen Linien Fenster 280 und 282 angedeutet, durch die das Messlicht 270 in den Vakuumbereich des Facettenspiegels im im optischen System eingebauten Zustand hindurchtreten kann.
17 zeigt eine Messvorrichtung 290, mit der ein Verfahren gemäß 16 durchgeführt werden kann. Die Messvorrichtung 290 weist eine Messlichtquelle 292, einen Kollimator 294, das schaltbare Spiegelarray 272, das schaltbare Spiegelarray 276, eine Fokussieroptik 296 und einen Detektor 298 auf. Der schaltbare Facettenspiegel 12 kann mit der Messvorrichtung 290 wie zuvor beschrieben im im optischen System eingebauten Zustand in den verschiedenen möglichen vorgesehenen Kippstellungen der Facetten 16 vermessen werden.
Je nach Kippstellung der Facetten 16 werden die Spiegel 274 bzw. 278 der schaltbaren Spiegelarrays 272 bzw. 276 so angesteuert, dass sie die Facettenauslenkungen der Facetten 16 kompensieren.
Wenn alle Facetten 16 in der jeweils eingestellten Kippstellung ihre Soll-Winkellage einnehmen, dann entsteht auf dem Detektor, bspw. einer Kamera, genau ein Punkt, während bei einer Abweichung der Ist-Winkellage der Facetten 16 in der jeweils eingestellten Kippstellung von ihrer Soll-Winkellage ein verschmierter Punkt oder mehrere Punkte abgebildet werden.
Mit Bezug auf 18 und 19 wird ein weiterer Aspekt der vorliegenden Erfindung beschrieben, der die Implementierung einer Facettenspiegelanordnung, wie der Spiegelanordnung 10, in eine Maskeninspektionsanlage zur Inspektion einer Maske (Retikel) für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage betrifft.
18 zeigt eine solche Maskeninspektionsanlage bzw. ein Maskeninspektionsmikroskop 300, das in dem Dokument WO 2009/118130 (ohne die Spiegelanordnung 10) beschrieben ist.
Das Maskeninspektionsmikroskop 300 weist ein Beleuchtungsmodul 302, mit dem eine Maske 303 mit EUV-Strahlung beleuchtet wird, auf. Das Maskeninspektionsmikroskop 300 weist des Weiteren eine Abbildungsoptik 304 auf, die einen beleuchteten Abschnitt der Maske 303 vergrößert in eine Bildebene BE abbildet, in der ein Detektor (CCD-Sensor) 305 angeordnet ist.
Das Beleuchtungsmodul 302 weist eine Strahlungsquelle 306 auf sowie eine Beleuchtungsoptik 307. Die Abbildungsoptik 304 weist eine Spiegeloptik 308 auf, die den beleuchteten Abschnitt der Maske 303 in eine Zwischenbildebene ZE abbildet, in der eine Szintillatorschicht 309 angeordnet ist, der eine Vergrößerungsoptik 10 nachgeordnet ist, die das Zwischenbild der Zwischenbildebene ZE vergrößert in die Bildebene BE abbildet.
Eine Facettenspiegelanordnung wie die Spiegelanordnung 10 gemäß 1 kann nun als die Beleuchtungsoptik 307 in das Beleuchtungsmodul 302 integriert werden.
In 19 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Maskeninspektionsanlage 320 gezeigt, in die die Spiegelanordnung 10 als Beleuchtungsoptik integriert werden kann. Die Maskeninspektionsanlage 320 ist (ohne die Spiegelanordnung 10) in dem Dokument WO 2011/012267 , dort 6, gezeigt und beschrieben. Die Maskeninspektionsanlage 320 weist vier Spiegel M1, M2, M3, M4 auf, die das Objektfeld 322, in dem eine zu untersuchende Maske angeordnet ist, auf ein Bildfeld 324 abbilden.
Die Spiegelanordnung 10 kann hier als Beleuchtungsoptik für die Beleuchtung der in der Objektebene 322 angeordneten Maske verwendet werden.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

WO 2010/008993 A1 [0003, 0072]
WO 2008/101656 A2 [0015]
WO 2010/079133 A2 [0016, 0107]
WO 03/040796 A1 [0016]
US 7246909 B2 [0016]
DE 10204249 A1 [0016]
WO 2008/101565 A2 [0077]
WO 2009/118130 [0079, 0192]
WO 2011/012267 [0196]

Claims

Optisches Verfahren zum Messen von Winkellagen von Facetten (16, 18; 18') zumindest eines Facettenspiegels (12, 14) eines für EUV-Anwendungen ausgelegten optischen Systems und zum anschließenden Justieren der Winkellagen in Abhängigkeit der gemessenen Winkellagen, wobei die Facetten (16, 18; 18') des Facettenspiegels (12, 14) mit Messlicht (28; 62; 102; 124; 146; 146a; 146b; 208; 270) beleuchtet werden, das von den Facetten (16, 18; 18') reflektierte Messlicht (28; 62; 102; 124; 146; 146a; 146b; 208; 270) detektiert und zur Erfassung von Ist-Winkellagen ausgewertet wird, und wobei anschließend die Winkellagen bei einer Abweichung der Ist-Winkellagen von Soll-Winkellagen justiert werden, dadurch gekennzeichnet, dass Ist-Winkellagen der Facetten (16; 18) in einem Spektrum von Winkellagen von zumindest ±10° bezüglich einer Referenzachse (24) erfasst werden.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass Ist-Winkellagen in einem Spektrum von Winkellagen von zumindest ±15°, weiter vorzugsweise von zumindest ±20° erfasst werden.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Winkellagen der Facetten (16, 18; 18') bei aus dem optischen System ausgebautem Facettenspiegel (12, 14) gemessen.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Winkellagen der Facetten (16, 18) bei in dem optischen System eingebautem Facettenspiegel (12, 14) gemessen werden.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere, vorzugsweise alle Facetten (16, 18) des Facettenspiegels (12, 14) gleichzeitig mit dem Messlicht (28; 62; 270) beleuchtet werden, und dass das von den mehreren, vorzugsweise allen Facetten (16, 18) reflektierte Messlicht (28; 62; 270) gleichzeitig detektiert wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Facetten (16, 18) einzeln und nacheinander mit dem Messlicht (102; 124; 146; 146a; 146b; 208; 270; 20) beleuchtet werden.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Winkellagen deflektometrisch gemessen werden.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass zusätzlich die Ortslagen der Facetten (16, 18) in Normalenrichtung der Facetten (16, 18) gemessen werden.
Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, wobei der Facettenspiegel (14) in im optischen System eingebautem Zustand ein Pupillenspiegel einer Spiegelanordnung (10) ist, die zusätzlich einen dem Pupillenspiegel (14) vorgeordneten Feldspiegel (12) aufweist, wobei der Pupillenspiegel (14) zwischen dem Feldspiegel (12) und einer nachgeordneten Feldebene (F₂) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass das Messlicht (28) von einem Punkt (26) in einer Ebene (F₂), die im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung der Feldebene (F₂) entspricht, ausgehend entlang eines Lichtstrahlengangs, der dem Nutzlichtstrahlengang (20) im Betrieb der Spiegelanordnung (10) entgegengesetzt gleich ist, auf den Pupillenspiegel (14) gerichtet wird, wobei das von den Facetten (18) des Pupillenspiegels (14) reflektierte Messlicht (28) in einer Messebene (30) aufgefangen wird, deren Orientierung und Lage der Orientierung und Lage des Feldspiegels (12) im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung (10) entspricht.
Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass anhand eines durch die Reflexion des Messlichts (28) an den Facetten (18) des Pupillenspiegels (14) in der Messebene (30) aufgefangenen Ist-Lichtpunktemusters (34) die Ist-Winkellagen der Facetten (18) des Pupillenspiegels (14) erfasst werden, und dass durch Abgleich des Ist-Lichtpunktemusters mit einem Soll-Lichtpunktemuster Winkelablagen der Facetten (18) des Pupillenspiegels (14) erfasst werden, um die die Facetten (18) anschließend justiert werden.
Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, wobei der Facettenspiegel (12) in im optischen System eingebautem Zustand ein Feldspiegel (12) einer Spiegelanordnung (10) ist, die zusätzlich einen dem Feldspiegel (12) nachgeordneten Pupillenspiegel (14) aufweist, wobei der Feldspiegel (12) zwischen dem Pupillenspiegel (14) und einer vorgeordneten Feldebene (F₁) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass das Messlicht (62) von einem Punkt (60) in einer Ebene (F₁), die im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung (10) der Feldebene (F₁) entspricht, ausgehend entlang eines Lichtstrahlengangs, der gleich dem Nutzlichtstrahlengang (20) im Betrieb der Facettenspiegelanordnung (10) ist, auf den Feldspiegel (12) gerichtet wird, wobei das von den Facetten (16) des Feldspiegels (12) reflektierte Messlicht (62) in einer Messebene (64) aufgefangen wird, deren Orientierung und Lage der Orientierung und Lage des Pupillenspiegels (14) im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung (10) entspricht.
Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass anhand eines durch die Reflexion des Messlichts (62) an den Facetten (16) des Feldspiegels (12) in der Messebene (64) aufgefangenen Ist-Lichtpunktemusters (65) die Ist-Winkellagen der Facetten (16) des Feldspiegels (12) erfasst werden, und dass durch Abgleich des Ist-Lichtpunktemusters (65) mit einem Soll-Lichtpunktemuster Winkelablagen der Facetten (16) des Feldspiegels (12) erfasst werden, um die die Facetten (16) anschließend justiert werden.
Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Messlicht (102) als Messlichtstrahl mit punktförmigem Querschnitt etwa mittig und mit etwa senkrechtem Einfall einzeln und nacheinander auf die Facetten (16, 18) des Facettenspiegels (12, 14) gerichtet wird, wobei der von der jeweiligen Facette (16, 18) reflektierte Messlichtstrahl als Lichtpunkt (104) detektiert wird, und wobei die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette (16, 18) als Abweichung des Ortes des detektierten Lichtpunktes (104) von einem Referenzort (106) erfasst wird.
Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Winkellagen der Facetten (16, 18) mittels Autokollimation gemessen werden, wobei das Messlicht (124) einzeln und nacheinander auf die Facetten (16, 18) des Facettenspiegels (12, 14) gerichtet wird, wobei das Messlicht (124) die jeweilige Facette (16, 18) flächig beleuchtet, wobei das von der jeweiligen Facette (16, 18) reflektierte Messlicht (124) nach Fokussierung als Messlichtpunkt (128) detektiert wird, und wobei die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette (16, 18) aus der Verschiebung des Messlichtpunktes (128) gegenüber einem Referenzpunkt (129) erfasst wird.
Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Messlicht (146; 146a; 146b) einzeln und nacheinander auf die Facetten (16, 18) gerichtet wird, dass das Messlicht (146; 146a; 146b) von einem Punkt (132) ausgehend zunächst kollimiert und anschließend mit im Wesentlichen senkrechtem Einfall auf die jeweilige Facette (16, 18) fokussiert wird, das von der jeweiligen Facette (16, 18) rückreflektierte Messlicht (146') wieder kollimiert wird, und das kollimierte rückreflektierte Messlicht (146') als Kreisscheibe (148) detektiert wird, und dass die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette (16, 18) als Verschiebung der detektierten Kreisscheibe (148) gegenüber einer Referenzkreisscheibe (150) erfasst wird.
Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass ein Teil des rückreflektierten Messlichts (146') weißlicht- oder farblicht-interferometrisch detektiert wird, um die Ortslage der jeweiligen Facette (16, 18) in Normalenrichtung der jeweiligen Facette zu messen.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Winkellagen der Facetten (16, 18) interferometrisch gemessen werden, wobei das Messlicht (208) durch ein Interferometer (204) einzeln und nacheinander auf die Facetten (16, 18) gerichtet wird, wobei das von der jeweiligen Facette (16, 18) rückreflektierte Messlicht (208) als Interferenzmuster (224) detektiert wird, und wobei die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette (16, 18) als Neigungen von Phasenflächen (226) gegenüber einer Referenzphasenfläche erfasst wird.
Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Facettenspiegel (14) in im optischen System eingebautem Zustand ein Pupillenspiegel (14) einer Spiegelanordnung (10) ist, und dass die Spiegelanordnung (10) einen weiteren Facettenspiegel (12) aufweist, der ein Feldspiegel (12) ist, wobei der Pupillenspiegel (14) die Facetten (16) des Feldspiegels (12) einander überlagert in eine Feldebene (F₂) abbildet, wobei jeder Facette (16) des Feldspiegels (12) zumindest eine Facette (18) des Pupillenspiegels (14) zugeordnet ist, dass das Messlicht (20) entlang des Nutzlichtstrahlengangs des optischen Systems auf den Feldspiegel (12) und den Pupillenspiegel (14) gerichtet wird, dass eine einzelne Facette (16) des Feldspiegels ausgewählt wird, und dass die Ist-Winkellage der ausgewählten Facette (16) des Feldspiegels (12) und/oder der zugeordneten Facette (18) des Pupillenspiegels (14) als Verschiebung des Bildes der ausgewählten Facette (16) von der Solllage des Bildes in der Feldebene (F₂) erfasst wird.
Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass zusätzlich die Ist-Winkellage der ausgewählten Facette (16) des Feldspiegels (12) und/oder der zugeordneten Facette (18) des Pupillenspiegels (14) als Abweichung der Ist-Ausleuchtung einer Pupillenebene von der Soll-Ausleuchtung der Pupillenebene erfasst wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Facetten (16, 18) des zumindest einen Facettenspiegels (12, 14) zumindest zwei diskrete Kippstellungen aufweisen, zwischen denen die Facetten (16, 18) verkippt werden können.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Facetten (16, 18) des zumindest einen Facettenspiegels (12, 14) ein kontinuierliches Spektrum von Kippstellungen aufweisen, wobei die Facetten (16, 18) innerhalb des Spektrums der Kippstellungen kontinuierlich verkippt werden können.
Verfahren nach Anspruch 20 oder 21, dadurch gekennzeichnet, dass die Winkellagen der Facetten (16, 18) für verschiedene mögliche Kippstellungen gemessen werden.
Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass das Messlicht (270) zunächst auf ein erstes Spiegelarray (272) gerichtet wird, das eine Mehrzahl an ersten Spiegeln (274) aufweist, deren Winkellage verstellbar ist, dass das Messlicht (270) von dem Spiegelarray (272) auf den Facettenspiegel (12, 14) gerichtet wird, und dass das Messlicht (270) von dem Facettenspiegel (12, 14) auf ein zweites Spiegelarray (276) gerichtet wird, das eine Mehrzahl an zweiten Spiegeln (278) aufweist, deren Winkellage verstellbar ist, und dass die ersten Spiegel (274) und die zweiten Spiegel (278) entsprechend der eingestellten Kippstellung der Facetten (16, 18) verkippt werden, um die Verkippung der Facetten (16, 18) bei der Messung der Winkellagen zu kompensieren.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Facetten (18') an einem Grundkörper (19') des Facettenspiegels (14') einzeln verschwenkbar angeordnet sind, wobei die Facetten (18') jeweils einen durch den Grundkörper (19') durchgeführten Schaft (254) aufweisen, auf dem eine Zentrierhülse (256) und eine Mutter (258) sitzt, wobei zwischen der Zentrierhülse (256) und dem Grundkörper (19') eine Tellerfeder (260) mit einer Mehrzahl an Federbeinen (262, 264, 266) angeordnet ist, und dass zum Justieren der Winkellage der jeweiligen Facette (18') bei angezogener Mutter (258) der Schaft (254) durch Verschiebung der Tellerfeder (260) relativ zum Grundkörper (19') verschwenkt wird, wobei gegebenenfalls die justierte Winkellage anschließend mit einem Fixiermittel, bspw. Klebstoff, fixiert wird.
Optische Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten (16, 18; 18') zumindest eines Facettenspiegels (12, 14) eines für EUV-Anwendungen ausgelegten optischen Systems, mit einer Messlichtquelle (27; 74; 92; 132; 132a; 132b; 202) zum Beleuchten der Facetten (16, 18; 18') des Facettenspiegels mit Messlicht (28; 62; 102; 124; 146; 146a; 146b; 208; 270), einem Detektor zum Detektieren des von den Facetten (16, 18; 18') reflektierten Messlichts (28; 62; 102; 124; 146; 146a; 146b; 208; 270) und einer Auswerteeinheit (98; 120; 142; 142a; 142b; 220), die das detektierte Messlicht (28; 62; 102; 124; 146; 146a; 146b; 208; 270) zur Erfassung von Ist-Winkellagen der Facetten (16, 18; 18') auswertet, dadurch gekennzeichnet, dass die Messvorrichtung (40; 70; 90; 110; 130; 200; 290) dazu ausgelegt ist, Ist-Winkellagen der Facetten (16, 18; 18') in einem Spektrum von Winkellagen von zumindest ±10° bezüglich einer Referenzachse (24) zu erfassen.
Messvorrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, dass sie dazu ausgelegt ist, Ist-Winkellagen in einem Spektrum von Winkellagen von zumindest ±15°, weiter vorzugsweise von zumindest ±20° zu erfassen.
Messvorrichtung nach Anspruch 25 oder 26, dadurch gekennzeichnet, dass sie als Prüfstand ausgebildet ist, um die Winkellagen der Facetten (16, 18; 18') bei aus dem optischen System ausgebautem Facettenspiegel (12, 14) zu messen.
Messvorrichtung nach Anspruch 25 oder 26, dadurch gekennzeichnet, dass sie in das optische System integriert oder integrierbar ist, um die Winkellagen der Facetten (16, 18; 18') bei in dem optischen System eingebautem Facettenspiegel (12, 14) zu messen.
Messvorrichtung nach einem der Ansprüche 25 bis 28, dadurch gekennzeichnet, dass die Messlichtquelle (27; 74; 292) mehrere, vorzugsweise alle Facetten (16, 18) des Facettenspiegels (12, 14) gleichzeitig mit dem Messlicht (28; 62; 270) beleuchtet, und dass der Detektor (44; 76; 298) das von den mehreren, vorzugsweise allen Facetten (16, 18) reflektierte Messlicht (28; 62; 270) gleichzeitig detektiert.
Messvorrichtung nach einem der Ansprüche 25 bis 28, dadurch gekennzeichnet, dass die Messlichtquelle (92; 132; 132a; 132b; 202) die Facetten einzeln und nacheinander mit dem Messlicht (102; 124; 146; 146a; 146b; 208) beleuchtet, wobei die Messlichtquelle und der Detektor gemeinsam verfahrbar sind.
Messvorrichtung nach einem der Ansprüche 25 bis 30, dadurch gekennzeichnet, dass sie die Winkellagen deflektometrisch misst.
Messvorrichtung nach einem der Ansprüche 25 bis 31, dadurch gekennzeichnet, dass sie zusätzlich einen Abstandssensor (132a; 132b) zur Messung der Ortslagen der Facetten (16, 18) in Normalenrichtung der Facetten (16, 18) aufweist.
Messvorrichtung nach Anspruch 31 oder 32, wobei der Facettenspiegel (14) in im optischen System eingebautem Zustand ein Pupillenspiegel (14) einer Spiegelanordnung (10) ist, die zusätzlich einen dem Pupillenspiegel (14) vorgeordneten Feldspiegel (12) aufweist, wobei der Pupillenspiegel (14) zwischen dem Feldspiegel (12) und einer nachgeordneten Feldebene (F₂) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Messlichtquelle (27) eine Punktlichtquelle ist, die Messlicht (28) von einem Punkt (26) in einer Ebene (F₂), die im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung (10) der Feldebene (F₂) entspricht, ausgehend entlang eines Lichtstrahlengangs, der dem Nutzlichtstrahlengang (20) im Betrieb der Spiegelanordnung (10) entgegengesetzt gleich ist, auf den Pupillenspiegel (14) richtet, wobei ein Mess-Retikel (32) zum Auffangen des von den Facetten (18) des Pupillenspiegels (14) reflektierten Messlichts (28) in einer Messebene (30) angeordnet ist, deren Orientierung und Lage der Orientierung und Lage des Feldspiegels (12) im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung (10) entspricht.
Messvorrichtung nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, dass der Detektor (44) ein durch die Reflexion des Messlichts (28) an den Facetten (18) des Pupillenspiegels (14) auf dem Mess-Retikel (32) aufgefangenes Ist-Lichtpunktemuster (34) detektiert, und dass die Auswerteeinheit das Ist-Lichtpunktemuster (34) zur Erfassung von Winkelablagen der Facetten (18) des Pupillenspiegels (14) durch Abgleich mit einem Soll-Lichtpunktemuster auswertet.
Messvorrichtung nach Anspruch 31 oder 32, wobei der Facettenspiegel (12) in im optischen System eingebautem Zustand ein Feldspiegel (12) einer Spiegelanordnung (10) ist, die zusätzlich einen dem Feldspiegel (12) nachgeordneten Pupillenspiegel (14) aufweist, wobei der Feldspiegel (12) zwischen dem Pupillenspiegel (14) und einer vorgeordneten Feldebene (F₁) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Messlichtquelle (74) eine Punktlichtquelle ist, die Messlicht (62) von einem Punkt (60) in einer Ebene (F₁), die im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung (10) der Feldebene (F₁) entspricht, ausgehend entlang eines Lichtstrahlengangs, der gleich dem Nutzlichtstrahlengang (20) im Betrieb der Facettenspiegelanordnung (10) ist, auf den Feldspiegel (12) richtet, wobei ein Mess-Retikel (66) zum Auffangen des von den Facetten (16) des Feldspiegels (12) reflektierten Messlichts (62) in einer Messebene (64) angeordnet ist, deren Orientierung und Lage der Orientierung und Lage des Pupillenspiegels (14) im im optischen System eingebauten Zustand der Spiegelanordnung (10) entspricht.
Messvorrichtung nach Anspruch 35, dadurch gekennzeichnet, dass der Detektor (76) ein durch die Reflexion des Messlichts (62) an den Facetten (16) des Feldspiegels (12) auf dem Mess-Retikel (66) aufgefangenes Ist-Lichtpunktemuster (65) detektiert, und dass die Auswerteinrichtung das Ist-Lichtpunktemuster (65) zur Erfassung von Winkelablagen der Facetten (16) des Feldspiegels (12) durch Abgleich mit einem Soll-Lichtpunktemuster auswertet.
Messvorrichtung nach Anspruch 31 oder 32, dadurch gekennzeichnet, dass die Messlichtquelle (92) einen Messlichtstrahl (102) mit punktförmigem Querschnitt emittiert, der mittig und mit etwa senkrechtem Einfall einzeln und nacheinander auf die Facetten (16, 18) des Facettenspiegels (12, 14) gerichtet wird, wobei der Detektor (96) den von der jeweiligen Facette (16, 18) reflektierten Messlichtstrahl (102') als Lichtpunkt (104) detektiert, und wobei die Auswerteeinheit (98) die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette (16, 18) als Abweichung des Ortes des detektierten Lichtpunktes (104) von einem Referenzort (106) erfasst.
Messvorrichtung nach Anspruch 31 oder 32, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Autokollimationsoptik (112) aufweist, wobei die Messlichtquelle einzeln und nacheinander die Facetten (16, 18) des Facettenspiegels (12, 14) flächig mit Messlicht (124) ausleuchtet, wobei der Detektor (118) das von der jeweiligen Facette (16, 18) reflektierte Messlicht (124') nach Fokussierung durch eine Fokussieroptik (116) als Messlichtpunkt (128) detektiert, und wobei die Auswerteeinheit (120) die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette (16, 18) aus der Verschiebung des detektierten Messlichtpunktes (128) gegenüber einem Referenzpunkt (129) erfasst.
Messvorrichtung nach Anspruch 31 oder 32, dadurch gekennzeichnet, dass die Messlichtquelle (132; 132a; 132b) als Punktlichtquelle ausgebildet ist, die das Messlicht (146; 146a; 146b) einzeln und nacheinander auf die Facetten (16, 18) richtet, wobei im Messlichtstrahlengang ein Kollimator(133; 133a; 133b), der das Messlicht (146; 146a; 146b) kollimiert, und eine Fokussieroptik (138; 138a8a; 138b) angeordnet sind, die das Messlicht (146; 146a; 146b) mit im Wesentlichen senkrechtem Einfall auf die jeweilige Facette (16, 18) fokussiert, wobei das von der jeweiligen Facette (16, 18) rückreflektierte Messlicht (146') von der Fokussieroptik (138; 138a; 138b) wieder kollimiert wird, und dass der Detektor (140; 140a; 140b) das kollimierte rückreflektierte Messlicht (146') als Kreisscheibe (148) detektiert, und dass die Auswerteeinheit (142; 142a; 142b) die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette (16, 18) als Verschiebung der detektierten Kreisscheibe (148) gegenüber einer Referenzkreisscheibe (150) erfasst.
Messvorrichtung nach Anspruch 39, dadurch gekennzeichnet, dass die Messlichtquelle (132a; 132b) einen verstellbaren Abstandssensor aufweist.
Messvorrichtung nach einem der Ansprüche 25 bis 30, dadurch gekennzeichnet, dass sie die Winkellagen der Facetten (16, 18) interferometrisch misst, wobei ein Interferometer (204) vorhanden ist, und wobei die Messlichtquelle (202) das Messlicht (208) durch das Interferometer (204) einzeln und nacheinander auf die Facetten (16, 18) richtet, wobei der Detektor (218) das von der jeweiligen Facette (16, 18) rückreflektierte Messlicht (208) als Interferenzmuster (224) detektiert, und wobei die Auswerteeinheit (220) die Ist-Winkellage der jeweiligen Facette (16, 18) als Neigungen von Phasenflächen (226) gegenüber einer Referenzphasenfläche erfasst.
Messvorrichtung nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass der Facettenspiegel (14) in im optischen System eingebauten Zustand ein Pupillenspiegel (14) einer Spiegelanordnung (10) ist, und dass die Spiegelanordnung (10) einen weiteren Facettenspiegel (12) aufweist, der ein Feldspiegel (12) ist, wobei der Pupillenspiegel (14) die Facetten (16) des Feldspiegels (12) einander überlagert in eine Feldebene (F₂) abbildet, wobei jeder Facette (16) des Feldspiegels (12) zumindest eine Facette (18) des Pupillenspiegels (14) zugeordnet ist, dass die Messlichtquelle das Messlicht entlang des Nutzlichtstrahlengangs (20) des optischen Systems auf den Feldspiegel (12) und den Pupillenspiegel (14) richtet, wobei eine einzelne Facette (16) des Feldspiegels (12) ausgewählt wird, dass in oder nahe der Feldebene (F₂) als Detektor eine Kamera angeordnet ist, die das Bild der ausgewählten Facette (16) aufnimmt, und dass die Auswerteeinheit die Ist-Winkellage der ausgewählten Facette (16) des Feldspiegels (12) und/oder der zugeordneten Facette (18) des Pupillenspiegels (14) als Verschiebung des Bildes (22) der ausgewählten Facette (16) von der Solllage des Bildes (22) in der Feldebene (F₂) erfasst.
Messvorrichtung nach Anspruch 42, dadurch gekennzeichnet, dass ein weiterer Detektor in Form einer Kamera in oder nahe einer Pupillenebene angeordnet ist, die die Ausleuchtung der Pupillenebene aufnimmt, und dass die Auswerteeinheit die Ist-Winkellage der ausgewählten Facette (16) des Feldspiegels (12) und/oder der zugeordneten Facette (18) des Pupillenspiegels (14) als Abweichung der Ist-Ausleuchtung der Pupillenebene von der Soll-Ausleuchtung der Pupillenebene erfasst.
Messvorrichtung nach einem der Ansprüche 25 bis 43, dadurch gekennzeichnet, dass die Facetten des zumindest einen Facettenspiegels (12, 14) zumindest zwei diskrete Kippstellungen aufweisen, zwischen denen die Facetten (16, 18) verkippt werden können, oder dass die Facetten (16, 18) des zumindest einen Facettenspiegels ein kontinuierliches Spektrum von Kippstellungen aufweisen, wobei die Facetten (16, 18) innerhalb des Spektrums der Kippstellungen kontinuierlich verkippt werden können, und dass die Messvorrichtung (40; 70; 90; 110; 130; 130a; 130b; 200; 290) dazu ausgelegt ist, die Winkellagen der Facetten (16, 18) für verschiedene mögliche Kippstellungen zu messen.
Messvorrichtung nach Anspruch 44, gekennzeichnet durch ein erstes Spiegelarray (272), das eine Mehrzahl an ersten Spiegeln (274) aufweist, deren Winkellage verstellbar ist, und durch ein zweites Spiegelarray (276), das eine Mehrzahl an zweiten Spiegeln (278) aufweist, deren Winkellage verstellbar ist, und mit einer Steuerung zum Verkippen der ersten Spiegel (274) und der zweiten Spiegel (278) entsprechend der eingestellten Kippstellung der Facetten (16, 18), um die Verkippung der Facetten (16, 18) bei der Messung der Winkellagen zu kompensieren.
Verwendung einer Facettenspiegelanordnung (10) in einer Beleuchtungseinrichtung einer Maskeninspektionsanlage (300; 320) für die EUV-Lithographie.
Verwendung nach Anspruch 46, wobei die Facettenspiegelanordnung (10) einen ersten Facettenspiegel (12), der eine Vielzahl von ersten Facetten (16) aufweist, und zumindest einen zweiten Facettenspiegel (14) aufweist, der eine Vielzahl an zweiten Facetten (18) aufweist.
Verwendung nach Anspruch 47, wobei die ersten Facetten (16) langgestreckt bogenförmig ausgebildet sind, und/oder wobei die zweiten Facetten (18) stempelförmig ausgebildet sind.
Verwendung nach Anspruch 47 oder 48, wobei der erste Facettenspiegel (12) in einer zu einer Feldebene, in der eine zu inspizierende Maske angeordnet ist, konjugierten Ebene und der zumindest eine zweite Facettenspiegel (14) in einer zu einer Pupillenebene konjugierten Ebene angeordnet ist.