DE102018200568A1

DE102018200568A1 - Verfahren zum Kalibrieren eines zur Charakterisierung einer diffraktiven Struktur bestimmten Beugungsmessstandes

Info

Publication number: DE102018200568A1
Application number: DE102018200568.0A
Authority: DE
Inventors: Michael Carl; Toralf Gruner; Joachim Hartjes
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2018-01-15
Filing date: 2018-01-15
Publication date: 2018-03-01

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kalibrieren eines zur Charakterisierung einer diffraktiven Struktur, insbesondere eines Computer-generierten Hologramms (CGH), bestimmten Beugungsmessstandes, wobei der Beugungsmessstand einen in einer Bildebene angeordneten flächig messenden Intensitätssensor (130) zur Messung eines bei Beleuchtung der in einer Objektebene angeordneten diffraktiven Struktur mit Licht in einer vorgegebenen Beugungsordnung erzeugten Intensitätsverteilung aufweist, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: Durchführen einer ersten Intensitätsmessung, bei welcher ohne Vorhandensein einer diffraktiven Struktur in der Objektebene Licht von einem ersten Bereich (100d) der Objektebene über den Beugungsmessstand auf den Intensitätssensor gelenkt wird, und Durchführen wenigstens einer zweiten Intensitätsmessung, bei welcher ohne Vorhandensein einer diffraktiven Struktur in der Objektebene Licht von einem zweiten Bereich (100c) der Objektebene über den Beugungsmessstand auf den Intensitätssensor gelenkt wird, wobei sich der zweite Bereich von dem ersten Bereich unterscheidet.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Gebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kalibrieren eines zur Charakterisierung einer diffraktiven Struktur, insbesondere eines Computer-generierten Hologramms (CGH), bestimmten Beugungsmessstandes.
Stand der Technik
Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD's, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z. B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
In für den EUV-Bereich ausgelegten Projektionsobjektiven, d. h. bei Wellenlängen von z. B. etwa 13 nm oder etwa 7 nm, werden mangels Verfügbarkeit geeigneter lichtdurchlässiger refraktiver Materialien Spiegel als optische Komponenten für den Abbildungsprozess verwendet. Zur hochgenauen Prüfung der Spiegel ist insbesondere der Einsatz Computer-generierter Hologramme (CGH) bekannt.
5a–5b zeigen schematische Darstellung zur Erläuterung eines möglichen Funktionsprinzips einer herkömmlichen interferometrischen Prüfanordnung zur Prüfung eines Spiegels 501. Gemäß 5a wird in einer Fizeau-Anordnung ein Interferogramm zwischen an einer Referenzfläche 502 („Fizeau-Platte”) reflektiertem Referenzlicht (Referenzwelle) und einem an dem Spiegel 501 reflektierten Messlicht (Prüfwelle) erzeugt. Dabei wird das Messlicht durch ein Computer-generiertes Hologramm (CGH) 503 zu einer asphärischen Wellenfront geformt, die mathematisch exakt der „Prüflingsform” (d. h. der Form des betreffenden Spiegels 501) in einem Sollabstand entspricht. Die von der Referenzfläche 502 einerseits und dem betreffenden Spiegel 501 bzw. Prüfling andererseits reflektierten Wellenfronten interferieren miteinander in einem (in 5b im Gesamtaufbau schematisch und bespielhaft dargestellten) Interferometer 504, wobei in 5b für das Interferometer 504 eine Lichtquelle 505, eine Strahlteilerplatte 506, ein Kollimator 507, eine Blende 508, ein Okular 509 und eine CCD-Kamera 510 dargestellt sind. Mit der CCD-Kamera 510 wird ein Interferogramm des jeweiligen Spiegels 501 aufgenommen.
In der Praxis besteht ein Bedarf, im Rahmen der Prüfung zu ermittelnde Spiegelfehler von in den CGH's typischerweise vorhandenen Fertigungsfehlern zuverlässig zu unterscheiden.
Die Charakterisierung der CGH's im Hinblick auf besagte Fertigungsfehler kann in einem Prüfstand in Form eines in 3 lediglich schematisch dargestellten Beugungsmessstandes erfolgen. Darin wird bei vollflächiger Ausleuchtung eines mit „300” bezeichneten CGH's über Fourier-Optiken 310 und 320 (von denen letztere in 3 durch zwei Linsen 321, 322 symbolisiert ist) Licht auf einen flächig messenden Intensitätssensor 330, welcher z. B. als CCD-Sensor ausgestaltet sein kann, gelenkt. Eine Aperturblende 315 dient zur Eliminierung von Licht, welches in höhere Beugungsordnungen als die nullte Beugungsordnung gelenkt wird. Der Intensitätssensor 330 soll die gewünschte ortsaufgelöste Information über die von dem CGH in der nullten Beugungsordnung bereitgestellte Helligkeit bzw. Intensitätsverteilung liefern.
Hierbei tritt jedoch in der Praxis das Problem auf, dass die vorstehend beschriebene Charakterisierung des CGH 300 durch Falschlichtpfade innerhalb des Beugungsmessstandes verfälscht werden kann. Ursachen für solche Falschlichtpfade können Doppel- bzw. Mehrfachreflexe sowie auch Streulichteffekte sein. Wie lediglich schematisch in 4 am Beispiel eines zusätzlich zum mit durchgezogener Linie eingezeichneten Designstrahlengang innerhalb des Beugungsmessstandes vorhandenen (gestrichelt eingezeichneten) Falschlichtpfades in Form eines Mehrfachreflexpfades dargestellt ist, trifft infolgedessen Licht zusätzlich zum eigentlichen, durch das Design des Beugungsmessstandes vorgegebenen Ort auf wenigstens einen weiteren Ort des Intensitätssensors 330, wodurch im Ergebnis der Zusammenhang zwischen ausgeleuchteten Bereichen auf dem Intensitätssensor einerseits und den zugehörigen Bereichen auf dem CGH 300 andererseits verfälscht wird. Dies hat wiederum im Ergebnis Genauigkeitseinbußen bei der Charakterisierung des CGH sowie gegebenenfalls fehlerhafte Ergebnisse bei der unter Verwendung des CGH durchgeführten interferometrischen Messung zur Folge.
Zum Stand der Technik wird lediglich beispielhaft auf US 2006/0274325 A1 , US 7,391,524 31 und US 5,371,582 verwiesen.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Vor dem obigen Hintergrund ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Kalibrieren eines Beugungsmessstandes bereitzustellen, welches eine zuverlässige Kalibrierung unter zumindest teilweiser Vermeidung der vorstehend beschriebenen Probleme ermöglicht.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des unabhängigen Patentanspruchs 1 gelöst.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kalibrieren eines zur Charakterisierung einer diffraktiven Struktur, insbesondere eines Computer-generierten Hologramms (CGH), bestimmten Beugungsmessstandes, wobei der Beugungsmessstand einen in einer Bildebene angeordneten flächig messenden Intensitätssensor zur Messung eines bei Beleuchtung der in einer Objektebene angeordneten diffraktiven Struktur mit Licht in einer vorgegebenen Beugungsordnung erzeugten Intensitätsverteilung aufweist, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist:

– Durchführen einer ersten Intensitätsmessung, bei welcher ohne Vorhandensein einer diffraktiven Struktur in der Objektebene Licht von einem ersten Bereich der Objektebene über den Beugungsmessstand auf den Intensitätssensor gelenkt wird; und
– Durchführen wenigstens einer zweiten Intensitätsmessung, bei welcher ohne Vorhandensein einer diffraktiven Struktur in der Objektebene Licht von einem zweiten Bereich der Objektebene über den Beugungsmessstand auf den Intensitätssensor gelenkt wird, wobei sich der zweite Bereich von dem ersten Bereich unterscheidet.

Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, die vorstehend beschriebenen Fehler bzw. innerhalb des Beugungsmessstandes vorhandenen Falschlichtpfade hinsichtlich ihres Einflusses auf die mit dem Beugungsmessstand durchgeführte Charakterisierung einer diffraktiven Struktur wie z. B. eines CGH's dadurch zu eliminieren, dass systematisch und aufeinanderfolgend einzelne Bereiche der Objektebene bzw. einer darin befindlichen ausgeleuchteten zweidimensionalen Fläche über den Beugungsmessstand auf den in der Bildebene befindlichen Intensitätssensor abgebildet werden.
Insbesondere kann erfindungsgemäß eine in der Objektebene anstelle der diffraktiven Struktur bzw. des CGH platzierte Fläche zeilen- oder spaltenweise (z. B. mäanderförmig) insofern abgefahren bzw. „abgescannt” werden, als aufeinanderfolgend einzelne (z. B. im Wesentlichen punktförmige) Orte besagter Fläche in der Objektebene Licht aussenden, welches über die Abbildungsoptik des Beugungsmessstandes auf den in der Bildebene befindlichen Intensitätssensor gelenkt wird.
Die hierbei im Ergebnis erhaltene Zuordnung von jeweils leuchtenden Orten der Objektebene einerseits zu zugehörigen Lichtverteilungen auf dem Intensitätssensor bzw. in der Bildebene andererseits ergibt letztlich ein über eine Matrix darstellbares Gleichungssystem. Infolge des vorstehend beschriebenen systematischen zweidimensionalen „Abscannens” der Objektebene ist die besagte Matrix invertierbar und ermöglicht es, aus einer beliebigen auf dem Intensitätssensor in der Bildebene erhaltenen Intensitätsverteilung zurückzurechnen darauf, welche Intensitätsverteilung in der Objektebene vorgelegen hat (d. h. welche Intensitätsverteilung durch ein gegebenenfalls in dieser Objektebene angeordnetes CGH erzeugt wurde).
Mit anderen Worten wird durch die erfindungsgemäße systematische Kalibrierung sämtliche Information gesammelt, die ein eindeutiges Zurückrechnen von einer auf Seiten des Intensitätssensors erhaltenen Intensitätsverteilung auf eine zugehörige ursprüngliche Lichtverteilung in der Objektebene bzw. auf Seiten des CGH's ermöglicht. Wenngleich erfindungsgemäß vorzugsweise die Objektebene wie vorstehend beschrieben systematisch abgescannt wird (in dem Sinne, dass der jeweils leuchtende Bereich sukzessive entlang einer zweidimensionalen Fläche in der Objektebene verschoben wird), sollen auch bereits Ausführungsformen als von der Erfindung erfasst gelten, bei denen Licht aufeinanderfolgend aus wenigstens zwei unterschiedlichen Bereichen der Objektebene in den Beugungsmessstand eingekoppelt wird. Mit anderen Worten sollen auch Ausführungsformen als von der Erfindung umfasst gelten, bei denen die Kalibrierung des Beugungsmessstandes die sukzessive Durchführung von zwei, drei oder mehr Intensitätsmessungen umfasst, welche sich hinsichtlich des jeweils Licht aussendenden Bereichs der Objektebene voneinander unterscheiden. Auch derartige Ausführungsformen können in der Praxis bereits in Szenarien vorteilhaft sein, bei denen z. B. ein Teilbereich des Beugungsmessstandes (beispielsweise infolge des Eindringens von Kontaminationen) eine vergleichsweise schlechtere Transmission besitzt als ein anderer Bereich des Beugungsmessstandes. In diesem Falle kann durch die erfindungsgemäße Kalibrierung ein ungerechtfertigter Rückschluss auf eine variierende Effizienz der diffraktiven Struktur bzw. des CGH vermieden werden.
Gemäß einer Ausführungsform wird auf Basis der Intensitätsmessungen ein Korrekturterm zur Berücksichtigung von Falschlicht-Anteilen des Beugungsmessstandes bei der Charakterisierung einer diffraktiven Struktur ermittelt.
Gemäß einer Ausführungsform werden eine Vielzahl von Intensitätsmessungen ohne Vorhandensein einer diffraktiven Struktur in der Objektebene durchgeführt, wobei sich diese Intensitätsmessungen hinsichtlich des jeweils Licht aussendenden Bereichs der Objektebene voneinander unterscheiden.
Gemäß einer Ausführungsform wird für diese Intensitätsmessungen die Objektebene zur Variation des Bereichs, von welchem jeweils Licht über den Beugungsmessstand auf den Intensitätssensor gelenkt wird, zweidimensional abgescannt.
Gemäß einer Ausführungsform weist der Beugungsmessstand eine Blende zur Eliminierung von Licht, welches bei Vorhandensein einer diffraktiven Struktur in der Objektebene in höhere Beugungsordnungen als die nullte Beugungsordnung gelenkt wird, aus dem zur Intensitätsmessung beitragenden Anteil auf.
Die Erfindung betrifft weiter auch ein Verfahren zum Prüfen einer optischen Wirkfläche eines optischen Elements, insbesondere eines optischen Elements einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei durch ein Computer-generiertes Hologramm (CGH) eine Prüfwelle zur Durchführung einer interferometrischen Messung an dem optischen Element erzeugt wird, wobei das Computer-generierte Hologramm (CGH) in einem Beugungsmessstand charakterisiert wird, und wobei der Beugungsmessstand unter Durchführung eines Verfahrens mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen kalibriert wird.
Die Erfindung betrifft weiter ein optisches System für die Mikrolithographie, insbesondere Beleuchtungssystem oder Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem optischen Element, welches eine mit einem vorstehend genannten Verfahren geprüfte optische Wirkfläche aufweist.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Es zeigen:
1–2 schematische Darstellungen zur Erläuterung einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
3–4 schematische Darstellungen zur Erläuterung eines herkömmlichen Beugungsmessstandes (3) sowie eines in dessen Betrieb auftretenden Problems (4);
5a–5b schematische Darstellungen zur Erläuterung des Funktionsprinzips einer interferometrischen Prüfvorrichtung zur Prüfung eines Spiegels; und
6 eine schematische Darstellung einer für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER AUSFÜHRUNGSFORMEN
Im Weiteren wird das dem erfindungsgemäßen Verfahren zugrundeliegende Prinzip unter Bezugnahme auf die schematischen Darstellungen in 1 und 2 erläutert.
1 und 2 zeigen lediglich schematisch den bereits anhand von 3 erläuterten, prinzipiell möglichen Aufbau eines Beugungsmessstandes, welcher zur Charakterisierung einer diffraktiven Struktur, insbesondere eines computergenerierten Hologramms (CGH), bestimmt ist. Der Beugungsmessstand weist analog zu dem bekannten Aufbau von 3 eine erste Fourier-Optik 110 und eine zweite (aus Linsen 121, 122 gebildete) Fourier-Optik 120 sowie eine zwischen diesen Fourier-Optiken 110, 120 angeordnete Aperturblende 115 auf. Über den Beugungsmessstand wird im Falle des Vorhandenseins einer diffraktiven Struktur bzw. eines CGH in der Objektebene von dieser diffraktiven Struktur bzw. dem CGH ausgehendes Licht auf einen in der Bildebene angeordneten flächig messenden Intensitätssensor 130 (z. B. in Form einer CCD-Kamera) gelenkt, wobei höhere Beugungsordnungen als die nullte Beugungsordnung über die Aperturblende 115 eliminiert werden.
Zum Zwecke der Kalibrierung des Beugungsmessstandes im Hinblick auf Falschlichtpfade (z. B. infolge von Mehrfachreflexionen und/oder Streulichtanteilen) werden erfindungsgemäß nun mehrere Intensitätsmessungen ohne Vorhandensein einer zu charakterisierenden diffraktiven Struktur in der Objektebene durchgeführt. Diese Intensitätsmessungen unterscheiden sich hinsichtlich des jeweiligen Bereichs der Objektebene, von welchem aus Licht über den Beugungsmessstand auf den Intensitätssensor 130 gelenkt wird. In 1 und 2 sind lediglich beispielhaft zwei unterschiedliche Bereiche (entsprechend zwei aufeinanderfolgenden Messschritten) gezeigt und mit „100d” bzw. „100c” bezeichnet.
Zur Realisierung der besagten, voneinander verschiedenen leuchtenden Bereiche in der Objektebene kann z. B. eine entsprechende Diodenanordnung oder auch ein verstellbarer Spiegel in Verbindung mit einer Punktlichtquelle (deren Licht über den verstellbaren Spiegel auf unterschiedliche Orte einer in der Objektebene befindlichen, entsprechend selektiv leuchtenden Platte gelenkt wird) verwendet werden. In weiteren Ausführungsformen können auch beliebige andere Anordnungen (z. B. mit unabhängig voneinander verstellbaren Spiegelelementen) verwendet werden.
In dem in 1 und 2 dargestellten Beispiel hat ein im Beugungsmessstand infolge von Mehrfachreflexionen vorhandener Falschlichtpfad zur Folge, dass die Beleuchtung von einem ersten Bereich 100d in der Objektebene zu einer messbaren Intensität am Intensitätssensor 130 nicht nur an einem ersten (durch das Design des Beugungsmessstandes vorgegebenen) Bildort 131 in der Bildebene sondern zusätzlich (aufgrund des gestrichelt eingezeichneten Falschlichtpfades) auch auf einem weiteren Bildort 132 führt.
Des Weiteren hat gemäß 2 die Beleuchtung von einem zweiten Bereich 100c zur Folge, dass eine messbare Intensität auf dem Intensitätssensor 130 nicht nur an einem designmäßig zugehörigen Bildort 133, sondern infolge eines weiteren Falschlichtpfades zusätzlich auch an einem weiteren Bildort 134 auf den Intensitätssensor 130 vorliegt.
Erfindungsgemäß erfolgt nun vorzugsweise ein systematisches zweidimensionales Abfahren der Objektebene, wobei lediglich beispielhaft jeder einzelne Objektbereich von einer rasterförmigen Anordnung von Objektbereichen in einer Vielzahl aufeinanderfolgender Messschritte analog zu 1 und 2 Licht in den Beugungsmessstand einkoppelt und wobei jeweils die zugehörige Intensitätsverteilung auf dem Intensitätssensor 130 gemessen wird. Im Ergebnis wird auf diese Weise eine systematische Kalibrierung des Beugungsmessstandes realisiert, welche es ermöglicht, von einer beliebigen, mit dem Intensitätssensor 130 gemessenen Intensitätsverteilung auf die zugehörige Lichtverteilung in der Objektebene zurückzurechnen. In dem konkret anhand von 1 und 2 beschriebenen Szenario wird durch diese Kalibrierung erreicht, dass bei Charakterisierung eines CGH im Beugungsmessstand Intensitätsmessungen in dem Bildbereich 132 bzw. 134 auch korrekterweise dem Objektbereich 100d bzw. 100c und nicht etwa fälschlicherweise (nämlich bedingt durch die besagten Falschlichtpfade innerhalb des Beugungsmessstandes) einem anderen Bereich der Objektebene bzw. des CGH zugeordnet werden.
Vorteilhaft für eine hohe Genauigkeit bei der Bestimmung der Transmissionscharakteristik ist eine gute Kenntnis der Objekthelligkeit während der Kalibrierung, da hierbei grundsätzlich auch einzelne Teilbereiche der Objektebene unterschiedliche Helligkeiten aufweisen können. Um hieraus resultierende Fehler zu minimieren, kann eine unabhängige Vermessung der jeweiligen Helligkeiten der Einzelbereiche erfolgen. Dabei ist es ausreichend, die relativen Verhältnisse zu ermitteln, d. h. eine Absolutmessung ist nicht erforderlich. Das jeweilige, mit dem Intensitätssensor gemessenen Signal kann dann durch die relative Helligkeit des jeweils aktiven Teilbereichs dividiert und so normiert werden.
Im Weiteren wird eine mathematische Darstellung des erfindungsgemäßen Vorgehens bei der Kalibrierung des Beugungsmessstandes gegeben. Dabei werden folgende Variablen verwendet:

x: Bildkoordinate
x': Objektkoordinate
T₀(x, x'): Transmission entlang des direkten (Design-)Lichtwegs von x' nach x
B₀(x'): Designintensität des CGH in die nullte Beugungsordnung am Objektort x'
ΔB(x'): Abweichung der Intensität der nullten Beugungsordnung am Objektort x' vom Designwert
I(x): Intensität am Bildort x bei voller Ausleuchtung des CGH

Es gilt: I(x) = ∫dx'·[T₀(x, x') + ΔT(x, x')]·[B₀(x') + ΔB(x')] (1)
Hieraus folgt: ∫dx'·[T₀(x, x') + ΔT(x, x')]·ΔB(x')] = I(x) – ∫dx'[T₀(x, x') + ΔT(x, x')]·B₀(x') (2)
Mit T₀(x, x') = δ(x – x')·t(x) gilt I(x) = t(x)·B₀(x) + AB(x) + ∫dx'ΔT(x, x')B₀(x') + O(Δ²) (3)
Somit gilt modulo quadratischer Terme in Δ: ΔB(x) ≈ t^–1(x)·(I(x) – ∫dx'ΔT(x, x')·B₀(x')) – B₀(x) (4)
Die erfindungsgemäße Kalibrierung ergibt in dieser Darstellung die Größe T₀(x, x') + ΔT(x, x').
Dabei ist zu beachten, dass hier zur vereinfachten Darstellung nur eine Koordinate berücksichtigt wurde, aber tatsächlich zwei Koordinaten sowohl im Objektfeld als auch im Bildfeld auftreten (z. B. kartesische Koordinaten x und y oder Polarkoordinaten r und φ), so dass diese Transmission von vier Variablen abhängt. Bei dem eigentlichen CGH-Prüfvorgang wird dann I(x) (= Intensität im Bildfeld bei voller CGH-Ausleuchtung) gemessen. Die ideale Beugungsintensität des CGHs in die nullte Beugungsordnung B₀(x') ist anhand der CGH-Auslegung aus im Stand der Technik bekannten Simulationsverfahren bzw. rigorosen elektrodynamischen Rechnungen bekannt. Damit sind drei von vier Größen nach Beugungsmessstand-Kalibrierung und CGH-Vermessung bekannt, so dass anhand der oben angegebenen Faltungsbeziehung die gesuchte ortsabhängige Abweichung der nullten CGH-Beugungsintensität ΔB(x') wie dargelegt durch die Prozedur der Entfaltung ermittelt werden kann.
Im Ergebnis wird der Einfluss von Falschlicht aus Streueffekten sowie Doppel- und Mehrfachreflexen vollständig berücksichtigt, so dass Fehler in der Rekonstruktion der CGH-vermessenen Passe des optischen Elements bzw. Spiegels vermieden werden.
6 zeigt eine schematische Darstellung einer beispielhaften für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage, welche mit einem anhand von 5a–5b beschriebenen Verfahren prüfbare Spiegel aufweisen kann.
Gemäß 6 weist eine Beleuchtungseinrichtung in einer für EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage 10 einen Feldfacettenspiegel 3 und einen Pupillenfacettenspiegel 4 auf. Auf den Feldfacettenspiegel 3 wird das Licht einer Lichtquelleneinheit, welche eine Plasmalichtquelle 1 und einen Kollektorspiegel 2 umfasst, gelenkt. Im Lichtweg nach dem Pupillenfacettenspiegel 4 sind ein erster Teleskopspiegel 5 und ein zweiter Teleskopspiegel 6 angeordnet. Im Lichtweg nachfolgend ist ein Umlenkspiegel 7 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf ein Objektfeld in der Objektebene eines sechs Spiegel 21–26 umfassenden Projektionsobjektivs lenkt. Am Ort des Objektfeldes ist eine reflektive strukturtragende Maske 31 auf einem Maskentisch 30 angeordnet, die mit Hilfe des Projektionsobjektivs in eine Bildebene abgebildet wird, in welcher sich ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes Substrat 41 auf einem Wafertisch 40 befindet. Bei dem im Rahmen der Erfindung geprüften optischen Element kann es sich z. B. um einen beliebigen Spiegel der Projektionsbelichtungsanlage 10 handeln.
Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alternative Ausführungsformen, z. B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungsformen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente beschränkt ist.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

US 2006/0274325 A1 [0008]
US 739152431 [0008]
US 5371582 [0008]

Claims

Verfahren zum Kalibrieren eines zur Charakterisierung einer diffraktiven Struktur, insbesondere eines Computergenerierten Hologramms (CGH), bestimmten Beugungsmessstandes, • wobei der Beugungsmessstand einen in einer Bildebene angeordneten flächig messenden Intensitätssensor (130) zur Messung eines bei Beleuchtung der in einer Objektebene angeordneten diffraktiven Struktur mit Licht in einer vorgegebenen Beugungsordnung erzeugten Intensitätsverteilung aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren folgende Schritte aufweist: • Durchführen einer ersten Intensitätsmessung, bei welcher ohne Vorhandensein einer diffraktiven Struktur in der Objektebene Licht von einem ersten Bereich (100d) der Objektebene über den Beugungsmessstand auf den Intensitätssensor (130) gelenkt wird; und • Durchführen wenigstens einer zweiten Intensitätsmessung, bei welcher ohne Vorhandensein einer diffraktiven Struktur in der Objektebene Licht von einem zweiten Bereich (100c) der Objektebene über den Beugungsmessstand auf den Intensitätssensor (130) gelenkt wird, wobei sich der zweite Bereich von dem ersten Bereich unterscheidet.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass auf Basis der Intensitätsmessungen ein Korrekturterm zur Berücksichtigung von Falschlicht-Anteilen des Beugungsmessstandes bei der Charakterisierung einer diffraktiven Struktur ermittelt wird.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass eine Vielzahl von Intensitätsmessungen ohne Vorhandensein einer diffraktiven Struktur in der Objektebene durchgeführt werden, wobei sich diese Intensitätsmessungen hinsichtlich des jeweils Licht aussendenden Bereichs der Objektebene voneinander unterscheiden.
Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass für diese Intensitätsmessungen die Objektebene zur Variation des Bereichs, von welchem jeweils Licht über den Beugungsmessstand auf den Intensitätssensor (130) gelenkt wird, zweidimensional abgescannt wird.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Beugungsmessstand eine Blende zur Eliminierung von Licht, welches bei Vorhandensein einer diffraktiven Struktur in der Objektebene in höhere Beugungsordnungen als die nullte Beugungsordnung gelenkt wird, aus dem zur Intensitätsmessung beitragenden Anteil aufweist.
Verfahren zum Prüfen einer optischen Wirkfläche eines optischen Elements, insbesondere eines optischen Elements einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei durch ein Computer-generiertes Hologramm (CGH) eine Prüfwelle zur Durchführung einer interferometrischen Messung an dem optischen Element erzeugt wird, • wobei das Computer-generierte Hologramm (CGH) in einem Beugungsmessstand charakterisiert wird; und • wobei der Beugungsmessstand unter Durchführung eines Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche kalibriert wird.
Optisches System für die Mikrolithographie, insbesondere Beleuchtungssystem oder Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem optischen Element, welches eine mit einem Verfahren nach Anspruch 6 geprüfte optische Wirkfläche aufweist.