DE102016206113A1

DE102016206113A1 - Spiegel, lithographieanlage und verfahren zum herstellen einer lithographieanlage

Info

Publication number: DE102016206113A1
Application number: DE102016206113.5A
Authority: DE
Inventors: Pascal Marsollek
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2016-04-13
Filing date: 2016-04-13
Publication date: 2017-03-30
Also published as: DE102017206039A1

Abstract

Es wird ein Spiegel (200) für eine Lithographieanlage (100) offenbart, welcher einen Spiegelkörper (204), und mindestens eine Anschlussanordnung (206), welche über mindestens eine Befestigungsstelle (302) mit dem Spiegelkörper (204) verbunden ist, aufweist. Die Anschlussanordnung (206) weist eine erste Schnittstelle (314) zum Verbinden des Spiegels (200) mit einem Halterahmen (400) eines Prüfturms (412) und eine zweite Schnittstelle (316) zum Verbinden des Spiegels (200) mit einem Halterahmen (500) eines optischen Systems (508) auf.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Spiegel für eine Lithographieanlage, eine Lithographieanlage und ein Verfahren zum Herstellen einer Lithographieanlage.
Die Lithographie wird zur Herstellung mikro- und nanostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Lithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat (z. B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von – wie bisher – brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden.
Bevor eine Lithographieanlage in Betrieb genommen wird, werden die Spiegel genau vermessen. Dabei werden die Spiegel in der Einbaulage in unterschiedlichen Prüftürmen vermessen, d.h. die Ausrichtung der Spiegel in den Prüftürmen ist die gleiche wie im Betrieb der Lithographieanlage. Nachdem ein Spiegel vermessen wurde, kann die Spiegeloberfläche nachbearbeitet werden. Dieses Vorgehen wird teils als aufwendig empfunden.
Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, demgegenüber eine Verbesserung zu schaffen.
Demgemäß wird ein Spiegel für eine Lithographieanlage bereitgestellt, aufweisend einen Spiegelkörper, und mindestens eine Anschlussanordnung, welche über mindestens eine Befestigungsstelle mit dem Spiegelkörper verbunden ist, wobei die Anschlussanordnung eine erste Schnittstelle zum Verbinden des Spiegels mit einem Halterahmen eines Prüfturms und eine zweite Schnittstelle zum Verbinden des Spiegels mit einem Halterahmen eines optischen Systems aufweist.
Dadurch, dass der Spiegel die Anschlussanordnung mit der ersten Schnittstelle und der zweiten Schnittstelle aufweist, kann der Spiegel in einem Prüfturm vermessen werden, bei dem die Ausrichtung des Spiegels von der Einbaulage in dem optischen System der Lithographieanlage abweicht. Diese Vermessung kann insbesondere bei Spiegeln angewendet werden, bei denen die Oberflächendeformation weniger kritisch ist, wie beispielsweise Spiegel mit streifendem Lichteinfall (Engl.: gracing incidence mirror). Bei den Spiegeln mit streifendem Lichteinfall ist der Winkel zwischen dem Lichteinfall und der Normalen der optischen Fläche des Spiegels insbesondere größer 50°, größer 60°, größer 70° oder größer 80°. Die Ausrichtung des Spiegels in einem Prüfturm kann sich demnach von der Ausrichtung des Spiegels in dem optischen System unterscheiden.
Vorteilhaft wird so ermöglicht, dass verschiedene Spiegel mit unterschiedlicher Einbaulage in der Lithographieanlage in einem einzigen Prüfturm vermessen werden können, weil jeder Spiegel eine für diesen Prüfturm passende Schnittstelle aufweist. Alternativ können auch nur weniger Prüftürme, beispielsweise zwei oder drei Prüftürme, verwendet werden. Insgesamt lässt sich die Anzahl der zur Vermessung der Spiegel benötigten Prüftürme verringern.
Bei dem optischen System kann es sich beispielsweise um eine Projektionsoptik oder ein Beleuchtungssystem handeln.
In einem Bereich des Spiegels kann lediglich eine Anschlussanordnung vorgesehen sein. Auf eine weitere Anschlussanordnung im gleichen Bereich des Spiegelkörpers kann verzichtet werden. Dadurch kann die Herstellung des Spiegels vereinfacht werden, da jede Anschlussanordnung am Spiegelkörper befestigt wird, und jede Befestigung zu zusätzlichen Deformationen des Spiegels führen kann. Demnach kann eine möglichst geringe Zahl an Anschlussanordnungen zu einer Fertigungsvereinfachung führen. Zusätzlich kann eine möglichst geringe Zahl an Anschlussanordnungen zu einer Performanceverbesserung (Performanceverbesserung in Bezug auf die Passedeformation) führen, da weniger Anschlussanordnungen zu einer geringeren Deformation im Spiegelkörper führen können.
Dadurch, dass nur wenige Anschlussanordnungen vorgesehen sind, kann ein kleiner Spiegel-Rohling vorgesehen werden. Dadurch können Materialkosten eingespart werden.
Ein Prüfturm weist eine Halterung für den Spiegel (wird auch als Fassung bezeichnet) und eine Messtechnik auf. Dabei kann die Messtechnik ein Interferometer umfassen. Mit einem Prüfturm kann die Spiegelpasse, d.h. die Form der optischen Fläche, vermessen werden. Aufgrund des Unterschieds in der Ausrichtung des Spiegels in dem optischen System im Vergleich zur Messung in dem Prüfturm, wird der Gravitationseffekt als Vorhalt in die Spiegelpasse mit eingerechnet, wenn die optische Fläche überarbeitet wird.
Weiter können mehrere Schnittstellen, insbesondere zwei, drei, vier oder fünf Schnittstellen, in einer Anschlussanordnung vorgesehen werden. Dadurch ist es möglich die Anschlussanordnung zur Verbindung des Spiegels in mehreren unterschiedlichen Ausrichtungen zu verwenden, z.B. wenn der Spiegel in mehreren Prüftürmen vermessen wird.
Gemäß einer Ausführungsform des Spiegels weist eine Verbindungsrichtung der ersten Schnittstelle in Gravitationsrichtung, wenn der Spiegel mit dem Halterahmen des Prüfturms verbunden ist, und eine Verbindungsrichtung der zweiten Schnittstelle weist in Gravitationsrichtung, wenn der Spiegel mit dem Halterahmen des optischen Systems verbunden ist. Der Spiegel ist immer so ausgerichtet, dass die Verbindungsrichtung der Schnittstelle an der der Spiegel befestigt ist, in Gravitationsrichtung weist. Vorteilhafterweise kann die Schnittstelle, an der der Spiegel gerade befestigt ist, senkrecht zur Gravitationsrichtung weich ausgelegt sein. Dabei bedeutet weich, dass die Schnittstelle senkrecht zur Gravitationsrichtung eine gewisse Flexibilität aufweist. Im Gegensatz dazu weist die Schnittstelle in Gravitationsrichtung eine wesentlich geringere Flexibilität auf.
Dabei kann die Verbindungsrichtung einer Schnittstelle diejenige Richtung sein, mit der ein Gegenkopplungsstück mit einem Kopplungsstück der Schnittstelle in Eingriff gebracht wird.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Verbindungsrichtung der ersten Schnittstelle einen Winkel zu der Verbindungsrichtung der zweiten Schnittstelle auf. Vorteilhafterweise können dadurch mit einer Anschlussanordnung zwei Verbindungsrichtungen realisiert werden. Dabei kann der Winkel zwischen der Verbindungsrichtung der ersten Schnittstelle und der Verbindungsrichtung der zweiten Schnittstelle größer 15°, größer 30° oder größer 45° sein.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels ist der Winkel zwischen der Verbindungsrichtung der ersten Schnittstelle und der Verbindungsrichtung der zweiten Schnittstelle gleich einem Winkel zwischen einer ersten Ausrichtung des Spiegels in dem Prüfturm und einer zweiten Ausrichtung des Spiegels in dem optischen System. Die Verbindungsrichtung einer Schnittstelle und die Ausrichtung des Spiegels hängen zusammen. Deswegen können die möglichen Ausrichtungen des Spiegels über die Anordnung der Schnittstellen in der Anschlussanordnung bestimmt werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die erste Schnittstelle und/oder die zweite Schnittstelle eine Basis, ein Gelenk und ein Kopplungsstück auf, das Gelenk ist mit der Basis und das Kopplungsstück ist mit dem Gelenk verbunden, und das Kopplungsstück ist eingerichtet, mit einem Gegenkopplungsstück in Verbindungsrichtung in Eingriff gebracht zu werden. Das Gegenkopplungsstück kann mit dem Halterahmen eines Prüfturms oder eines optischen Systems verbunden sein. Weiter können das Kopplungsstück und das Gegenkopplungsstück miteinander lösbar verbunden werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weisen die erste Schnittstelle und/oder die zweite Schnittstelle ein Festkörpergelenk und/oder ein Kardangelenk auf. Vorteilhafterweise kann eine Schnittstelle mit einem Festkörpergelenk oder mit einem Kardangelenk so ausgeführt werden, dass sie senkrecht zu der Verbindungsrichtung weich ausgebildet ist, d.h. eine gewisse Flexibilität aufweist.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Anschlussanordnung ein einteiliges und/oder einstückiges Bauteil auf, welches die erste Schnittstelle und die zweite Schnittstelle umfasst. Dabei ist ein einteiliges Bauteil ein Bauteil, welches nur aus einem Teil besteht. Das Teil kann aus einem Stück gefertigt sein oder aus mehreren Teilstücken zusammengebaut sein, wobei die mehreren Teilstücke miteinander verbunden sind. Ein einstückiges Bauteil ist dagegen ein Bauteil, welches aus einem Stück hergestellt wurde.
Die Anschlussanordnung umfasst die Schnittstellen. Genauer umfasst die Anschlussanordnung die Basis einer Schnittstelle. Das Gelenk und das Kopplungsstück der Schnittstelle können dagegen lösbar mit der Basis der Schnittstelle verbunden sein. Demnach weist das Bauteil der Anschlussanordnung nur die Basis der Schnittstelle auf.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Anschlussanordnung ein erstes Bauteil und ein zweites Bauteil, welches von dem ersten Bauteil getrennt vorgesehen ist, auf. Jedes der Bauteile weist eine Befestigungsstelle zum Verbinden mit dem Spiegelkörper auf. Das erste Bauteil umfasst die erste Schnittstelle und das zweite Bauteil umfasst die zweite Schnittstelle. Vorteilhafterweise weist jedes der Bauteile eine Schnittstelle auf, wobei jede Schnittstelle eine unterschiedliche Verbindungsrichtung vorsieht. Dadurch kann der Spiegel entsprechend der Verbindungsrichtung der jeweiligen Schnittstelle unterschiedlich ausgerichtet an einem Halterahmen befestigt werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist der Spiegel drei Anschlussanordnungen auf. Mittels drei Anschlussanordnungen kann der Spiegel stabil gelagert werden. Jede der Anschlussanordnungen kann mit einem oder mehreren Aktoren verbunden sein. Alternativ kann der Spiegel auch mehr als drei Anschlussanordnungen aufweisen. Prinzipiell kann der Spiegel so gelagert werden, dass er in bis zu sechs Freiheitsgraden, d.h. in drei translatorischen Freiheitsgraden und drei rotatorischen Freiheitsgraden, ausgerichtet werden kann.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels ist mindestens eine Befestigungsstelle mit dem Spiegelkörper verklebt oder verlötet. Vorteilhafterweise kann die Anschlussanordnung mittels Kleben oder Löten geeignet an dem Spiegelkörper befestigt werden. Dabei verursacht eine stoffschlüssige Verbindung weniger Spannungen im Spiegelkörper als eine mechanische Verbindung.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist der Spiegel zu jeder Anschlussanordnung zumindest eine Aufnahmegeometrie am Spiegelkörper auf, welche mit einer Befestigungsstelle der Anschlussanordnung verbunden ist. Dabei ist eine Aufnahmegeometrie ein Bereich des Spiegelkörpers, welcher mit einer Anschlussanordnung verbunden sein kann. Die Aufnahmegeometrie kann eine Ausnehmung aufweisen, welche Spannungen, die aufgrund der Verbindung von Spiegelkörper und Anschlussanordnung entstehen, ausgleichen kann. Alternativ kann eine Aufnahmegeometrie auch mehrere Ausnehmungen, insbesondere zwei, drei, vier oder fünf Ausnehmungen aufweisen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist der Spiegel zumindest eine weitere Aufnahmegeometrie zum Ableiten von Wärme, zum Verbinden mit einem Aktor, zum Begrenzen der Auslenkung des Spiegels und/oder zum Arretieren des Spiegels beim Transportieren des Spiegels auf. Vorteilhafterweise kann eine Aufnahmegeometrie des Spiegelkörpers, welche nicht mit einer Anschlussanordnung verbunden ist, auch anderweitig genutzt werden.
Ferner wird eine Lithographieanlage, insbesondere EUV- oder DUV-Lithographieanlage, mit einem Spiegel, wie vorstehend beschrieben, bereitgestellt. EUV steht für „extreme ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 und 30 nm. DUV steht für „deep ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 und 250 nm.
Weiter wird ein Verfahren zum Herstellen einer Lithographieanlage bereitgestellt. Das Verfahren weist die folgenden Schritte auf: a) Vermessen einer optischen Fläche eines Spiegels in einem Prüfturm in einer ersten Ausrichtung des Spiegels, b) Bearbeiten der optischen Fläche des Spiegels entsprechend den Ergebnissen der Vermessung, und c) Einbauen des Spiegels in ein optisches System in einer zweiten Ausrichtung des Spiegels, wobei sich die erste Ausrichtung von der zweiten Ausrichtung unterscheidet.
Dadurch, dass ein solcher Spiegel in einem Prüfturm eine unterschiedliche Ausrichtung als in einem optischen System aufweisen kann, ist es möglich mehrere Spiegel der Lithographieanlage in nur einem Prüfturm oder in nur wenigen Prüftürmen zu vermessen. Damit lässt sich die Anzahl der benötigten Prüftürme reduzieren.
Nachdem der Spiegel vermessen wurde, kann die optische Fläche des Spiegels nachbearbeitet werden. Dabei wird vorteilhaft die Gravitation als Deformationstreiber bei unterschiedlichen Ausrichtungen des Spiegels bei der Nachbearbeitung der optischen Fläche berücksichtigt.
In dem Prüfturm kann insbesondere die Wellenfront der vom Spiegel reflektierten Strahlung mit einer Soll-Wellenfront verglichen werden. Die Abweichung der Wellenfront der vom Spiegel reflektierten Strahlung zur Soll-Wellenfront lässt Rückschlüsse auf die Oberflächendeformation des Spiegels zu.
Gemäß einer Ausführungsform des Verfahrens wird der Spiegel mit einer ersten Schnittstelle an einem Halterahmen des Prüfturms befestigt und mit einer zweiten Schnittstelle an einem Halterahmen des optischen Systems befestigt. Vorteilhafterweise sind zwei verschiedenen Schnittstellen vorgesehen, so dass der Spiegel mit jeder Schnittstelle in einer anderen Ausrichtung gehalten werden kann.
Die für den vorgeschlagenen Spiegel und die vorgeschlagene Lithographieanlage beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für das vorgeschlagene Verfahren entsprechend und umgekehrt.
Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmale oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.
1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage;
1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage;
2 zeigt eine Ansicht der Spiegelrückseite eines Spiegels;
3 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels aus 2;
4 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels aus 2 verbunden mit einem Halterahmen eines Prüfturms;
5 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels aus 2 verbunden mit einem Halterahmen einer Projektionsoptik;
6 zeigt eine vergrößerte Ansicht der in 4 dargestellten ersten Schnittstelle;
7 zeigt eine schematische Ansicht des Gelenks aus 6;
8 zeigt eine Schnittansicht eines weiteren Spiegels;
9 zeigt eine Schnittansicht eines weiteren Spiegels; und
10 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen einer Lithographieanlage.
Falls nichts anderes angegeben ist, bezeichnen gleiche Bezugszeichen in den Figuren gleiche oder funktionsgleiche Elemente. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.
1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mit Hilfe einer nicht näher dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht näher dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem die Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren bzw. Einstellen der optischen Elemente vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein.
Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle oder ein Synchrotron vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletten Bereich), also z.B. im Wellenlängenbereich von 0,1 nm bis 30 nm aussenden. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt und die gewünschte Betriebswellenlänge aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind.
Das in 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf die Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 136 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 122 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionssystem 104 weist sechs Spiegel M1–M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 122 auf. Dabei können einzelne Spiegel M1–M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 124 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel i.d.R. an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind von einem nicht näher dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem die Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren bzw. Einstellen der optischen Elemente vorgesehen sind. Die DUV-Lithographieanlage 100B weist ferner eine Steuereinrichtung 126 zum Steuern verschiedener Komponenten der DUV-Lithographieanlage 100B auf. Dabei ist die Steuereinrichtung 126 mit dem Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102, einer DUV-Lichtquelle 106B, einer Halterung 128 der Photomaske 120 (Engl.: reticle stage) und einer Halterung 130 des Wafers 122 (Engl.: wafer stage) verbunden.
Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei 193 nm emittiert.
Das in 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 122 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 132 und/oder Spiegel 134 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 122 auf. Dabei können einzelne Linsen 132 und/oder Spiegel 134 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 124 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen und Spiegel der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen und/oder Spiegel vorgesehen sein. Insbesondere weist das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 der DUV-Lithographieanlage 100B mehrere Linsen und/oder Spiegel auf. Des Weiteren sind die Spiegel i.d.R. an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
Im Folgenden wird ein Spiegel 200 beschrieben. Bei dem Spiegel 200 kann es sich um einen der Spiegel M1–M6 des Projektionssystems 104 der EUV-Lithographieanlage 100A handeln. Bei dem Spiegel 200 kann es sich auch um einen Spiegel des Projektionssystems 104 der DUV-Lithographieanlage 100B handeln.
Das entsprechende Projektionssystem 104 kann ein Immersionsobjektiv aufweisen. Dabei kann eine Immersionsflüssigkeit zur Verbesserung der Auflösung des Immersionsobjektivs eingesetzt werden.
2 zeigt eine Ansicht der Spiegelrückseite 202 des Spiegels 200. Der Spiegel 200 weist einen Spiegelkörper 204 und drei Anschlussanordnungen 206 auf. Mittels der Anschlussanordnungen 206 wird der Spiegel 200 mit einem Prüfturm oder mit einer Projektionsoptik eines Projektionssystems 104 verbunden.
Der Spiegel 200 umfasst mindestens eine Anschlussanordnung 206. Alternativ kann der Spiegel auch mehrere Anschlussanordnungen 206 aufweisen. Idealerweise umfasst der Spiegel 200 mindestens drei Anschlussanordnungen 206, da der Spiegel 200 dann stabil gelagert werden kann. Weiter kann der Spiegel 200 in bis zu sechs Freiheitsgraden positionierbar sein. Insbesondere kann der Spiegel 200 mittels der mindestens drei Anschlussanordnungen 206 bezüglich zweier orthogonaler Achsen, welche in der Ebene der Spiegelrückseite 202 angeordnet sein können, verkippt werden. Prinzipiell wäre auch ein Spiegel 200 mit einer Anschlussanordnung 206 denkbar, an welcher eine Manipulation in sechs Freiheitsgraden durchgeführt wird. Ein Spiegel 200 an welchem an unterschiedlichen Anschlussanordnungen 206 eine Manipulation mit einer unterschiedlichen Anzahl an Freiheitsgraden durchgeführt werden kann, ist ebenfalls denkbar.
3 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels 200 entlang der Linie III-III aus 2. Zu sehen ist der Spiegelkörper 204 und eine der Anschlussanordnungen 206. Die Anschlussanordnung 206 ist auf der Spiegelrückseite 202 angeordnet, welche sich gegenüber einer optischen Fläche 300 des Spiegels 200 befindet. Dabei kann die optische Fläche 300 eine Krümmung aufweisen. Vorteilhaft ist eine Anordnung der Anschlussanordnung 206 nicht direkt hinter der optischen Fläche 300, sondern seitlich versetzt, so dass die Deformation des Spiegels 200 bei der stoffschlüssigen Verbindung zwischen der Anschlussanordnung 206 und dem Spiegelkörper 204 außerhalb des optisch aktiven Bereichs ist. Alternativ kann auch eine oder mehrere der Anschlussanordnungen 206 auf der Spiegelmantelfläche 320, d.h. seitlich des optisch aktiven Bereichs, angeordnet werden. Entsprechend kann eine Anschlussanordnung 206 auch auf der Spiegelmantelfläche 320 versetzt zum optisch aktiven Bereich angeordnet werden.
Wie in 3 gezeigt, ist die Anschlussanordnung 206 über eine Befestigungsstelle 302 mit dem Spiegelkörper 204 verbunden. Dabei ist die gezeigte Befestigungsstelle 302 ein rotationssymmetrischer Bereich der Anschlussanordnung 206. Alternativ kann die Befestigungsstelle 302 auch unsymmetrisch sein. Prinzipiell kann die Befestigungsstelle 302 jede beliebige Form aufweisen. Weiter kann eine Klebung so unterteilt werden, dass kleine Pads im Kontakt mit dem Spiegelkörper 204 stehen. In einer weiteren Alternative können auch mehrere Befestigungsstellen 302 bei einer Anschlussanordnung 206 vorgesehen sein.
Die Anschlussanordnung 206 ist über die Befestigungsstelle 302 mittels eines Klebers 304 oder einer Lot 306 mit dem Spiegelkörper 204 verklebt oder verlötet. Genauer ist die Anschlussanordnung 206 mit einer Aufnahmegeometrie 308 des Spiegelkörpers 204 verbunden. Die Aufnahmegeometrie 308 kann eine Ausnehmung 310 aufweisen. Die Ausnehmung 310 kann beispielsweise eine zylinderförmige oder eine quaderförmige Form aufweisen. In die Ausnehmung 310 des Spiegelkörpers 204 kann ein Bereich 312 der Anschlussanordnung 206 ragen. Die Ausnehmung 310 kann Spannungen ausgleichen, welche durch die Befestigung der Anschlussanordnung 206 an dem Spiegelkörper 204 hervorgerufen werden können. Dementsprechend werden Deformationen der optischen Fläche 300 verhindert oder minimiert.
Die in 3 dargestellte Anschlussanordnung 206 weist eine erste Schnittstelle 314 und eine zweite Schnittstelle 316 auf. Dabei sind die beiden Schnittstellen 314, 316 in zwei unterschiedliche Richtungen ausgerichtet. Alternativ kann die Anschlussanordnung 206 auch mehr als zwei Schnittstellen 314, 316 aufweisen. Dabei können alle Schnittstellen 314, 316 in unterschiedlichen Richtungen ausgerichtet sein.
Wie in 3 zu sehen, weist die Anschlussanordnung 206 ein einstückiges Bauteil 318 auf, d.h. das Bauteil 318 ist aus einem Stück gefertigt. Dabei enthält das Bauteil 318 die erste Schnittstelle 314 und die zweite Schnittstelle 316. Alternativ kann das Bauteil 318 auch einteilig sein, aber nicht aus einem Stück gefertigt sein. In diesem Fall besteht das Bauteil 318 aus mehreren miteinander verbundenen Teilstücken.
4 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels 200 aus 2, wobei der Spiegel 200 mit einem Halterahmen 400 (Engl.: force frame) eines Prüfturms 412 verbunden ist. Dazu wird ein Gegenkopplungsstück 402 mit der ersten Schnittstelle 314 verbunden. Dabei weist die Verbindungsrichtung 404 der ersten Schnittstelle 314 in Gravitationsrichtung 406.
Die erste Schnittstelle 314 kann so ausgebildet sein, dass sie senkrecht zu der Verbindungsrichtung 404 weich ist. Entlang der Verbindungsrichtung 404 ist die erste Schnittstelle 314 dagegen starr. Der Spiegel 200 kann mittels mehrerer erster Schnittstellen 314 mehrerer Anschlussanordnungen 206 gehalten und/oder positioniert werden.
Mittels des Prüfturms 412 kann die Beschaffenheit der optischen Fläche 300 des Spiegels 200 vermessen werden. Dazu kann die Wellenfront einer an der optischen Fläche 300 reflektierten Strahlung mit einer Soll-Wellenfront verglichen werden. Dies erlaubt Rückschlüsse auf Deformationen der optischen Fläche 300.
Die Anschlussanordnung 206 ist fest mit dem Spiegelkörper 204 verbunden. Daher kann die erste Ausrichtung 408 des Spiegels 200 in dem Prüfturm 412 über die Anschlussanordnung 206 definiert werden. Dementsprechend kann die erste Ausrichtung 408 über eine Begrenzung 410 des Bereichs der Anschlussanordnung 206 definiert werden, welcher die erste Schnittstelle 314 aufweist. Die Begrenzung 410 ist dabei der Verlauf eines Randes desjenigen Bereichs der Anschlussanordnung 206, in welchem die erste Schnittstelle 314 ausgebildet ist. Aufgrund der in der 4 gezeigten Ausbildung von Anschlussanordnung 206 und erster Schnittstelle 314, ist die erste Ausrichtung 408 senkrecht zur Verbindungsrichtung 404 der ersten Schnittstelle 314.
5 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels 200 aus 2, wobei der Spiegel 200 mit einem Halterahmen 500 (Engl.: force frame) einer Projektionsoptik 508 eines Projektionssystems 104 verbunden ist. Dabei ist die Projektionsoptik 508 ein Teilbereich des Projektionssystems 104 oder identisch mit diesem. Weiter wird ein Gegenkopplungsstück 402 mit der zweiten Schnittstelle 316 verbunden. Dabei weist die Verbindungsrichtung 502 der zweiten Schnittstelle 316 in Gravitationsrichtung 406.
Die zweite Schnittstelle 316 kann so ausgebildet sein, dass sie senkrecht zu der Verbindungsrichtung 502 weich ist. Entlang der Verbindungsrichtung 502 ist die zweite Schnittstelle 316 dagegen starr. Der Spiegel 200 kann mittels mehrerer zweiter Schnittstellen 316 mehrerer Anschlussanordnungen 206 gehalten und/oder positioniert werden.
Die Verbindungsrichtung 404 der ersten Schnittstelle 314 ist unterschiedlich zu der Verbindungsrichtung 502 der zweiten Schnittstelle 316. Dementsprechend weisen die Verbindungsrichtungen 404, 502 einen Winkel α zueinander auf.
Da die Anschlussanordnung 206 fest mit dem Spiegelkörper 204 verbunden ist, kann auch die zweite Ausrichtung 504 des Spiegels 200 in der Projektionsoptik 508 über die Anschlussanordnung 206 definiert werden. Dementsprechend kann die zweite Ausrichtung 504 über eine Begrenzung 506 des Bereichs der Anschlussanordnung 206 definiert werden, welcher die zweite Schnittstelle 316 aufweist. Die Begrenzung 506 ist dabei der Verlauf eines Randes desjenigen Bereichs der Anschlussanordnung 206, in welchem die zweite Schnittstelle 316 ausgebildet ist. Aufgrund der in der 5 gezeigten Ausbildung von Anschlussanordnung 206 und zweiter Schnittstelle 316, ist die zweite Ausrichtung 504 senkrecht zur Verbindungsrichtung 502 der zweiten Schnittstelle 316.
Sowohl die erste Schnittstelle 314 als auch die zweite Schnittstelle 316 haben eine vorgegebene Verbindungsrichtung 404, 502, nämlich die Gravitationsrichtung. Aus diesem Grund ergibt sich zwischen Verbindungsrichtung 404, 502 und Ausrichtung 408, 504 immer der gleiche Zusammenhang. Dementsprechend ist auch der Winkel α zwischen der Verbindungsrichtung 404 der ersten Schnittstelle 314 und der Verbindungsrichtung 502 der zweiten Schnittstelle 316 gleich einem Winkel β zwischen einer ersten Ausrichtung 408 des Spiegels 200 in dem Prüfturm 412 und einer zweiten Ausrichtung 504 des Spiegels 200 in der Projektionsoptik 508. Generell kann der Winkel β frei gewählt werden. Entscheidend sind dann die Wirkungsrichtungen der ersten Schnittstelle 314 und der zweiten Schnittstelle 316.
Prinzipiell kann durch die Anschlussanordnungen 206 erreicht werden, dass verschiedene Spiegel 200 in dem gleichen Prüfturm 412 vermessen werden können. Dadurch kann die Anzahl der Prüftürme 412 reduziert werden.
Weiter können auch mehr als zwei Schnittstellen 314, 316 in einer Anschlussanordnung 206 vorgesehen sein, welche unterschiedliche Verbindungsrichtungen 404, 502 aufweisen. So kann der Spiegel 200 in verschiedenen Prüftürmen 412 in unterschiedlichen Ausrichtungen 408, 504 vermessen werden.
6 zeigt eine vergrößerte Ansicht des Bereichs VI aus 4. Dargestellt ist die erste Schnittstelle 314. Die erste Schnittstelle 314 weist eine Basis 600, ein Gelenk 602 und ein Kopplungsstück 604 auf. Die Basis 600 ist ein Teilbereich der Anschlussanordnung 206. Das Gelenk 602 ist mit der Basis 600 verbunden. Weiter ist das Kopplungsstück 604 mit dem Gelenk 602 verbunden.
Das Kopplungsstück 604 ist derart ausgebildet, dass es mit dem Gegenkopplungsstück 402 in Verbindungsrichtung 404 in Eingriff gebracht werden kann, um mit diesem verbunden zu werden. Die Verbindungsrichtung 404 entspricht der Gravitationsrichtung. In 6 entspricht die Verbindungsrichtung 404 der Z-Richtung.
Das Gelenk 602 kann fest oder lösbar mit der Basis 600 verbunden sein. Ist das Gelenk 602 fest mit der Basis 600 verbunden, dann können sogenannte reproduzierbare Fehler vermieden werden, die sich dadurch ergeben, dass lösbare Verbindungen nie exakt gleich verbunden sind.
Die zweite Schnittstelle 316 kann analog wie die in 6 beschriebene erste Schnittstelle 314 aufgebaut sein.
7 zeigt eine schematische Ansicht des Schnitts VII-VII durch 6. Schematisch dargestellt ist das Gelenk 602 in der XY-Ebene. Das Gelenk 602 kann eine erste Schwenkachse 700 und eine zweite Schwenkachse 702 aufweisen. Die beiden Schwenkachsen 700, 702 können orthogonal zueinander sein. Das Gelenk 602 koppelt die Basis 600 und das Kopplungsstück 604, so dass das Kopplungsstück 604 gegenüber der Basis 600 geschwenkt werden kann. Dementsprechend kann das Gelenk 602 um die beiden Schwenkachsen 700, 702 gedreht werden. Damit ist das Gelenk 602 in der XY-Ebene weich, d.h. flexibel. In Z-Richtung senkrecht zur XY-Ebene ist das Gelenk 602 dagegen starr. Insbesondere kann das Gelenk 602 ein Festkörpergelenk und/oder ein Kardangelenk aufweisen.
8 zeigt eine Schnittansicht eines weiteren Spiegels 200. Im Gegensatz zu den in den 3, 4 und 5 dargestellten Spiegeln 200, weist der in der 8 dargestellte Spiegel 200 eine Anschlussanordnung 206 auf, die in ein erstes Bauteil 800 und ein zweites Bauteil 802 aufgeteilt ist. Die beiden Bauteile 800, 802 sind getrennt voneinander angeordnet und nicht miteinander verbunden. Sowohl das erste Bauteil 800 als auch das zweite Bauteil 802 sind mittels einer Befestigungsstelle 302 eines jeweiligen Bauteils 800, 802 mit dem Spiegelkörper 204 verbunden. Für jedes Bauteil 800, 802 kann eine separate Aufnahmegeometrie 308 vorgesehen sein. Alternativ kann eine Aufnahmegeometrie 308 auch für jedes Bauteil 800, 802 eine Ausnehmung 310 vorsehen, in die das Bauteil ragen kann.
Weiter weist das erste Bauteil 800 die erste Schnittstelle 314 und das zweite Bauteil 802 die zweite Schnittstelle 316 auf. Dabei weisen die Verbindungsrichtung 404 der ersten Schnittstelle 314 und die Verbindungsrichtung 502 der zweiten Schnittstelle 316 in unterschiedliche Richtungen. Dementsprechend kann der Spiegel 200 über seine Schnittstellen 314, 316 in unterschiedlichen Ausrichtungen befestigt werden. Prinzipiell kann der Spiegel 200 beliebig viele Bauteile 800, 802 aufweisen. Dabei umfasst jedes Bauteil 800, 802 eine Schnittstelle 314, 316.
9 zeigt eine Schnittansicht eines weiteren Spiegels 200. Der in 9 dargestellt Spiegel zeigt zwei Aufnahmegeometrien 308. An einer Aufnahmegeometrie 308 ist die Anschlussanordnung 206 befestigt. An der anderen Aufnahmegeometrie 308 ist dagegen keine Anschlussanordnung 206 vorgesehen. Die freie Aufnahmegeometrie 308 kann dazu genutzt werden, weitere Anschlüsse mit unterschiedlicher Funktionalität an dem Spiegelkörper 204 zu befestigen. Beispielsweise kann ein Anschluss zum Ableiten von Wärme vorgesehen werden. Weiter kann die Aufnahmegeometrie mit einem Aktor verbunden werden. Zudem kann ein Anschluss vorgesehen werden, welcher die Auslenkung des Spiegels begrenzt. Außerdem kann ein Anschluss vorgesehen werden, mit dem der Spiegel 200 bei einem Transport arretiert werden kann.
10 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen einer Lithographieanlage 100. Dabei wird mit den folgenden Schritten ein Spiegel 200 der Lithographieanlage 100 hergestellt. In einem ersten Schritt S1 wird eine optische Fläche 300 eines Spiegels 200 in einem Prüfturm 412 in einer ersten Ausrichtung 408 des Spiegels 200 vermessen. Dazu wird, wie in 4 dargestellt, eine erste Schnittstelle 314 der Anschlussanordnung 206 mit dem Halterahmen 400 eines Prüfturms 412 verbunden, um den Spiegel 200 zu lagern und zu positionieren.
In einem zweiten Schritt S2 wird die optische Fläche 300 des Spiegels 200 entsprechend den Ergebnissen der Vermessung aus Schritt S1 bearbeitet. Bei der Bearbeitung kann die optische Fläche 300 insbesondere poliert werden. Dabei wird der Gravitationseffekt auf den Spiegel 200 berücksichtigt, der sich dadurch ergibt, dass der Spiegel 200 bei der Vermessung in Schritt S1 die erste Ausrichtung 408 und in Einbaulage in der Projektionsoptik 508 die zweite Ausrichtung 504 aufweist. Die Schritte S1 und S2 können sich mehrfach wiederholen.
In einem dritten Schritt S3 wird der Spiegel 200 in eine Projektionsoptik 508 in der zweiten Ausrichtung 504 des Spiegels 200 eingebaut. Dazu wird, wie in 5 dargestellt, eine zweite Schnittstelle 316 der Anschlussanordnung 206 mit dem Halterahmen 500 einer Projektionsoptik 508 verbunden, um den Spiegel 200 zu lagern und zu positionieren. Dabei unterscheiden sich die erste Ausrichtung 408 und die zweite Ausrichtung 504.
Zuvor wurden die Spiegel 200, insbesondere in den 4 und 5, als hängende Spiegel 200 dargestellt. Die Spiegel 200 können jedoch auch nicht hängend gelagert und positioniert werden. Insbesondere können die Spiegel 200 stehend gelagert und positioniert werden.
Obwohl die Erfindung anhand verschiedener Ausführungsbeispiele beschrieben wurde, ist sie darauf keineswegs beschränkt, sondern vielfältig modifizierbar.
Bezugszeichenliste

100: Lithographieanlage
100A: EUV-Lithographieanlage
100B: DUV-Lithographieanlage
102: Strahlformungs- und Beleuchtungssystem
104: Projektionssystem
106A: EUV-Lichtquelle
106B: DUV-Lichtquelle
108A: EUV-Strahlung
108B: DUV-Strahlung
110: Spiegel
112: Spiegel
114: Spiegel
116: Spiegel
118: Spiegel
120: Photomaske
122: Wafer
124: optische Achse des Projektionssystems
126: Steuereinrichtung
128: Halterung der Photomaske
130: Halterung des Wafers
132: Linse
134: Spiegel
136: Spiegel
200: Spiegel
202: Spiegelrückseite
204: Spiegelkörper
206: Anschlussanordnung
300: optische Fläche
302: Befestigungsstelle
304: Kleber
306: Lot
308: Aufnahmegeometrie
310: Ausnehmung
312: Bereich der Anschlussanordnung
314: erste Schnittstelle
316: zweite Schnittstelle
318: Bauteil
320: Spiegelmantelfläche
400: Halterahmen eines Prüfturms
402: Gegenkopplungsstück
404: Verbindungsrichtung der ersten Schnittstelle
406: Gravitationsrichtung
408: erste Ausrichtung
410: Begrenzung
412: Prüfturm
500: Halterahmen einer Projektionsoptik
502: Verbindungsrichtung der zweiten Schnittstelle
504: zweite Ausrichtung
506: Begrenzung
508: Projektionsoptik
600: Basis
602: Gelenk
604: Kopplungsstück
700: erste Schwenkachse
702: zweite Schwenkachse
800: erstes Bauteil
802: zweites Bauteil
M1–M6: Spiegel
α, β: Winkel
S1–S3: Verfahrensschritte

Claims

Spiegel (200) für eine Lithographieanlage (100), aufweisend einen Spiegelkörper (204), und mindestens eine Anschlussanordnung (206), welche über mindestens eine Befestigungsstelle (302) mit dem Spiegelkörper (204) verbunden ist, wobei die Anschlussanordnung (206) eine erste Schnittstelle (314) zum Verbinden des Spiegels (200) mit einem Halterahmen (400) eines Prüfturms (412) und eine zweite Schnittstelle (316) zum Verbinden des Spiegels (200) mit einem Halterahmen (500) eines optischen Systems (508) aufweist.
Spiegel nach Anspruch 1, wobei eine Verbindungsrichtung (404) der ersten Schnittstelle (314) in Gravitationsrichtung (406) weist, wenn der Spiegel (200) mit dem Halterahmen (400) des Prüfturms (412) verbunden ist, und wobei eine Verbindungsrichtung (502) der zweiten Schnittstelle (316) in Gravitationsrichtung (406) weist, wenn der Spiegel (200) mit dem Halterahmen (500) des optischen Systems (508) verbunden ist.
Spiegel nach Anspruch 2, wobei die Verbindungsrichtung (404) der ersten Schnittstelle (314) einen Winkel (α) zu der Verbindungsrichtung (502) der zweiten Schnittstelle (316) aufweist.
Spiegel nach Anspruch 3, wobei der Winkel (α) zwischen der Verbindungsrichtung (404) der ersten Schnittstelle (314) und der Verbindungsrichtung (502) der zweiten Schnittstelle (316) gleich einem Winkel (β) zwischen einer ersten Ausrichtung (408) des Spiegels (200) in dem Prüfturm (412) und einer zweiten Ausrichtung (504) des Spiegels (200) in dem optischen System (508) ist.
Spiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die erste Schnittstelle (314) und/oder die zweite Schnittstelle (316) eine Basis (600), ein Gelenk (602) und ein Kopplungsstück (604) aufweist, das Gelenk (602) mit der Basis (600) und das Kopplungsstück (604) mit dem Gelenk (602) verbunden ist, und das Kopplungsstück (604) eingerichtet ist, mit einem Gegenkopplungsstück (402) in Verbindungsrichtung (404, 502) in Eingriff gebracht zu werden.
Spiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die erste Schnittstelle (314) und/oder die zweite Schnittstelle (316) ein Festkörpergelenk und/oder ein Kardangelenk aufweisen.
Spiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Anschlussanordnung (206) ein einteiliges und/oder einstückiges Bauteil (318) aufweist, welches die erste Schnittstelle (314) und die zweite Schnittstelle (316) umfasst.
Spiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Anschlussanordnung (206) ein erstes Bauteil (800) und ein zweites Bauteil (802), welches von dem ersten Bauteil (800) getrennt vorgesehen ist, aufweist, jedes der Bauteile (800, 802) eine Befestigungsstelle (302) zum Verbinden mit dem Spiegelkörper (204) aufweist, und das erste Bauteil (800) die erste Schnittstelle (314) und das zweite Bauteil (802) die zweite Schnittstelle (316) umfasst.
Spiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei der Spiegel (200) drei Anschlussanordnungen (206) aufweist.
Spiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei mindestens eine Befestigungsstelle (302) mit dem Spiegelkörper (204) verklebt oder verlötet ist.
Spiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei der Spiegel (200) zu jeder Anschlussanordnung (206) zumindest eine Aufnahmegeometrie (308) am Spiegelkörper (204) aufweist, welche mit einer Befestigungsstelle (302) der Anschlussanordnung (206) verbunden ist.
Spiegel nach Anspruch 11, wobei der Spiegel (200) zumindest eine weitere Aufnahmegeometrie (308) zum Ableiten von Wärme, zum Verbinden mit einem Aktor, zum Begrenzen der Auslenkung des Spiegels (200) und/oder zum Arretieren des Spiegels (200) beim Transportieren des Spiegels (200) aufweist.
Lithographieanlage (100) mit einem Spiegel (200) nach einem der Ansprüche 1 bis 12.
Verfahren zum Herstellen einer Lithographieanlage (100), mit den Schritten: a) Vermessen einer optischen Fläche (300) eines Spiegels (200) in einem Prüfturm (412) in einer ersten Ausrichtung (408) des Spiegels (200), b) Bearbeiten der optischen Fläche (300) des Spiegels (200) entsprechend den Ergebnissen der Vermessung, und c) Einbauen des Spiegels (200) in ein optisches System (508) in einer zweiten Ausrichtung (504) des Spiegels (200), wobei sich die erste Ausrichtung (408) von der zweiten Ausrichtung (504) unterscheidet.
Verfahren nach Anspruch 14, wobei der Spiegel (200) mit einer ersten Schnittstelle (314) an einem Halterahmen (400) des Prüfturms (412) befestigt wird und mit einer zweiten Schnittstelle (316) an einem Halterahmen (500) des optischen Systems (508) befestigt wird.