DE102009054540B4 - Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithographie - Google Patents

Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithographie Download PDF

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Abstract

Beleuchtungsoptik (339, 439) für die EUV-Mikrolithographie umfassend ein erstes optisches Element (1, 301, 401, 601) mit einer Mehrzahl von ersten reflektiven Facettenelementen (3, 303, 403, 503, 603, 903) und ein zweites optisches Element (5, 305, 405, 605, 805) mit einer Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) wobei jedes erste reflektive Facettenelement (3, 303, 403, 503, 603, 903) aus der Mehrzahl der ersten reflektiven Facettenelemente (3, 303, 403, 503, 603, 903) derart ausgebildet ist, dass es über eine jeweilige maximale Anzahl von unterschiedlichen Stellungen verfügt, die eine zu diesem ersten Facettenelement (3, 303, 403, 503, 603; 903) zugehörige Menge bestehend aus zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) dadurch definiert, dass die Menge aus allen zweiten Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) besteht, auf die dieses erste Facettenelement (3, 303, 403, 503, 603, 903) in seinen unterschiedlichen Stellungen während des Betriebs der...

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithographie umfassend ein erstes optisches Element mit einer Mehrzahl von ersten reflektiven Facettenetementen und ein zweites optisches Element mit Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen, sowie eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage umfassend eine derartige Beleuchtungsoptik.
  • Derartige Beleuchtungsoptiken mit kippbaren Facettenelementen sind aus den Veröffentlichungen DE 10 2008 009 600 A1 , DE 10 2006 020 734 A1 und DE 100 53 587 A1 bekannt.
  • Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen dienen zur Herstellung von mikrostrukturierten Bauelementen mittels eines photolithographischen Verfahrens. Dabei wird eine strukturtragende Maske, das sogenannte Retikel, mit Hilfe einer Lichtquelleneinheit und einer Beleuchtungsoptik beleuchtet und mit Hilfe einer Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Dabei stellt die Lichtquelleneinheit eine Strahlung zur Verfügung, die in die Beleuchtungsoptik geleitet wird. Die Beleuchtungsoptik dient dazu am Ort der strukturtragenden Maske eine gleichmäßige Ausleuchtung mit einer vorbestimmten winkelabhängigen Intensitätsverteilung zur Verfügung zu stellen. Hierzu sind innerhalb der Beleuchtungsoptik verschiedene geeignete optische Elemente vorgesehen. Die so ausgeleuchtete strukturtragende Maske wird mit Hilfe der Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Dabei wird die minimale Strukturbreite, die mit Hilfe einer solchen Projektionsoptik abgebildet werden kann, unter anderem durch die Wellenlänge der verwendeten Strahlung bestimmt. Je kleiner die Wellenlänge der Strahlung ist, desto kleinere Strukturen können mit Hilfe der Projektionsoptik abgebildet werden. Hierbei wird hauptsächlich Abbildungsstrahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 365 nm, 248 nm, 193 nm oder Abbildungsstrahlung im Bereich des extremen Ultravioletts (EUV) d. h. im Bereich von 5 nm bis 15 nm, verwendet. Bei der Verwendung von Strahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 193 nm kommen sowohl refraktive optische Elemente als auch reflektive optische Elemente innerhalb der Beleuchtungsoptik und der Projektionsoptik zum Einsatz. Bei Verwendung von Abbildungsstrahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 5 nm bis 15 nm werden dagegen ausschließlich reflektive optische Elemente (Spiegel) verwendet. Eine weitere Möglichkeit, die minimale Strukturbreite, die mit Hilfe einer solchen Projektionsoptik abgebildet werden kann, zu verringern, besteht darin die winkelabhängige Intensitätsverteilung der Ausleuchtung am Objektfeld auf die strukturtragende Maske abzustimmen.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es eine Beleuchtungsoptik bereitzustellen, mit der eine große Anzahl von unterschiedlichen winkelabhängigen Intensitätsverteilungen am Ort des Objektfeldes bereitgestellt werden kann.
  • Diese Aufgabe wird durch eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithographie umfassend ein erstes optisches Element mit einer Mehrzahl von ersten reflektiven Facettenelementen und ein zweites optisches Element mit Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen gelöst. Hierbei ist jedes erste reflektive Facettenelement aus der Mehrzahl der ersten reflektiven Facettenelemente derart ausgebildet ist, dass es über eine jeweilige maximale Anzahl von unterschiedlichen Stellungen verfügt, die eine zu diesem ersten Facettenelement zugehörige Menge bestehend aus zweiten reflektiven Facettenelementen dadurch definiert, dass die Menge aus allen zweiten Facettenelementen besteht, auf die dieses erste Facettenelement in seinen unterschiedlichen Stellungen während des Betriebs der Beleuchtungsoptik Strahlung lenkt. Die Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen bildet dabei eine Mehrzahl von disjunkten Gruppen, wobei jede der Gruppen und jede der Mengen mindestens zwei zweite Facettenelemente enthält und es keine zwei zweiten Facettenelemente einer Menge gibt, die zur gleichen Gruppe gehören.
  • Eine Mehrzahl von Gruppen von Facettenelementen heißt dabei disjunkt, wenn es kein Facettenelement gibt, das gleichzeitig zu zwei Gruppen gehört.
  • Diese Gruppen kann man zusätzlich dadurch charakterisieren, ob sie invers zueinander sind. Eine Anzahl von disjunkten Gruppen G1, ..., GN aus zweiten reflektiven Facettenelementen heißen invers zueinander, wenn jedes zweite reflektive Facettenelement aus einer der Gruppen G1, ..., GN zu einer Menge gehört und diese Menge nur zweite reflektive Facettenelemente aus den Gruppen G1, ..., GN enthält. Dies bedeutet unter anderem, dass das erste optische Element zwar einen Zustand einnehmen kann, in dem auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente einer der Gruppen G1, ..., GN Strahlung während des Betriebes der Beleuchtungsoptik gelenkt wird und einen andenen Zustand, in dem auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente einer anderen Gruppe G1, ..., GN Strahlung gelenkt wird, aber keinen Zustand, in dem auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente aus einer der Gruppen G1, ..., GN und mindestens ein zweites reflektives Facettenelement einer anderen Gruppe Strahlung gelenkt wird. Dies ergibt sich, da nicht gleichzeitig Strahlung auf zwei zweite reflektive Facettenelemente gelenkt werden kann, die zur gleichen Menge gehören.
  • In einer Ausführungsform der Beleuchtungsoptik gibt es mindestens eine erste und eine zweite Gruppe von zweiten reflektiven Facettenelementen derart, dass es zu jedem zweiten reflektiven Facettenelement der ersten Gruppe ein zweites reflektives Facettenelement der zweiten Gruppe gibt, die zur gleichen Menge gehören und die erste und zweite Gruppe gleichviele zweite reflektive Facettenelemente enthalten. Diese beiden Eigenschaften führen dazu, dass es auch zu jedem zweiten reflektiven Facettenelement der zweiten Gruppe ein zweites reflektives Facettenelement der ersten Gruppe gibt, die zur gleichen Menge gehören. Die ersten reflektiven Facettenelemente können somit zumindest erste Stellungen einnehmen, in der beim Betrieb der Beleuchtungsoptik Strahlung auf alle zweiten reflektive Facettenelementen der ersten Gruppe gelenkt wird, und eine zweite Stellung, in der beim Betrieb der Beleuchtungsoptik Strahlung auf alle zweiten reflektive Facettenelementen der zweiten Gruppe gelenkt wird.
  • Bei einer Ausführung der erfindungsgemäßen Beleuchtungsoptik weist jedes erste reflektive Facettenelement der Mehrzahl der ersten reflektiven Facettenelemente eine reflektive optische Fläche mit einem Normalenvektor auf, wobei sich die Stellungen der ersten reflektiven Facettenelemente in der Orientierung des Normalenvektors unterscheiden. Diese Ausgestaltung ermöglicht eine einfache Realisierung der Erfindung, indem die reflektiven optischen Flächen der ersten reflektiven Facettenelemente verkippbar ausgeführt sind.
  • In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung gibt es zu jedem zweiten reflektiven Facettenelementen genau ein zugeordnetes erstes reflektives Facettenelement, das über eine erste Stellung verfügt, so dass das zugehörige erste reflektive Facettenelement in dieser Stellung während des Betriebs der Beleuchtungsoptik Strahlung auf das zweite reflektive Facettenelement lenkt. Es wird demnach immer Strahlung auf das zweite reflektive Facettenelement gelenkt, die aus der gleichen Richtung, nämlich aus Richtung des genau einen zugeordneten ersten Facettenelementes, kommt. Eine reflektive optische Fläche des zweiten optischen Elements kann daher immer gleich orientiert sein, wobei die Orientierung so gewählt ist, dass die Strahlung in Richtung auf das Objektfeld weitergeleitet wird. Damit ist es nicht erforderlich die reflektive optische Fläche des zweiten reflektiven optischen Elementes kippbar auszugestalten, was einen einfacheren mechanischen Aufbau ermöglicht.
  • Bei einer Weiterbildung dieser Ausführungsform der Beleuchtungsoptik definiert jede Gruppe von zweiten reflektiven Facettenelementen eine zugeordnete Gruppe von ersten reflektiven Facettenelementen dadurch, dass die zugeordnete Gruppe von ersten reflektiven Facettenelementen alle ersten reflektiven Facettenelemente enthält, die den zweiten reflektiven Facettenelementen der Gruppe von zweiten reflektiven Facettenelementen zugeordnet sind, und wobei alle erste reflektiven Facettenelemente der gleichen zugeordneten Gruppe derart ausgebildet sind, dass ein Wechsel zwischen zwei Stellungen nur gemeinsam erfolgen kann. Dies kann zum Beispiel dadurch realisiert werden, dass die ersten reflektiven Facettenelemente einer Gruppe mechanisch miteinander verbunden sind, so dass der Wechsel in der Stellung nur gemeinsam erfolgen kann, oder auch dadurch dass alle ersten reflektiven Facettenelemente einer Gruppe nur gemeinsam angesteuert werden können, weil dies in einer Steuerungselektronik so vorgesehen ist. Dies hat den Vorteil, dass die mechanische Ausführung bzw. die elektronische Steuerung einfacher ausgeführt werden kann, da zum Beispiel mit einem Steuersignal die Stellung aller erster reflektiver Facetten einer Gruppe verändert werden kann. Gleichzeitig ermöglicht die erfindungsgemäße Gruppeneinteilung immer noch, dass eine große Anzahl von unterschiedlichen winkelabhängigen Intensitätsverteilungen am Ort des Objektfeldes bereitgestellt werden kann.
  • Zusätzlich kann eine derartige Beleuchtungsoptik derart weitergebildet sein, dass die Normalenvektoren zweier erster reflektiver Facettenelemente derselben zugeordneten Gruppe in zumindest einer gemeinsamen Stellung unterschiedliche Richtungen aufweisen. Dies hat den Vorteil, dass die ersten reflektiven Facettenelemente derselben zugeordneten Gruppe über dem gesamten ersten optischen Element verteilt angeordnet sein können, auch wenn die zweiten reflektiven Facettenelemente im wesentlichen benachbart zueinander sind. Dies ermöglicht es die Anordnung der ersten reflektiven Facettenelemente an die Ausleuchtung des ersten optischen Elements durch die Lichtquelleneinheit anzupassen.
  • In einer Ausführungsform der Beleuchtungsoptik enthalten alle Mengen genau zwei zweite reflektive Facettenelemente. Dies bedeutet, dass jedes erste reflektive Facettenelement zumindest eines Teils der ersten reflektiven Facettenelemente über genau zwei Stellungen verfügt. Eine erste Stellung, in der es während des Betriebs der Beleuchtungsoptik Strahlung auf eines der zweiten reflektiven Facettenelemente lenkt, und eine zweite Stellung, in der es Strahlung auf ein anderes zweites reflektives Facettenelement lenkt. Eine solche Ausführungsform der ersten reflektiven Facettenelemente lässt sich mechanisch einfach durch die Verwendung von zwei präzisen Endanschlägen für nur eine Drehachse realisieren.
  • Bei einer alternativen Ausgestaltung der Beleuchtungsoptik gibt es mindestens eine Menge mit genau zwei zweiten reflektiven Facettenelementen und mindestens eine Menge mit mehr als zwei zweiten reflektiven Facettenelementen. Hierdurch wird die Flexibilität erhöht und es lassen sich größere Anzahlen von unterschiedlichen winkelabhängigen Intensitätsverteilungen am Ort des Objektfeldes bereitgestellten.
  • In einer erfindungsgemäßen Ausführungsform der Beleuchtungsoptik ist das zweite optische Element in einer Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik angeordnet oder wird in eine Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik abgebildet. Zusammen mit der Eigenschaft, dass die zweiten reflektiven Facettenelemente eine reflektive optische Fläche mit einem Mittelpunkt aufweisen, führt dies dazu, dass die Austrittspupillenebene derart in disjunkte Gebiete zerfällt, dass es zu jeder Gruppe ein gruppenzugehöriges Gebiet gibt, wobei die Mittelpunkte der reflektiven optische Flächen aller zweiten reflektiven Facettenelemente dieser Gruppe im zugehörigen Gebiet liegen oder in das zugehörige Gebiet abgebildet werden. Dies hat den Vorteil, dass die Gruppeneinteilung sich einfach aus den gewünschten Ausleuchtungsverteilungen in der Austrittspupillenebene ergibt.
  • Wichtig für die Auflösung der Abbildung ist zwar die winkelabhängige Intensitätsverteilung am Ort des Objektfeldes, diese steht jedoch in einem einfachen Zusammenhang mit der Intensitätsverteilung in der Austrittspupillenebene, das heißt mit der Ausleuchtung in der Austrittspupillenebene. Daher ist es zweckmäßig zunächst eine gewünschte Intensitätsverteilung in der Austrittspupillenebene zu bestimmen. Ist nun das zweite optische Element in einer Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik angeordnet oder wird in diese abgebildet, so kann man einfach ermitteln, auf welche der zweiten reflektiven Facettenelemente Strahlung gelenkt werden muss, um eine derartige gewünschte Intensitätsverteilung zu erreichen.
  • Bei einer Ausgestaltung der Beleuchtungsoptik zerfallen alle gruppenzugehörigen Gebiete in mindestens zwei disjunkte Teilgebiete, wobei die Teilgebiete punktsymmetrisch bezüglich eines Symmetriepunktes liegen und wobei alle Gebiete den gleichen Symmetriepunkt aufweisen. Dies hat den Vorteil, dass sich automatisch eine punktsymmetrische Ausleuchtung in der Austrittspupillenebene ergibt, sobald während des Betriebs der Beleuchtungsoptik Strahlung auf vollständige Gruppen von zweiten reflektiven Facettenelementen gelenkt wird. Immer dann, wenn auf ein zweites reflektives Facettenelement Strahlung gelenkt wird, muss auch auf alle anderen zweiten reflektiven Facettenelemente Strahlung gelenkt werden, die zur gleichen Gruppe gehören. Immer wenn diese Bedingungen erfüllt sind, ergibt sich automatische eine punktsymmetrische Ausleuchtung in der Austrittspupillenebene.
  • In einer weiteren Ausführung der Erfindung gibt es zu jedem Paar zweiter reflektiver` Facettenelemente F1 und F2 mit den nachfolgenden Eigenschaften,
    • a. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F1 und F2 zur gleichen Gruppe gehören,
    • b. dass der Mittelpunkt der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F1 oder das Bild des Mittelpunktes der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F1 in der Austrittspupillenebene einen Abstand d1 vom Symmetriepunkt aufweist,
    • c. dass der Mittelpunkt der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F2 oder das Bild des Mittelpunktes der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F2 in der Austrittspupillenebene einen Abstand d2 vom Symmetriepunkt aufweist
    • d. und dass der Abstand d2 größer ist als der Abstand d1 ein zugeordnetes Paar zweiter reflektiver Facettenelemente F3 und F4 mit den Eigenschaften,
    • e. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F3 und F4 zur gleichen Gruppe gehören,
    • f. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F1 und F3 zur gleichen Menge gehören,
    • g. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F2 und F4 zur gleichen Menge gehören,
    • h. dass der Mittelpunkt der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F3 oder das Bild des Mittelpunktes der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F3 in der Austrittspupillenebene einen Abstand d3 vom Symmetriepunkt aufweist,
    • i. dass der Mittelpunkt der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F4 oder das Bild des Mittelpunktes der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F4 in der Austrittspupillenebene einen Abstand d4 vom Symmetriepunkt aufweist
    • j. und dass der Abstand d4 größer ist als der Abstand d3.
  • Hierdurch wird erreicht, dass die räumliche Ausdehnung der Ausleuchtung in der Austrittspupillenebene mit Hilfe der erfindungsgemäßen Beleuchtungsoptik besonders flexibel eingestellt werden kann.
  • Zusätzlich kann die Beleuchtungsoptik derart weitergebildet sein, dass alle Teilgebiete die Form eines Kreisringsegmentes haben. Hierdurch wird eine Vielzahl von verschiedenen Ausleuchtungen in der Austrittspupillenebene ermöglicht, die nicht nur punktsymmetrisch sind sondern weitere Symmetrien aufweisen. Gerade die Form eines Kreisringsegmentes ermöglicht es, Ausleuchtungen zur Verfügung zu stellen, die Spiegelsymmetrien bezüglich von Achsen aufweisen, wobei die Achsen jedoch durch den Symmetriepunkt verlaufen müssen. Die Kreisringsegmente sind dabei Segmente von Kreisringen, deren Mittelpunkt der Symmetriepunkt ist.
  • In einer Ausführungsform der Beleuchtungsoptik hat die Vereinigung aller gruppenzugehörigen Gebiete die Form eines vollständigen Kreises oder vollständigen Kreisringes. Dies hat den Vorteil, dass alle einstellbaren Ausleuchtungen in der Austrittspupillenebene innerhalb dieses Kreisringes liegen.
  • Bei einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung gibt es eine Mehrzahl von Gruppen zweiter Facettenelemente, die eine Klasse bildet, wobei die Vereinigung aller gruppenzugehörigen Gebiete, die zu den Gruppen dieser Klasse gehören, die Form eines vollständigen Kreisringes hat und wobei es keine zwei zweite Facettenelemente aus der gleichen Klasse gibt, die zur gleichen Menge gehören. Hierdurch wird erreicht, dass die ersten reflektiven Facettenelemente Stellungen aufweisen, so dass während des Betriebs der Beleuchtungsoptik Strahlung auf alle Facettenelemente einer Klasse gelenkt wird.
  • In einer weiteren Ausführung der Erfindung gibt es eine Mehrzahl von Gruppen, die eine Klasse bildet, wobei die Vereinigung aller gruppenzugehörigen Gebiete, die zu den Gruppen dieser Klasse gehören, die Form eines Dipols hat und wobei es keine zwei zweite Facettenelemente aus der gleichen Klasse gibt, die zur gleichen Menge gehören. Auf diese Weise kann eine dipolförmige Ausleuchtung in der Austrittspupillenebene erzeugt werden, indem Strahlung auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente aus dieser Klasse gelenkt wird. Unter einem Dipol wird eine Form verstanden, die aus genau zwei nicht zusammenhängenden Bereichen besteht, wobei die Verbindungslinie der Mittelpunkte der beiden Bereiche die Hauptdipolachse definiert. Dabei sind die beiden nicht zusammenhängenden Bereiche punktsymmetrisch zueinander mit einem Symmetriepunkt, der auf der Hauptdipolachse liegt. Derartige Ausleuchtungen ermöglichen eine hochauflösende Abbildung von Strukturen, die sich im Wesentlichen in einer Richtung erstrecken. Dabei ist die Dipolachse so einzustellen, dass sie im Wesentlichen senkrecht zur Richtung der Strukturen steht.
  • Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik gibt es eine Mehrzahl von Gruppen, die eine Klasse bildet, wobei die Vereinigung aller gruppenzugehörigen Gebiete, die zu den Gruppen dieser Klasse gehören, die Form eines Quadrupols hat und wobei es keine zwei zweite Facettenelemente aus der gleichen Klasse gibt, die zur gleichen Menge gehören. Auf diese Weise kann eine quadrupolförmige Ausleuchtung in der Austrittspupillenebene erzeugt werden, indem Strahlung auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente aus dieser Klasse gelenkt wird. Unter einem Quadrupol wird eine Form verstanden, die aus zwei disjunkten Dipolen zusammengesetzt ist, wobei die Symmetriepunkte der beiden Dipole zusammenfallen. Dabei definieren die Hauptdipolachsen jeweils eine Hauptachse des Quadrupols. Quadrupolförmige Ausleuchtungen ermöglichen eine hochauflösende Abbildung von Strukturen, die sich im Wesentlichen in zwei senkrechte Richtungen erstrecken. Die beiden Hauptachsen sollten in diesem Fall mit den beiden Richtungen der Strukturen zusammenfallen.
  • Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik gibt es eine Mehrzahl von Gruppen, die eine Klasse bildet, wobei die Vereinigung alter gruppenzugehörigen Gebiete, die zu den Gruppen dieser Klasse gehören, die Form eines Hexapols hat und wobei es keine zwei zweite Facettenelemente aus der gleichen Klasse gibt, die zur gleichen Menge gehören. Auf diese Weise kann eine hexapolförmige Ausleuchtung in der Austrittspupillenebene erzeugt werden, indem Strahlung auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente aus dieser Klasse gelenkt wird. Unter einem Hexapol wird eine Form verstanden, die aus drei disjunkten Dipolen zusammengesetzt ist, wobei die Symmetriepunkte der drei Dipole zusammenfallen. Dabei definieren die Hauptdipolachsen jeweils eine der drei Hauptachsen des Hexapols. Häufig ist die Ausleuchtung derart, dass die Hexapolachsen einen Winkel von 60° paarweise miteinander einschließen. Hexapolförmige Ausleuchtung ermöglichen eine gute Abbildung von Strukturen, die sich nicht nur in zwei senkrechte Richtungen erstrecken, sondern auch noch schräg verlaufende Anteile aufweisen.
  • Das erfindungsgemäße Beleuchtungssystem weist typischerweise eine Anzahl zweiter reflektiver Facettenelemente auf, die größer als 250 ist, und eine Anzahl von Gruppen zweiter reflektiver Facettenelemente, die kleiner als 50 ist. Es hat sich gezeigt, dass mit diesen Zahlen sowohl eine gleichmäßige Ausleuchtung des Objektfeldes als auch eine flexibel Einstellung der Ausleuchtung in der Austrittspupillenebene erreicht wird.
  • In einer weitergebildeten Form der Beleuchtungsoptik kann das erste optische Element mindestens einen ersten Zustand und einen zweiten Zustand einnehmen, die während des Betriebs des Beleuchtungsoptik zu zwei verschiedenen Ausleuchtungen in der Austrittspupillenebene führen, wobei im ersten Zustand alle zweiten reflektiven Facettenelemente einer ersten Klasse mit Strahlung beaufschlagt werden und im zweiten Zustand alle zweiten reflektiven Facettenelemente einer zweiten Klasse. Die beiden Zustände unterscheiden sich dabei in den Stellungen der ersten reflektiven Facettenelemente. Es können somit während des Betriebs der Beleuchtungsoptik der Zustand des ersten optischen Elements verändert werden, so dass sich die Ausleuchtung in der Austrittspupillenebene von einer ersten Ausleuchtung zu einer zweiten Ausleuchtung verändert. Damit kann die Ausleuchtung während des Betriebs an die abzubildende strukturtragende Maske angepasst werden.
  • Eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer vorbeschriebenen Beleuchtungsoptik hat die Vorteile, die im Hinblick auf die Beleuchtungsoptik erläutert wurden.
  • Näher erläutert wird die Erfindung anhand der Zeichnungen.
  • 1 zeigt in zwei Teilbildern äußerst schematisch eine Ausführungsform eines ersten optischen Elementes und eines zweiten optischen Elementes.
  • 2a bis 2i zeigen, in welche Gebiete je nach Zustand des ersten optischen Elementes nach 1 Strahlung gelenkt wird.
  • 3a zeigt eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage mit einer Beleuchtungsoptik.
  • 3b zeigt eine Aufsicht auf das erste optische Element.
  • 3c zeigt eine Aufsicht auf das zweite optische Element
  • 4 zeigt eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage mit einer alternativen Beleuchtungsoptik.
  • Die 5a, 5b und 5c zeigen den Aufbau und die Funktionsweise eines ersten reflektiven Facettenelementes, das über eine maximale Anzahl von Stellungen verfügt.
  • 6a zeigt eine Aufsicht auf das erste optische Element bei einer Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Beleuchtungsoptik.
  • 6b zeigt das zu 6a gehörige zweite optische Element.
  • Die 7a bis 7h zeigen einige Muster von ausgeleuchteten zweiten reflektiven Facettenelementen, die mit der Beleuchtungsoptik nach den 6a und 6b eingestellt werden können.
  • 8 zeigt das zweite optische Element aus 6b zusammen mit den gruppenzugehörigen Gebieten.
  • 9a zeigt eine Aufsicht auf eines der ersten reflektiven Facettenelemente in einer Detaildarstellung.
  • 9b zeigt die Anzahl der ersten reflektiven Facettenelemente in Abhängigkeit der Ausmaße der ersten reflektiven Facettenelemente und des ersten optischen Elements.
  • 9c zeigt den Füllgrad des ersten optischen Elementes in Abhängigkeit der Ausmaße der ersten reflektiven Facettenelemente und des ersten optischen Elements.
  • 10 zeigt die gruppenzugehörigen Gebiete in der Austrittspupillenebene, die sich bei einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ergeben.
  • 11a bis 11n zeigen eine Auswahl von Ausleuchtungsmustern, die sich aufgrund der Gruppeneinteilung nach 10 ergeben.
  • 12a zeigt eine weitere Gruppeneinteilung in einer zu 10 ähnlichen Darstellung.
  • 12b zeigt schematisch, wie die Gruppeneinteilung aus 12a verbessert werden kann.
  • 12c zeigt die verbesserte Gruppeneinteilung in einer zu 10 ähnlichen Darstellung.
  • 13a bis 13c zeigen eine Auswahl von Ausleuchtungsmustern, die sich bei der verbesserten Gruppeneinteilung nach 12c ergeben.
  • 14 zeigt die gruppenzugehörigen Gebiete in der Austrittspupillenebene, die sich bei einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ergeben.
  • 15a bis 15n zeigen eine Auswahl von Ausleuchtungsmustern, die sich aufgrund der Gruppeneinteilung nach 14 ergeben.
  • Die Bezugszeichen sind so gewählt, dass Objekte, die in 1 dargestellt sind, mit einstelligen oder zweistelligen Zahlen versehen wurden. Die in den weiteren Figuren dargestellten Objekte haben Bezugszeichen, die drei- oder mehrsteilig sind, wobei die letzten beiden Ziffern das Objekt angeben und die vorangestellte Ziffer die Nummer der Figur, auf der das Objekt dargestellt ist. Damit stimmen die Bezugsziffern von gleichen Objekten, die in mehreren Figuren dargestellt sind, in den letzten beiden Ziffern überein. Gegebenenfalls findet sich die Beschreibung dieser Objekte im Text zu einer vorhergehenden Figur.
  • 1 zeigt eine schematische Darstellung der Erfindung. Dargestellt ist ein erstes optisches Element 1 mit einer Mehrzahl von ersten reflektiven Facettenelementen 3 und ein zweites optisches Element 5 mit einer Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen 7. Die Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen 7 bildet dabei eine Mehrzahl von disjunkten Gruppen G1a, G1b, G1c, G2a, G2b und G2c. In 1 ist zu jedem der 14 dargestellten zweiten reflektiven Facettenelementen 7 angegeben, zu welcher der sechs verschiedenen Gruppen es gehört. Eine Mehrzahl von Gruppen heißt disjunkt, wenn es kein zweites reflektives Facettenelement 7 gibt, das gleichzeitig zu zwei Gruppen gehört. Demnach ist die Angabe in 1, zu welcher Gruppe jedes der zweiten reflektiven Facettenelemente 7 gehört, eindeutig. Neben der Einteilung in Gruppen bilden die zweiten reflektiven Facettenelemente 7 disjunkte Mengen. Dabei werden die Mengen mit Hilfe der ersten reflektiven Facettenelemente 3 des ersten optischen Elementes 1 definiert. Die fünf dargestellten ersten reflektiven Facettenelemente 3 sind durchgehend mit M1 bis M5 beschriftet. Jedes erste reflektive Facettenelement 3 verfügt über eine maximale Anzahl von unterschiedlichen Stellungen. Je nach Stellung lenkt das erste reflektive Facettenelement 3 Strahlung auf eines der zweiten reflektiven Facettenelemente 7. Zu jedem ersten reflektiven Facettenelement 3 gibt es demnach eine zugehörige Menge bestehend aus zweiten reflektiven Facettenelementen 7, auf die des erste reflektive Facettenelement 3 in zumindest einer Stellung während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung lenkt. Umgekehrt gibt es zu jedem zweiten reflektiven Facettenelement 7 genau ein zugeordnetes erstes reflektives Facettenelement 3, das über eine Stellung verfügt, so dass das zugeordnete erste reflektive Facettenelement in dieser Stellung während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf das zweite reflektive Facettenelement 7 lenkt. Dies ist gleichbedeutend damit, dass es kein zweites reflektives Facettenelement 7 gibt, das zu zwei verschiedenen Mengen gehört. Die Mengen sind demnach ebenfalls disjunkt. In der 1 ist weiterhin gekennzeichnet, zu welcher Menge jedes der zweiten reflektiven Facettenelemente 7 gehört. Hierzu sind die zweiten reflektiven Facettenelemente 7 auch mit M1 bis M5 beschriftet.
  • Des erste reflektive Facettenelement 9, das mit M1 beschriftet ist, verfügt über mindestens die Stellungen. In der ersten Stellung lenkt es während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf das zweite reflektive Facettenelement 11, in der zweiten Stellung lenkt es Strahlung während des Betriebes der Beleuchtungsoptik auf das zweite reflektive Facettenelement 13 und in der dritten Stellung lenkt es während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf das zweite reflektive Facettenelement 15. Je nach spezieller Ausführungsform kann das erste reflektive Facettenelement 9 auch noch über eine oder mehrere weitere Stellungen verfügen, in denen es während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf keines der zweiten reflektiven Facettenelemente 7 lenkt sondern stattdessen z. B. Strahlung auf eine Blende lenkt. Die zweiten reflektiven Facettenelemente 11, 13 und 15 gehören damit zur gleichen Menge, die mit M1 gekennzeichnet ist. Alle drei zweiten reflektiven Facettenelemente 11, 13 und 15 gehören jedoch zu unterschiedlichen Gruppen. Das zweite reflektive Facettenelement 11 gehört zur Gruppe G1a, das zweite reflektive Facettenelement 13 gehört zur Gruppe G1b und das zweite reflektive Facettenelement 15 gehört zur Gruppe G1c. Es gibt somit keine zwei Elemente dieser Menge, die zur gleichen Gruppe gehören. Durch die Einteilung der zweiten reflektiven Facettenelemente 7 in die Gruppen G1a bis G2c ergibt sich ebenfalls eine Einteilung der ersten reflektiven Facettenelemente 3 in Gruppen. Die zur Gruppe G1a der zweiten reflektiven Facettenelemente 7 zugeordnete Gruppe der ersten reflektiven Facettenelemente 3 erhält man, indem man zu jedem zweiten reflektiven Facettenelement 7 der Gruppe G1a das zugeordnete erste reflektive Facettenelement 3 bestimmt. Dem zweiten reflektiven Facettenelement 11 ist das erste reflektive Facettenelement 9 zugeordnet, da dass erste reflektive Facettenelement 9 über eine Stellung verfügt so das es in dieser Stellung während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf das zweite reflektive Facettenelement 11 lenkt. Dem zweiten reflektiven Facettenelement 17 ist das erste reflektive Facettenelement 19 zugeordnet, da des erste reflektive Facettenelement 19 über eine Stellung verfügt, in der es während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf des zweite reflektive Facettenelement 17 lenkt. Der Gruppe G1a bestehend aus den zweiten reflektiven Facettenelementen 11 und 17 ist demnach eine Gruppe G1 bestehend aus den ersten reflektiven Facettenelementen 9 und 19 zugeordnet. Wiederholt man diese Zuordnung für die Gruppen G1b und G1c bestehend aus zweiten reflektiven Facettenelementen 7, so stellt man fest, dass sich die gleiche Gruppe G1 bestehend aus ersten reflektiven Facettenelementen 9 und 19 ergibt. Dies liegt daran, dass die Gruppen G1a, G1b und G1c jeweils zweite reflektive Facettenelemente enthalten, die zur gleichen Menge gehören (M1 bzw. M2). Entsprechend ergibt sich, dass der Gruppe G2b und der Gruppe G2c bestehend aus zweiten reflektiven Facettenelementen 7 die Gruppe G2 bestehend aus ersten reflektiven Facettenelementen 3 zugeordnet ist. Wiederholt man dieses Verfahren ebenso für die Gruppe G2a von zweiten reflektiven Facettenelementen 7, so ergibt sich nur eine Teilgruppe der Gruppe G2 bestehend aus ersten reflektiven Facettenelementen 3. Dies liegt daran, das dass erste reflektive Facettenelement 21 nur über zwei Stellungen verfügt, in denen es während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf eines der zweiten reflektiven Facettenelemente 7 lenkt, wohingegen die ersten reflektiven Facettenelemente 23 und 25 über drei Stellungen verfügen, in denen Sie während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf eines der zweiten reflektiven Facettenelemente 7 lenken. Oder anders ausgedrückt, die Menge M5 enthält nur zwei zweite reflektive Facettenelemente, wohingegen die Mengen M3 und M4 jeweils drei zweite reflektive Facettenelemente 7 enthalten. Die Eigenschaften der Mengen und Gruppen führen dazu, dass die Gruppen G1a, G1b und G1c von zweiten reflektiven Facettenelementen 7 invers zueinander sind. Gleiches gilt für die drei Gruppen G2a, G2b und G2c. Dabei heißt eine Anzahl von disjunkten Gruppen G1, ..., GN aus zweiten reflektiven Facettenelementen invers zueinander, wenn jedes zweite reflektive Facettenelement aus einer der Gruppen G1, ..., GN zu einer Menge gehört und diese Menge nur zweite reflektive Facettenelemente aus den Gruppen G1, ..., GN enthält. Dies bedeutet, dass das erste optische Element 1 zwar einen Zustand einnehmen kann, in dem auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente 7 der Gruppe G1a Strahlung gelenkt wird und einen anderen Zustand, in dem auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente 7 der Gruppe G1b Strahlung gelenkt wird, aber keinen Zustand, in dem auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente 7 aus der Gruppe G1a und mindestens ein zweites reflektives Facettenelement der Gruppe G1b während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung gelenkt wird. Sobald Strahlung auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente 7 aus einer der zueinander inversen Gruppen gelenkt wird, so gibt es kein zweites reflektives Facettenelemente aus einer der anderen inversen Gruppen, auf das Strahlung gelenkt wird. Hier und in allen folgenden Beispielen sind die Gruppen von zweiten reflektiven Facettenelementen 7 mit einem großem G und einer laufenden Nummer bezeichnet, sowie mit einem Buchstaben (a, b, c...). Dabei sind Gruppen von zweiten reflektiven Facettenelementen 7, die in der laufenden Nummer übereinstimmen und sich nur in Buchstaben unterscheiden zueinander invers.
  • Bei einigen Ausführungsformen ist das zweite optische Element 5 in einer Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik angeordnet oder wird in einer Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik abgebildet. Entsprechende Ausführungsformen sind mit Bezug auf die 3a, 3b, 3c und 4 beschrieben. Die Einteilung der zweiten reflektiven Facettenelemente 7 führt bei diesem Ausführungsbeispielen zu einer natürlichen Zerlegung der Austrittspupillenebene in disjunkte Gebiete. Diese Gebiete sind in der 1 mit gestrichelten Linien gekennzeichnet. Das zu einer Gruppe zugehörige Gebiet ist dabei dadurch definiert, dass die Mittelpunkte der reflektiven optischen Flächen aller zweiten reflektiven Facettenelemente dieser Gruppe im zugehörigen Gebiet liegen oder in das zugehörige Gebiet abgebildet werden. In der 1 ergibt sich das zu der Gruppe G2a zugehörige Gebiet 27a dadurch, dass die Mittelpunkte 29 der optischen Flächen 31 innerhalb des Gebietes 27a liegen. Damit ist das Gebiet 27a zwar nicht eindeutig definiert, es lässt sich jedoch, da die Gruppen disjunkt zueinander sind, immer zu jeder Gruppe ein zugehöriges Gebiet finden, wobei die Mittelpunkte der reflektiven optischen Flächen aller zweiten reflektiven Facettenelemente dieser Gruppe im zugehörigen Gebiet liegen oder in das zugehörige Gebiet abgebildet werden, und die Gebiete aller Gruppen zueinander disjunkt sind. Befindet sich das erste optische Element 1 in einem ersten Zustand, in dem die ersten reflektiven Facettenelemente 21, 23 und 25 eine erste Stellung einnehmen, in der sie Strahlung auf die zweiten reflektiven Facettenelemente aus der Gruppe G2a lenken, so wird Strahlung in das Gebiet 27a der Austrittspupillenebene gelenkt.
  • In einer Ausgestaltung sind die ersten reflektiven Facettenelemente zumindest einer Gruppe derart ausgebildet, dass ein Wechsel zwischen zwei Stellungen nur gemeinsam erfolgen kann. Dies kann zum Beispiel dadurch realisiert werden, dass die ersten reflektiven Facettenelemente einer Gruppe mechanisch miteinander verbunden sind, so dass der Wechsel in der Stellung nur gemeinsam erfolgen kann, oder auch dadurch dass alle ersten reflektiven Facettenelemente einer Gruppe nur gemeinsam angesteuert werden können. Ist z. B. die Gruppe G1 der beiden ersten reflektiven Facettenelemente 9 und 19 derartig ausgebildet, so wird während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung entweder auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente der Gruppe G1a oder auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente der Gruppe G1b oder auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente G1c gelenkt. Somit wird während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung entweder in das Gebiet 33a oder in das Gebiet 33b oder in das Gebiet 33c gelenkt, je nach dem, in welcher gemeinsamen Stellung sich die ersten reflektiven Facettenelemente 9 und 19 der Gruppe G1 befinden. Bei einer entsprechenden Ausgestaltung der Gruppe G2 von ersten reflektiven Facettenelementen 3 wird Strahlung je nach gemeinsamer Stellung der ersten reflektiven Facettenelemente entweder in das Gebiet 27a oder in das Gebiet 27b oder in das Gebiet 27c gelenkt. Dies ist eine Folge davon, dass die Gruppen G1a, G1b und G1c disjunkt sind und zueinander invers. Das gleiche gilt für die Gruppen G2a, G2b und G2c. Das erste optische Element 1 kann somit insgesamt neun Zustände einnehmen, die sich darin unterscheiden, in welcher gemeinsamen Stellung sich die ersten reflektiven Facettenelemente 3 der Gruppe G1 befinden und in welcher gemeinsamen Stellung sich die ersten reflektiven Facettenelemente der Gruppe G2 befinden. Die 2a bis 2i zeigen, in welche Gebiete je nach Zustand des ersten optischen Elementes 1 Strahlung gelenkt wird. Im ersten Zustand nach 2a befinden sich die ersten reflektiven Facettenelemente der Gruppe G1 in einer gemeinsamen Stellung, so dass sie Strahlung auf die zweiten reflektiven Facettenelemente der Gruppe G1a lenken. Demzufolge gelangt Strahlung in das Gebiet 233a. Die ersten reflektiven Facettenelemente 3 der Gruppe G2 befinden sich im ersten Zustand in einer gemeinsamen Stellung, so dass sie während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf die zweiten reflektiven Facettenelemente 7 der Gruppe G2a lenken. Es wird also Strahlung in das Gebiet 227a gelenkt. Die Gebiete, in die Strahlung gelenkt wird, sind in den 2a bis 2i schraffiert dargestellt. Im Zustand nach 2a wird somit Strahlung in die Gebiete 233a und 227a gelenkt. Entsprechend wird im Zustand nach 2b Strahlung in die Gebiete 233b und 227a, im Zustand nach 2c in die Gebiete 233c und 227a, im Zustand nach 2d in die Gebiete 233a und 227b, im Zustand nach 2e in die Gebiete 233b und 227b, im Zustand nach 2f in die Gebiete 233c und 227b, im Zustand nach 2g in die Gebiete 233a und 227c, im Zustand nach 2h in die Gebiete 233b und 227c und im Zustand nach 2i in die Gebiete 233c und 227c gelenkt.
  • 3a zeigt eine Ausgestaltung einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage 337 mit einer Beleuchtungsoptik 339. Die Beleuchtungsoptik 339 umfasst dabei ein erstes optisches Element 301 mit einer Mehrzahl von ersten reflektiven Facettenelementen 303 und ein zweites optisches Element 305 mit einer Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen 307. Im Lichtweg nach dem zweiten optischen Element 307 sind ein erster Teleskopspiegel 341 und ein zweiter Teleskopspiegel 343 angeordnet, die beide unter senkrechtem Einfall betrieben werten, d. h. die Strahlung trifft unter einem Einfallswinkel zwischen 0° und 45° auf beide Spiegel. Unter dem Einfallswinkel wird dabei der Winkel zwischen einfallender Strahlung und der Normalen zur reflektiven optischen Fläche verstanden. Nachfolgend ist ein Umlenkspiegel 345 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf das Objektfeld 347 in der Objektebene 349 lenkt. Der Umlenkspiegel 345 wird unter streifendem Einfall betrieben, d. h. die Strahlung trifft unter einem Einfallswinkel zwischen 45° und 90° auf den Spiegel. Am Ort des Objektfeldes 349 ist eine reflektive strukturtragende Maske angeordnet, die mit Hilfe der Projektionsoptik 351 in die Bildebene 353 abgebildet wird. Die Projektionsoptik 351 umfasst sechs Spiegel 355, 356, 357, 358, 359 und 360. Alle sechs Spiegel der Projektionsoptik 351 weisen jeweils eine reflektive optische Fläche auf, die entlang einer um die optische Achse 361 rotationssymmetrischen Fläche verläuft.
  • 3b zeigt eine Aufsicht auf das erste optische Element 301, das eine Mehrzahl von ersten reflektiven Facettenelementen 303 umfasst.
  • 3c zeigt eine entsprechende Aufsicht auf das zweite optische Element 305 mit einer Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen 307. Die Anzahl der ersten reflektiven Facettenelemente 303 ist dabei kleiner als die Anzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente 307.
  • Die Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage nach 3a umfasst ferner eine Lichtquelleneinheit 363, die Strahlung auf das erste optische Element 301 lenkt. Die Lichtquelleneinheit 363 umfasst dabei ein Quellplasma 385 und einen Kollektorspiegel 367. Die Lichtquelleneinheit 363 kann in verschiedenen Ausführungsformen ausgebildet sein. Es kann sich dabei um eine Laserplasmaquelle (LPP) handeln, bei der ein eng begrenztes Quellplasma 365 erzeugt wird, indem ein kleines Materialtröpfchen mit einem hochenergetischen Laser bestrahlt wird. Alternativ kann es sich um eine Entladungsquelle handeln, bei der das Quellplasma 365 mit Hilfe einer Entladung erzeugt wird. In beiden Fällen tritt ein leuchtendes Quellplasma 365 auf, das Strahlung insbesondere im Wellenlängenbereich 5 nm–15 nm emittiert. Diese Strahlung wird mit Hilfe des Kollektorspiegels 367 gesammelt und auf das erste optische Element 301 gelenkt. Es ergibt sich auf dem ersten optischen Element ein im Wesentlichen kreisförmiger ausgeleuchteter Bereich 335 mit einem Durchmesser D (336), wobei die ersten reflektiven Facettenelemente 303 innerhalb des ausgeleuchteten Bereichs 335 angeordnet sind. Der Durchmesser D (336) ergibt sich aus der Apertur der Strahlung nach der Lichtquelleneinheit 363, dem optisch genutzten Durchmesser des Kollektorspiegels 367 und dem Abstand zwischen Lichtquelleneinheit 363 und dem ersten optischen Element. Der Kollektorspiegel 367 und die ersten reflektiven Facettenelemente 303 haben eine derartige optische Wirkung, dass sich Bilder des Quellplasmas 365 an den Orten der zweiten reflektiven Facettenelemente 307 des zweiten optischen Elementes 305 ergeben. Hierzu werden einerseits die Brennweite des Kollektorspiegels 367 und der ersten Facettenelemente 303 entsprechend der räumlichen Abstände gewählt. Dies geschieht z. B. in dem die reflektiven optischen Flächen der ersten reflektiven Facettenelemente 303 mit geeigneten Krümmungen versehen werden. Andererseits weisen die ersten reflektiven Facettenelemente 303 eine reflektive optische Fläche auf mit einem Normalenvektor, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven optischen Fläche im Raum festlegt, wobei die Normalenvektoren der reflektiven optischen Flächen der ersten Facettenelemente 303 derart orientiert sind, dass die von einem ersten Facettenelement 303 reflektierte Strahlung auf ein zugeordnetes zweites reflektives Facettenelement 307 trifft. Die ersten reflektiven Facettenelemente sind dabei derart ausgebildet, dass sie über eine maximale Anzahl von Stellungen verfügen, wobei sich die Stellungen in der Orientierung des Normalenvektors unterscheiden. Jedes erste Facettenelement 303 weist somit eine Anzahl von Stellungen auf, wobei es in der ersten Stellung Strahlung auf ein zugeordnetes zweites reflektives Facettenelement 307 lenkt und in einer zweiten Stellung Strahlung auf ein anderes zugeordnetes zweites reflektives Facettenelement 5 zeigt eine beispielhafte Ausführungsform für ein derartiges erstes reflektives Facettenelement. In einer speziellen Ausgestaltung weisen einige oder alle der ersten reflektiven Facettenelemente 303 eine Stellung auf, in der sie Strahlung auf die Blende 366 lenken. Dies erhöht die Variabilität der Beleuchtungsoptik, da die Anzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente 307, auf die Strahlung gelenkt wird, reduziert werden kann.
  • Die Auswahl der zweiten reflektiven Facettenelemente, auf die Strahlung gelenkt wird, ist von besonderer Bedeutung, da das zweite optische Element 305 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 339 angeordnet ist, die mit Hilfe der Spiegel 341, 343 und 345 auf die Austrittspupillenebene abgebildet Wird. Dabei entspricht die Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik gerade der Eintrittspupillenebene 352 der Projektionsoptik. Somit liegt das zweite optische Element 305 ebenfalls in einer Ebene, die optisch konjugiert zur Eintrittspupillenebene 352 der Projektionsoptik 351 liegt. Dabei ist die Eintrittspupillenebene der Projektionsoptik definiert als die Ebene senkrecht zur optischen Achse 361, in der der Hauptstrahl 362 zum Mittelpunkt des Objektfeldes 347 die optische Achse schneidet. Aus diesem Grund steht die Intensitätsverteilung der Strahlung auf dem zweiten optischen Element 305 in einem einfachen Zusammenhang zur winkelabhängigen Intensitätsverteilung der Strahlung im Bereich des Objektfeldes 347 und führt zu signifikanten Einflüssen auf die Güte der Abbildung durch die Projektionsoptik 351. Daher werden die Stellungen der ersten reflektiven Facettenelemente 303, das heißt die Orientierungen der reflektiven optischen Flächen der ersten Facettenelemente 303 so eingestellt, dass sich eine gewünschte Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element 307 und damit eine gewünschte winkelabhängige Intensitätsverteilung am Ort des Objektfeldes 347 ergibt. Je nach strukturtragender Maske sind unterschiedliche winkelabhängige Intensitätsverteilungen erforderlich, um eine besonders gute Abbildung durch die Projektionsoptik 351 zu ermöglichen. Erfindungsgemäß wird eine große Anzahl von gewünschten unterschiedlichen winkelabhängigen Intensitätsverteilungen am Ort des Objektfeldes 347 bereitgestellt.
  • Die Aufgabe der zweiten Facettenelemente 307 und der nachfolgenden Optik, die die Spiegel 341, 343 und 345 umfasst, ist es, die ersten Facettenelemente 303 überlagernd auf das Objektfeld 347 in der Objektebene 349 abzubilden. Dabei versteht man unter überlagernder Abbildung, dass Bilder der ersten reflektiven Facettenelemente 303 in der Objektebene entstehen und dort zumindest teilweise überlappen. Hierzu weisen die zweiten reflektiven Facettenelemente 307 eine reflektive optische Fläche auf mit einem Normalenvektor, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven optischen Fläche im Raum festlegt. Für jedes zweite Facettenelement 307 ist dabei die Richtung des Normalenvektors so gewählt, dass das ihm zugeordnete erste Facettenelement 303 auf des Objektfeld 347 in der Objektebene 349 abgebildet wird.
  • Da die ersten Facettenelemente 303 auf das Objektfeld 347 abgebildet werden, entspricht die Form des ausgeleuchteten Objektfeldes 347 der äußeren Form der ersten Facettenelemente 303. Die äußere Form der ersten Facettenelemente 303 wird daher üblicherweise derart bogenförmig gewählt, dass die langen Berandungslinien des ausgeleuchteten Objektfeldes 347 im Wesentlichen kreisbogenförmig um die optische Achse 361 der Projektionsoptik 358 verlaufen.
  • 4 zeigt eine weitere Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Beleuchtungsoptik in einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage. Die Projektionsbelichtungsanlage 437 umfasst dabei die Beleuchtungsoptik 439 und die Projektionsoptik 451. Im Gegensatz zu der in 3a dargestellten Projektionsoptik 351 weist die Projektionsoptik 451 nach 4 eine negative Schnittweite der Eintrittspupille auf. Das heißt, dass die Eintrittspupillenebene 452 der Projektionsoptik 451 im Lichtweg vor dem Objektfeld 447 angeordnet ist. Verlängert man den Hauptstrahl 462 weiter, ohne die Reflektion an der strukturtragenden Maske am Ort des Objektfeldes 447 zu berücksichtigen, so schneidet der Hauptstrahl die optische Achse 461 in der Ebene 452a. Berücksichtigt man die Reflektionen an der strukturtragenden Maske am Ort des Objektfeldes 447 und am Umlenkspiegel 445, so fällt die Ebene 452a mit der Eintrittspupillenebene 452 zusammen. Bei solchen Projektionsoptiken mit einer negativen Schnittweite der Eintrittspupille haben die Hauptstahlen zu unterschiedlichen Objektfeldpunkten am Ort des Objektfeldes 447 einen divergenten Strahlverlauf in Lichtrichtung. Derartige Projektionsoptiken sind bekannt aus der US2009/0079952A1 . Ein weiterer Unterschied zur Beleuchtungsoptik nach 3a besteht darin, das dass Quellplasma 465 mit Hilfe des Kollektorspiegels 467 zunächst auf einen Zwischenfokus 466 abgebildet wird. Dieser Zwischenfokus 466 wird dann mit Hilfe der ersten reflektiven Facettenelemente 403 des ersten optischen Elementes 401 auf die zweiten reflektiven Facettenelemente 407 des zweiten optischen Elementes 405 abgebildet.
  • 5a zeigt schematisch eine mechanische Ausführung eines ersten reflektiven Facettenelementes 503. Das erste reflektive Facettenelement 503 weist dabei eine reflektive optische Fläche 569 auf mit einem Normalenvektor 571a, der senkrecht im Mittelpunkt auf der optischen Fläche 569 steht. Die Richtung des Normalenvektors 571a gibt damit die Orientierung der reflektiven optischen Fläche 569 im Raum an. Zudem weist das erste reflektive optische Element 503 vier Aktuatoren 570 auf, mit denen die Orientierung der reflektiven optischen Fläche 569 verändert wird. In 5b ist eine Aufsicht auf das erste reflektive optische Element nach 5a dargestellt. Zusätzlich ist ein kartesisches Koordinatensystem mit einer X und einer Y Achse gezeigt. Da die Aktuatoren 570 sowohl in X-Richtung als auch in Y-Richtung einen Abstand voneinander haben, ermöglichen die Aktuatoren 570 eine Drehung der reflektiven optischen Fläche 569 sowohl um die X-Achse als auch Y-Achse. 5c zeigt das erste reflektive optische Element 503 in einer zweiten Stellung, bei der die reflektive optische Fläche 569 im Gegensatz zu der in 5a gezeigten Stellung eine andere Orientierung hat. Die Normalenvektoren 571a und 571b schließen somit einen von 0° verschieden Winkel ein. Das Spiegelsubstrat 572 ist um den Drehpunkt 574 gedreht worden. Dies wurde dadurch erreicht, dass die Aktuatoren 570a, 570b, 570c und 570d in der Stellung nach 5c unterschiedliche Ausdehnungen senkrecht zum Spiegelträger 573 aufweisen. Das Substrat 572 befindet sich in der Stellung nach 5c zudem in mechanischen Kontakt zum Endanschlag 575a. Dieser Endanschlag 575a begrenzt eine weitere Drehung um den Drehpunkt 574 entgegen dem Uhrzeigersinn. Durch die genaue mechanische Ausführung des Endanschlages 575a wird demnach eine Stellung des ersten reflektiven optischen Elementes 503 sehr präzise definiert. Entsprechend definiert der Endanschlag 575b eine zweite Stellung des ersten reflektiven optischen Elementes 503. In dieser speziellen Ausgestaltung verfügt das erste reflektive optische Element 503 über zwei sehr präzise einstellbare Stellungen, die sich in der Orientierung der reflektiven optischen Fläche 569 unterscheiden. Andere mechanische Ausgestaltungen, die mehr als zwei präzise einstellbare Einstellungen des ersten reflektiven optischen Elementes 503 bereitstellen sind ebenfalls möglich.
  • 6a zeigt eine erste Ausgestaltung eines ersten optischen Elementes 601 mit ersten reflektiven Facettenelementen 603, die eine Bogenform aufweisen. Dabei bilden die ersten reflektiven Facettenelemente 603 vier zugeordnete Gruppen, die zur besseren Übersichtlichkeit mit unterschiedlichen Schraffuren gekennzeichnet sind. Das erste optische Element 601 umfasst dabei 336 erste reflektive Facettenelemente 603 wobei jede der Gruppen G1, G2, G3, G4 jeweils 84 erste reflektive Facettenelemente 3 enthalten. Dabei verfügen alle ersten reflektiven Facettenelemente 603 über mindestens zwei Stellungen, so dass sie je nach Stellung während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf unterschiedliche zweite reflektive Facettenelemente lenken. In 6b ist das zugehörige zweite optische Element 605 gezeigt mit zweiten reflektiven Facettenelementen 607. Da das erste reflektive optische Element 601, 336 erste reflektive Facettenelemente 603 enthält, die jeweils über zwei Stellungen verfügen, umfasst das zweite optische Element 605 insgesamt 2 × 336 = 672 zweite reflektive Facettenelemente 607. Die zweiten reflektiven Facettenelemente 607 bilden dabei acht Gruppen, die Gruppen G1a, G1b, G2a, G2b, G3a, G3b, G4a und G4b. Dabei sind die Gruppen von zweiten reflektiven Facettenelementen 607 mit der gleichen laufenden Nummer invers zueinander und besitzen die gleiche zugeordnete Gruppe von ersten reflektiven Facettenelementen. So sind z. B. die Gruppen G1a und G1b invers zueinander, so dass nicht gleichzeitig Strahlung auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente 607 der Gruppe G1a und eines der zweiten reflektiven Facettenelemente aus Gruppe G1b gelenkt werden kann. Sowohl zur Gruppe G1a als auch zur Gruppe G1b gehört die Gruppe G1 bestehend aus ersten reflektiven Facettenelementen 603. Es gibt somit einen ersten Zustand, in dem die ersten reflektiven Facettenelemente der Gruppe G1 Strahlung auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente der Gruppe G1a lenken, und einen zweiten Zustand, in dem die ersten reflektiven Facettenelemente der Gruppe G1 Strahlung auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente der Gruppe Gib lenken. Hieraus ergibt sich auch, dass die Gruppen G1a und G1b gleich viele zweite reflektive Facettenelemente enthalten. Der analoge Zusammenhang gilt entsprechend für die anderen Gruppen. Alle Gruppen mit der gleichen laufenden Nummer bilden somit einen Satz von inversen Gruppen. Auf die Darstellung der Mengen wurde in dieser Figur und weiteren folgenden Figuren verzichtet. Man erhält die Mengeneintellung in diesen Fällen, indem man sukzessive für jeden Satz aus jeder Gruppe eines Satzes von inversen Gruppen (z. B. G1a und G1b) ein zweites reflektives Facettenelement auswählt und diese ausgewählten zweiten reflektiven Facettenelemente zu einer Menge zusammenfasst. Diese Auswahl wird nun mehrfach wiederholt, wobei jedes zweite reflektive Facettenelement der Gruppen des Satzes jedoch nur einmal ausgewählt wird, so dass die Anzahl der so konstruierten Mengen gleich der Anzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente in jeder der Gruppe des Satzes ist. Beinhalten die Gruppen eines Satzes nicht die gleiche Anzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen, so ist die Anzahl der Mengen gleich der Anzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente der größten Gruppe eines Satzes. Im vorliegenden Beispiel beinhalten die inversen Gruppen G1a und G1b jeweils 84 zweite reflektive Facettenelemente. Es lassen sich demnach 84 Mengen bilden, wobei jede der Mengen ein zweites reflektives Facettenelement aus der Gruppe G1a und ein zweites reflektives Facettenelement der Gruppe G1b enthält. Aus der Angabe der Sätze von inversen Gruppen lässt sich somit eine Mengeneinteilung konstruieren. Aus diesem Grund kann auf die genaue Angabe der Mengen in diesem und den folgenden Beispielen verzichtet werden. Stattdessen werden nur die Sätze von inversen Gruppen dargestellt.
  • Die Gruppen von zweiten reflektiven Facettenelementen 607 sind in dieser Ausführungsform so gewählt, dass sich bestimmte Muster von ausgeleuchteten zweiten reflektiven Facettenelementen 607 einstellen lassen. Ein zweites reflektives Facettenelement 607 heißt dann ausgeleuchtet, wenn es erstes reflektives Facettenelement gibt, dass während des Betriebes der Beleuchtungsoptik Strahlung auf das entsprechende zweite reflektive Facettenelement 607 lenkt. In den 7a bis 7h sind einige Muster von ausgeleuchteten zweiten reflektiven Facettenelementen 707 gezeigt, die mit der erfindungsgemäßen Beleuchtungsoptik erzeugt werden, indem das erste optische Element einen geeigneten Zustand einnimmt. So zeigt 7a ein Muster von ausgeleuchteten zweiten reflektiven Facettenelementen (schraffiert dargestellt), das die Form eines Kreisringes hat. Dabei werden alle zweiten reflektiven Facettenelemente aus den Gruppen G1a, G2a, G3a und G4a ausgeleuchtet 7b zeigt ein Muster, das sich ergibt, wenn die jeweils inversen Gruppen zweiter reflektiver Facettenelemente ausgeleuchtet werden. Es ergibt sich dabei ebenfalls die Form eines Kreisringes, jedoch mit einem anderen Radius und einer anderen Breite des Kreisringes. Die 7c und 7d zeigen zwei Ausleuchtungsmuster die jeweils die Form eines Dipols haben, wobei sich die Hauptdipolachsen jedoch um 90° unterscheiden. Die 7e und 7f zeigen zwei quadrupolförmige Ausleuchtungsmuster. Die 7g und 7h zeigen zwei weitere Ausleuchtungsmuster, die dipolförmig sind.
  • 8 zeigt eine weitere Darstellung des zweiten optischen Elementes 805 in der Ausführungsform nach 6b. Zusätzlich sind in 8 die gruppenzugehörigen Gebiete 877 dargestellt. Da sich das zweite optische Element entweder in einer Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik befindet oder in eine solche abgebildet wird, können die gruppenzugehörigen Gebiete 877 und das zweite optische Element 805 in der gleichen Zeichenebene dargestellt werden. 8 ist demnach so zu verstehen, dass in der ersten Ausführungsform, in der das zweite optische Element 805 in einer Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik angeordnet ist, die gruppenzugehörigen Gebiete 877 und das zweite optische Element 805 tatsächlich in einer Ebene angeordnet sind und in der zweiten Ausführungsform die gruppenzugehörigen Gebiete 877 und das zweite optische Element 805 in optisch konjugierten Ebenen liegen, in der Figur jedoch überlagert dargestellt werden. Zur besseren Darstellung beschränkt sich die weitere Beschreibung ausschließlich auf den ersten Fall, in der die beiden Ebenen zusammenfallen. Alle Ausführungsformen lassen sich jedoch auf den zweiten Fall übertragen.
  • Die gruppenzugehörigen Gebiete 877 sind so gewählt, dass sie disjunkt zueinander sind, und dass die Mittelpunkte 829 der reflektiven optischen Flächen aller zweiten reflektiven Facettenelemente der entsprechenden Gruppe im gruppenzugehörigen Gebiet liegen (bzw. im zweiten Fall in dieses Gebiet abgebildet werden). Schraffiert dargestellt ist in 8 das gruppenzugehörige Gebiet 879 zur Gruppe G3b. Das Gebiet 879 zerfällt in die beiden nicht zusammenhängenden Teilgebiete 881a und 881b, wobei die beiden Teilgebiete 881a, 881b punktsymmetrisch bezüglich des Symmetriepunktes 880 liegen. Entsprechend zerfällt z. B. das gruppenzugehörige Gebiet zur Gruppe G1b in vier nicht zusammenhängende Teilgebiete, die ebenfalls punktsymmetrisch bezüglich des Symmetriepunktes 880 liegen. Hierdurch wird erreicht, dass in allen Zuständen, in denen Strahlung auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente 807 einer Gruppe gelenkt wird, sich eine punktsymmetrische Ausleuchtung in der Austrittpupillenebene ergibt. Die Vereinigung aller gruppenzugehörigen Gebiete hat die Form eines vollständigen Kreisringes. Zusätzlich können die Gruppen der zweiten reflektiven Facettenelemente nun in Klassen eingeteilt werden. Im folgenden werden acht ausgewählte Klassen erläutert. In 7a bis 7h ist dargestellt, welche Muster von ausgeleuchteten zweiten reflektiven Facettenelementen sich ergeben, wenn alle zweiten Facettenelemente aus Gruppen der gleichen Klasse ausgeleuchtet werden. Eine erste Klasse (7a) bilden die Gruppen G1a, G2a, G3a und G4a. Die Vereinigung der zu diesen Gruppen gehörenden Gebiete hat die Form eines ersten Kreisringes. Eine zweite Klasse (7b) bilden die Gruppen G1b, G2b, G3b und G4b. Die Vereinigung der zu diesen Gruppen gehörenden Gebiete hat die Form eines zweiten Kreisringes, der einen größeren Radius hat als der ersten Kreisring und eine geringere Breite. Eine dritte Klasse (7c) bilden die Gruppen G1a, G2a, G3b und G4b. Die Vereinigung der zu diesen Gruppen gehörenden Gebiete hat die Form eines Dipols, wobei die Hauptachse des Dipols in dem dargestellten Koordinatensystem in x-Richtung orientiert ist Unter einem Dipol wird eine Form verstanden, die aus genau zwei nicht zusammenhängenden Bereichen besteht, wobei die Verbindungslinie der Mittelpunkte der beiden Bereiche die Hauptdipolachse definiert. Dabei sind die beiden nicht zusammenhängenden Bereiche punktsymmetrisch zueinander mit einem Symmetriepunkt, der auf der Hauptdipolachse liegt. Eine vierte Klasse (7d) bilden die Gruppen G1b, G2b, G3a und G4a. Die Vereinigung der zu diesen Gruppen gehörenden Gebiete hat die Form eines Dipols, wobei die Hauptachse des Dipols in dem dargestellten Koordinatensystem in y-Richtung orientiert ist. Eine fünfte Klasse (7e) bilden die Gruppen G1a, G2b, G3b und G4a. Die Vereinigung der zu diesen Gruppen gehörenden Gebiete hat die Form eines Quadrupols. Unter einem Quadrupol wird eine Form verstanden, die aus zwei disjunkten Dipolen zusammengesetzt ist, wobei die Symmetriepunkte der beiden Dipole zusammenfallen. Dabei definieren die Hauptdipolachsen jeweils eine Hauptachse des Quadrupols. Die Vereinigung der zu den Gruppen der fünften Klasse gehörenden Gebiete hat die Form eines Quadrupols, wobei die beiden Hauptachsen in x-Richtung bzw. in y-Richtung orientiert sind. Eine sechste Klasse (7f) bilden die Gruppen G1b, G2a, G3a und G4b. Die Vereinigung der zu diesen Gruppen gehörenden Gebiete hat die Form eines Quadrupols, wobei die beiden Hauptachsen unter 45° zur x-Richtung bzw. zur y-Richtung orientiert sind. Eine siebte Klasse (7g) bilden die Gruppen G1b, G2a, G3b und G4b. Die Vereinigung der zu diesen Gruppen gehörenden Gebiete hat die Form eines Dipols, wobei die Hauptachse des Dipols in dem dargestellten Koordinatensystem in x-Richtung orientiert ist. Eine achte Klasse (7h) bilden die Gruppen G1b, G2b, G3a und G4b. Die Vereinigung der zu diesen Gruppen gehörenden Gebiete hat die Form eines Dipols, wobei die Hauptachse des Dipols in dem dargestellten Koordinatensystem in y-Richtung orientiert ist.
  • Damit Strahlung auf alle zweiten reflektiven Facettenelemente 807 einer der Klassen gelenkt werden kann, gibt es keine zwei Gruppen einer Klasse, die invers zueinander sind. Oder anders ausgedrückt, es gibt keine zwei zweite Facettenelemente 807 aus der gleichen Klasse, die zur gleichen Menge gehören.
  • Aus 8 ist weiterhin ersichtlich, dass das zugeordnete Gebiet 879 der Gruppe G3b den gleichen Flächeninhalt hat wie die zugeordneten Gebiete der Gruppen G1b, G2b und G4b. Entsprechend sind die Flächeninhalte der gruppenzugehörigen Gebiete zu den Gruppen G1a, G2a, G3a und G4a ebenfalls identisch. Die Flächeninhalte der Gebiete zu den beiden Gruppen G1a und G1b sind insoweit identisch zueinander, wie es das regelmäßige Raster der zweiten reflektiven Facettenelemente 807 zulässt Die Gruppe G1a und die Gruppe G1b enthalten die gleiche Anzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen 807. Da die zweiten reflektiven Facettenelemente 807 alle die gleiche Größe besitzen und in Form eines regelmäßigen Rasters angeordnet sind, folgt daraus, dass die Fläche, die von den zweiten reflektiven Facettenelementen der Gruppe G1a auf dem zweiten optischen Element 805 belegt wird, genauso groß ist, wie die Fläche, die von zweiten reflektiven Facettenelementen der Gruppe G1b auf dem zweiten optischen Element belegt wird. Diese Relation überträgt sich nicht exakt auf die Flächeninhalte der gruppenzugehörigen Gebiete, da die Grenzlinien zwischen den Gebieten nicht alle entlang des Rasters verlaufen. Die Abweichung wird jedoch umso kleiner je feiner das Raster ist, das heißt je mehr zweite reflektive Facettenelemente verwendet werden.
  • Eine weitere Eigenschaft der zweiten reflektiven Facettenelemente 807, die sich aus der Gruppeneinteilung ergibt, wird ebenfalls anhand von 8 deutlich. Das zugehörige Gebiet der Gruppe G1b zerfällt in die disjunkten Teilgebiete 883a, 883b, 883c und 883d. Damit Strahlung in jedes dieser Teilgebiete gelenkt wird, muss es zumindest ein zweites reflektives Facettenelement 807 geben, dessen Mittelpunkt der reflektiven optischen Fläche innerhalb dieser Teilgebiete liegt oder in diese abgebildet wird. Die Gruppe G1b muss demnach mindestens vier zweite reflektive Facettenelemente 807 enthalten. Entsprechendes gilt für die Gruppen G2a, G3a und G4b. Im vorliegenden Fall haben inverse Gruppen die gleiche Anzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen 807, so dass die inversen Gruppen G1a, G2b, G3b und G4a ebenfalls jeweils vier zweite reflektive Facettenelemente umfassen. Damit weist das zweite optische Element mindestens 32 zweite reflektive Facettenelemente auf. Damit diese Gleichverteilung der zweiten reflektiven Facettenelemente 807 über die Gruppen auch bei größeren Zahlen zweiten reflektiven Facettenelementen 807 erfüllt ist, wird als Gesamtzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen ein ganzzahliges Vielfaches von 32 gewählt In der Ausgestaltung nach den 6b (bzw. 8) umfasst das zweite optische Element 605 insgesamt 21 × 32 = 672 zweite reflektive Facettenelemente. Bei einer anderen feineren Gruppeneinteilung ergeben sich entsprechende andere Relationen. Diese Einschränkung für die Gesamtzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente 806 führt zu einer entsprechenden Relation für die Gesamtzahl der ersten reflektiven Facettenelemente. Hier ergibt sich, dass die Anzahl der ersten reflektiven Facettenelemente ein ganzzahliges Vielfaches von 16 ist in der beschriebenen Ausführung nach 8a weist das erste optische Element 21 × 16 = 336 erste reflektive Facettenelemente auf.
  • Eine Weitere Randbedingung an die Anzahl der ersten und zweiten reflektiven Facettenelemente ergibt sich aus der genauen Form der ersten Facettenelemente. Mit Hinblick auf 3b wurde erläutert, dass die ersten reflektiven Facettenelemente 303 innerhalb des ausgeleuchteten Bereiches 335 angeordnet sind. Dabei ist es jedoch vorteilhaft, wenn ein möglichst großer Anteil des ausgeleuchteten Bereichs 335 mit ersten reflektiven Facettenelementen abgedeckt wird, da auf diese Weise möglichst wenig Strahlung der Lichtquelleeinheit verloren geht. Die Anzahl der ersten reflektiven Facettenelemente, die in dem ausgeleuchteten Bereich angeordnet werden können, hängt mit der genauen Form der ersten reflektiven Facettenelemente und dem Durchmesser D (336) des ausgeleuchteten Bereichs zusammen. Die 9a, 9b und 9c zeigen ein Beispiel für diese Randbedingung. In 9a ist ein erstes reflektives Facettenelement 903 dargestellt. Das erste reflektive Facettenelement weist eine Bogenform auf, wobei der Bogen einen Bogenwinkel 984 von 46° besitzt. In der langen Ausdehnung hat das Facettenelement eine Länge L und in der kurzen Ausdehnung eine Breite K. Das Aspektverhältnis von L zu K beträgt 30:1. Aspektverhältnisse von 20:1 bis 40:1 sind ebenfalls möglich. Bei festen Aspektverhältnis und festem Bogenwinkel 984 skaliert das erste reflektive Facettenelement mit der Länge L. Die Anzahl der ersten reflektiven Facettenelemente 903, die innerhalb des ausgeleuchteten Bereiches 335 in 3b angeordnet werden können, hängt damit nur noch vom Verhältnis des Durchmessers D zur Länge L ab. 9b zeigt, wie viele erste reflektive Facettenelemente innerhalb des ausgeleuchteten Gebietes angeordnet werden können als Funktion des Verhältnisses D zu L. Gleichzeitig hängt auch der Füllgrad, der definiert ist als der Anteil der ausgeleuchteten Fläche, der mit ersten reflektiven Facettenelementen belegt ist, von dem Verhältnis D zu L ab. 9c zeigt diesen funktionalen Zusammenhang. Bei der Auswahl des Verhältnisses D/L ist somit darauf zu achten, dass sowohl der Füllgrad relativ hoch ist, als auch sich eine Anzahl von ersten reflektiven Facettenelementen ergibt, die ein ganzzahliges Vielfaches von 16 ist. 9c zeigt, dass sich der maximale Füllgrad bei D/L = 5.91 ergibt. Aus 9b erhält man jedoch, dass die Gesamtzahl der ersten reflektiven Facettenelemente für D/L = 5.91 gleich 295 ist und somit nicht durch 16 teilbar ohne Rest. Für D/L = 5.57 ergibt sich dagegen zwar nur ein Füllgrad von 84.3%, dafür aber eine Gesamtzahl von ersten reflektiven Facettenelementen gleich 17 × 16 = 272.
  • 10 zeigt die gruppenzugehörigen Gebiete 1077 in der Austrittspupillenebene, die sich bei einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ergeben. Gezeigt ist weiterhin ein Polarkoordinatensystem, dessen Mittelpunkt mit dem Symmetriepunkt 1080 zusammenfällt. Der Polarwinkel wird mit Θ bezeichnet. Auf die Darstellung der zweiten reflektiven Facettenelemente wurde verzichtet, um die Übersichtlichkeit der Figur zu gewährleisten. Zur Bestimmung der zweiten reflektiven Elemente, die zu den dargestellten Gruppen gehören, bildet man das zweite optische Element nach 3c in die Pupillenebene ab, falls es nicht ohnehin bereits dort angeordnet ist, und bestimmt in welchen Gebieten die Mittelpunkte der optischen Flächen der zweiten reflektiven Facettenelemente liegen. So erhält man in natürlicher Weise aus der in 10 dargestellten Einteilung der Austrittspupillenebene die Zuordnung der zweiten reflektiven Facettenelemente zu den Gruppen. Entsprechendes gilt auch für die 12a und 14. Bei dieser Ausführung gibt es insgesamt 48 Gruppen (G1a, G1b, ..., G24a, G24b). Entsprechend der Argumentation zu 8 ist die Anzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente somit ein ganzzahliges Vielfaches von 96. Ferner gibt es Sätze von jeweils zwei Gruppen, die invers zueinander sind. Dies sind zum Beispiel die beiden Gruppen G1a und G1b. Damit ist die Anzahl der ersten reflektiven Facettenelemente ein ganzzahliges Vielfaches von 48. Die gruppenzugehörigen Gebiete 1077 zerfallen in jeweils zwei Teilgebiete, die punktsymmetrisch bezüglich des Symmetriepunktes 1080 liegen. Jedes der Teilgebiete hat dabei die Form eines Kreisringsegmentes. In radialer Richtung des Polarkoordinatensystems gibt es eine Einteilung in zwei Kreisringe. Einen ersten Kreisring 1085, in dem alle gruppenzugehörigen Gebiete liegen, deren Bezeichnung mit „a” endet, und einen zweiten Kreisring 1086, in dem alle gruppenzugehörigen Gebiete liegen, deren Bezeichnung mit „b” endet. Eine wesentlich feinere Untergliederung liegt dagegen in Richtung des Azimutwinkels Θ vor. In dieser Richtung haben alle Teilgebiete 1081 eine Ausdehnung von 7.5°. Hierdurch wird erreicht, dass sich auch relativ gleichmäßige Ausleuchtungsmuster in der Austrittspupillenebene ergeben, wie sie in den 11c und 11d dargestellt sind. Die weiteren 11a bis 11n zeigen eine Auswahl von weiteren Ausleuchtungsmustern, die sich aufgrund der Gruppeneinteilung nach 10 ergeben. Die ausgeleuchteten Bereiche sind in den 11a bis 11n gleichmäßig schwarz dargestellt. In 11a und 11b sind die beiden möglichen annularen Ausleuchtungsmuster gezeigt. Die 11c und 11d zeigen die beiden erwähnten relativ gleichmäßigen Ausleuchtungsmuster, bei denen azimutal benachbarte Gebiete abwechselnd ausgeleuchtet oder nicht ausgeleuchtet werden. In den 11e bis 11h sind verschiedene Dipole mit unterschiedlichen Orientierungen der Hauptdipolachse gezeigt. Die 11i und 11j zeigen zwei quadrupolförmige Ausleuchtungen und die 11k bis 11n mehrere weitere dipolförmige Ausleuchtungen. Um die Ausleuchtungsmuster aus den 11a bis 11n zu ermöglichen, sind die Gruppen so gewählt, dass jedes der Ausleuchtungsmuster (11a bis 11n) eine Klasse von Gruppen definiert, wobei es keine zwei Gruppen einer Klasse gibt, die invers zueinander sind. Oder anders ausgedrückt, es gibt keine zwei zweiten Facettenelemente aus der gleichen Klasse, die zur gleichen Menge gehören. Ein Ausleuchtungsmuster definiert eine Klasse dadurch, dass zu der Klasse alle Gruppen gehören, deren zugehörige Gebiete im ausgeleuchteten Bereich liegen.
  • 12a zeigt eine Gruppeneinteilung in einer zu 10 ähnlichen Darstellung. Es gibt in dieser Ausführungsform 16 Gruppen (G1a, G1b, ..., G8a, G8b), die jeweils paarweise invers zueinander sind. Entsprechend der Argumentation zu 8 ist die Anzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente somit ein ganzzahliges Vielfaches von 32. Mit einer solchen Gruppeneinteilung lassen sich die Ausleuchtungen nach den 11a, 11b, 11e, 11f, 11g, 11h, 11i und 11j realisieren. Dabei haben zugeordnete Gebiete inverser Gruppen einen Abstand im Azimutwinkel voneinander der kleiner oder gleich 135° ist. Als Abstand zweier Gebiete ist dabei der maximale Abstand zweier beliebiger Punkte der beiden Gebiete definiert. Die Gebiete G1a und G1b haben einen Abstand im Azimutwinkel von genau 135° voneinander. Aus dem maximalen Abstand inverser Gruppen ergibt sich auch der maximale Abstand zweier zweiter reflektiver Facettenelemente der gleichen Menge in der Austrittspupillenebene. Dabei ist als Abstand zweier reflektiver Facettenelemente in der Austrittspupillenebene der Abstand der Bilder der Mittelpunkte der optischen Flächen in der Austrittpupillenebene definiert. Dieser Abstand zweier zweiter reflektiver Facettenelemente der gleichen Menge in der Austrittspupillenebene ist im Azimutwinkel ebenfalls 135° oder kleiner.
  • In 12b ist dargestellt, wie die Gruppeneinteilung nach 12a erweitert werden kann, so dass neben den beiden annularen Ausleuchungsmustern nach den 11a und 11b weitere annulare Ausleuchtungsmuster erzeugt werden können. Hierzu werden die Mengen von zweiten reflektiven Facettenelementen so gewählt, dass jedem Paar zweiter reflektive Facettenelemente F1 und F2 mit den nachfolgenden Eigenschaften,
    • a. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F1 und F2 zur gleichen Gruppe gehören,
    • b. dass der Mittelpunkt der reflektiven optischen Flache des zweiten reflektiven Facettenelements F1 oder das Bild des Mittelpunktes der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F1 in der Austrittspupillenebene einen Abstand d1 vom Symmetriepunkt aufweist,
    • c. dass der Mittelpunkt der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F2 oder das Bild des Mittelpunktes der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F2 in der Austrittspupillenebene einen Abstand d2 vom Symmetriepunkt aufweist
    • d. und dass der Abstand d2 größer ist als der Abstand d1, ein Paar zweiter reflektiver Facettenelemente F3 und F4 zugeordnet ist mit den Eigenschaften,
    • e. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F3 und F4 zur gleichen Gruppe gehören,
    • f. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F1 und F3 zur gleichen Menge gehören,
    • g. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F2 und F4 zur gleichen Menge gehören,
    • h. dass der Mittelpunkt der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F3 oder das Bild des Mittelpunktes der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F3 der Austrittspupillenebene einen Abstand d3 vom Symmetriepunkt aufweist,
    • i. dass derer Mittelpunkt der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F4 oder das Bild des Mittelpunktes der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F4 in der Austrittspupillenebene einen Abstand d4 vom Symmetriepunkt aufweist
    • j. und dass der Abstand d4 größer ist als der Abstand d3.
  • In 12b ist dies beispielhaft für zwei reflektive Facettenelemente aus der Gruppe G1a durchgeführt. Für die beiden zweiten reflektiven Facettenelemente F1 und F2 aus der Gruppe G1a haben die jeweiligen Mittelpunkte 1229a und 1229b vom Symmetriepunkt 1280 den Abstand d1 bzw. d2, wobei d2 größer ist als d1. Zu diesem Paar gibt es ein Paar zweiter reflektiver Facettenelemente F3 und F4, die zur gleichen Gruppe gehören, nämlich der Gruppe G1b, die invers zur Gruppe G1a ist. Weiterhin haben die Mittelpunkte 1229c und 1229d der zweiten reflektiven Facettenelemente F3 und F4 die Abstände d3 und d4 vom Symmetriepunkt 1280, wobei d4 größer ist als d3. Nun wählt man die Mengen so, dass F1 und F3 zur gleichen Menge gehören und F2 und F4 zur gleichen Menge gehören. Entsprechend wählt man die Mengen so, dass die Relationen für alle Gruppen erfüllt sind. Dies führt automatisch zu der neuen, feineren Gruppenaufteilung, die in 12c dargestellt ist. Aus der Gruppe G1a werden die beiden Gruppen G1a und G9a, wobei die Gruppe G1a' näher zum Symmetriepunkt liegt. Analog für die anderen Gruppen, so dass sich die Gruppen G1a', G1b', ..., G8a', G8b', G9a, G9b, ..., G16a, G16b ergeben. Je nach Anzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente pro Gruppe können die Gruppen auch in mehr als zwei neue Gruppen aufgeteilt werden. Vor der neuen Gruppeneinteilung konnten die in 13a und 13b dargestellte annularen Ausleuchtungen erzeugt werden. Aufgrund der neuen in radialer Richtung feineren Aufteilung kann mit der Gruppeneinteilung nach 12c auch die weitere annulare Ausleuchtung nach 13c erzeugt werden.
  • 14 zeigt eine weitere Ausführungsform für eine Gruppeneinteilung in einer zu 10 ähnlichen Darstellung. In dieser Ausführungsform gibt es 50 Gruppen. Entsprechend der Argumentation zu 8 ist die Anzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente somit ein ganzzahliges Vielfaches von 100. Weiterhin gibt es zehn Sätze (G1, ..., G10) aus drei Gruppen, die invers zueinander sind. Ein Satz sind zum Beispiel die Gruppen G1a, G1b und G1c. Weiterhin gibt es zehn Sätze (G11, ..., G20) aus zwei Gruppen, die invers zueinander sind. Ein Beispiel hierfür ist das Satz G11a und G11b. Damit gibt es mindestens eine Menge mit genau zwei zweiten reflektiven Facettenelementen, nämlich jeweils einem zweiten reflektiven Facettenelement aus jeder Gruppe eines Satzes von zwei Gruppen, und mindestens eine Menge mit mehr als zwei zweiten reflektiven Facettenelemente gibt, nämlich jeweils einem zweiten reflektiven Facettenelement aus jeder Gruppe eines Satzes von drei Gruppen. In diesem konkreten Fall gibt es genau 20 (bzw. ein ganzzahliges Vielfaches von 20 an) Mengen mit genau zwei zweiten reflektiven Facettenelementen und genau 20 (bzw. ein ganzzahliges Vielfaches von 20 an) Mengen mit genau drei reflektiven Elementen. Somit ist auch die Randbedingung erfüllt, dass die Anzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente ein ganzzahliges Vielfaches von 100 ist.
  • Die 15a bis 15n zeigen eine Auswahl von Ausleuchtungsmustern, die sich aufgrund der Gruppeneinteilung nach 14 ergeben. Die Darstellung entspricht dabei den 11a bis 11n. Es ist somit möglich mit dieser Gruppeneinteilung vier verschieden annulare Ausleuchtungen zu erzeugen, die den den 15a bis 15d gezeigt sind. Weiterhin können dipolförmige Ausleuchtungen realisiert werden mit zehn verschiedenen Orientierungen der Hauptdipolachse (15e bis 15n)

Claims (19)

  1. Beleuchtungsoptik (339, 439) für die EUV-Mikrolithographie umfassend ein erstes optisches Element (1, 301, 401, 601) mit einer Mehrzahl von ersten reflektiven Facettenelementen (3, 303, 403, 503, 603, 903) und ein zweites optisches Element (5, 305, 405, 605, 805) mit einer Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) wobei jedes erste reflektive Facettenelement (3, 303, 403, 503, 603, 903) aus der Mehrzahl der ersten reflektiven Facettenelemente (3, 303, 403, 503, 603, 903) derart ausgebildet ist, dass es über eine jeweilige maximale Anzahl von unterschiedlichen Stellungen verfügt, die eine zu diesem ersten Facettenelement (3, 303, 403, 503, 603; 903) zugehörige Menge bestehend aus zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) dadurch definiert, dass die Menge aus allen zweiten Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) besteht, auf die dieses erste Facettenelement (3, 303, 403, 503, 603, 903) in seinen unterschiedlichen Stellungen während des Betriebs der Beleuchtungsoptik (339, 439) Strahlung lenkt, und wobei die Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) eine Mehrzahl von disjunkten Gruppen bildet, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Gruppen und jede der Mengen mindestens zwei zweite Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) enthält, und es keine zwei zweiten Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) einer Menge gibt, die zur gleichen Gruppe gehören.
  2. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es mindestens eine erste und eine zweite Gruppe von zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) gibt derart, dass es zu jedem zweiten reflektiven Facettenelement (7, 307, 407, 607, 807, 1207) der ersten Gruppe ein zweites reflektives Facettenelement (7, 307, 407, 607, 807, 1207) der zweiten Gruppe gibt, die zur gleichen Menge gehören, und die erste und zweite Gruppe gleichviele zweite reflektive Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) enthalten.
  3. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 1–2, dadurch gekennzeichnet, dass jedes erste reflektive Facettenelement (3, 303, 403, 503, 603, 903) der Mehrzahl der ersten reflektiven Facettenelemente (3, 303, 403, 503, 603, 903) eine reflektive optische Fläche mit einem Normalenvektor (571a, 571b) aufweist, wobei sich die Stellungen der ersten reflektiven Facettenelemente (3, 303, 403, 503, 603, 903) in der Orientierung des Normalenvektors (571a, 571b) unterscheiden.
  4. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 1–3, dadurch gekennzeichnet, dass es zu jedem zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) genau ein zugeordnetes erstes reflektives Facettenelement (3, 303, 403, 503, 603, 903) gibt, das über eine Stellung verfügt, so dass das zugehörige erste reflektive Facettenelement (3, 303, 403, 503, 603, 903) in dieser Stellung während des Betriebs der Beleuchtungsoptik (339, 439) Strahlung auf das zweite reflektive Facettenelement (7, 307, 407, 607, 807, 1207) lenkt.
  5. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass jede Gruppe von zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) eine zugeordnete Grippe von ersten reflektiven Facettenelementen (3, 303, 403, 503, 603, 903) definiert, dadurch dass die zugeordnete Gruppe von ersten reflektiven Facettenelementen (3, 303, 403, 503, 603, 903) alle ersten reflektiven Facettenelemente (3, 303, 403, 503, 603, 903) enthält, die den zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) der Gruppe von zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) zugeordnet sind, und wobei alle erste reflektiven Facettenelemente (3, 303, 403, 503, 603, 903) der gleichen zugeordneten Gruppe derart ausgebildet sind, dass ein Wechsel zwischen zwei Stellungen nur gemeinsam erfolgen kann.
  6. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Normalenvektoren (571a, 571b) zweier erster reflektiver Facettenelemente (3, 303, 403, 503, 603, 903) derselben zugeordneten Gruppe in zumindest einer gemeinsamen Stellung unterschiedliche Richtungen aufweisen.
  7. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 1–6, dadurch gekennzeichnet, dass alle Mengen genau zwei zweite reflektive Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) enthalten.
  8. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 1–6, dadurch gekennzeichnet, dass es mindestens eine Menge mit genau zwei zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) und mindestens eine Menge mit mehr als zwei zweiten reflektiven Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) gibt.
  9. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 1–8, dadurch gekennzeichnet, dass die zweiten reflektiven Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) eine reflektive optische Fläche (31) mit einem Mittelpunkt (29, 829, 1229a, 1229b) aufweisen, und das zweite optische Element (5, 305, 405, 605, 805) in einer Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik (339, 439) angeordnet ist oder in eine Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik (339, 439) abgebildet wird, wobei die Austrittspupillenebene derart in disjunkte Gebiete (27a, 27b, 27c, 33a, 33b, 33c, 227a, 227b, 227c, 233a, 233b, 233c, 877, 879, 1077) zerfällt, dass es zu jeder Gruppe von zweiten reflektiven Facettenelementen (7, 307, 407, 607, 807, 1207) ein gruppenzugehöriges Gebiet (27a, 27b, 27c, 33a, 33b, 33c, 227a, 227b, 227c, 233a, 233b, 233c, 877, 879, 1077) gibt, wobei die Mittelpunkte (29, 829, 1229a, 1229b) der reflektiven optischen Flächen aller zweiten reflektiven Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) dieser Gruppe im zugehörigen Gebiet (27a, 27b, 27c, 33a, 33b, 33c, 227a, 227b, 227c, 233a, 233b, 233c, 877, 879, 1077) liegen oder in das zugehörige Gebiet (27a, 27b, 27c, 33a, 33b, 33c, 227a, 227b, 227c, 233a, 233b, 233c, 877, 879, 1077) abgebildet werden.
  10. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass alle gruppenzugehörigen Gebiete (27a, 27b, 27c, 33a, 33b, 33c, 227a, 227b, 227c, 233a, 233b, 233c, 877, 879, 1077) in mindestens zwei disjunkte Teilgebiete (881a, 881b, 883a, 883b, 883c, 883d) zerfallen, wobei die Teilgebiete (881a, 881b, 883a, 883b, 883c, 883d) punktsymmetrisch bezüglich eines Symmetriepunktes (880, 1080, 1280) liegen und wobei alle Gebiete (27a, 27b, 27c, 33a, 33b, 33c, 227a, 227b, 227c, 233a, 233b, 233c, 877, 879, 1077) den gleichen Symmetriepunkt (880, 1080, 1280) aufweisen.
  11. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass jedem Paar zweiter reflektiver Facettenelemente F1 und F2 (1207) mit den nachfolgenden Eigenschaften, a. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F1 und F2 (1207) zur gleichen Gruppe, gehören, b. dass der Mittelpunkt (29, 829, 1229a, 1229b) der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F1 (1207) oder das Blid des Mittelpunktes (29, 829, 1229a, 1229b) der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F1 (1207) in der Austrittspupillenebene einen Abstand d1 vom Symmetriepunkt (880, 1080, 1280) aufweist, c. dass der Mittelpunkt (29, 829, 1229a, 1229b) der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F2 (1207) oder das Blid des Mittelpunktes (29, 829, 1229a, 1229b) der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F2 (1207) in der Austrittspupillenebene einen Abstand d2 vom Symmetriepunkt (880, 1080, 1280) aufweist d. und dass der Abstand d2 größer ist als der Abstand d1 ein zugeordnetes Paar zweiter reflektiver Facettenelemente F3 und F4 (1207) gibt mit den Eigenschaften, e. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F3 und F4 (1207) zur gleichen Gruppe gehören, f. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F1 und F3 (1207) zur gleichen Menge gehören, g. dass die zweiten reflektiven Facettenelemente F2 und F4 (1207) zur gleichen Menge gehören, h. dass der Mittelpunkt (29, 829, 1229a, 1229b) der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F3 (1207) oder das Bild des Mittelpunktes (29, 829, 1229a, 1229b) der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F3 (1207) in der Austrittspupillenebene einen Abstand d3 vom Symmetriepunkt (880, 1080, 1280) aufweist, i. dass der Mittelpunkt (29, 829, 1229a, 1229b) der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F4 (1207) oder des Bild des Mittelpunktes (29, 829, 1229a, 1229b) der reflektiven optischen Fläche des zweiten reflektiven Facettenelements F4 (1207) in der Austrittspupillenebene einen Abstand d4 vom Symmetriepunkt (880, 1080, 1280) aufweist j. und dass der Abstand d4 größer ist als der Abstand d3.
  12. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass alle Teilgebiete (881a, 881b, 883a, 883b, 883c, 883d) die Form eines Kreisringsegmentes haben.
  13. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 9–12, dadurch gekennzeichnet, dass die Vereinigung aller gruppenzugehörigen Gebiete (27a, 27b, 27c, 33a, 33b, 33c, 227a, 227b, 227c, 233a, 233b, 233c, 877, 879, 1077) die Form eines vollständigen Kreises oder vollständigen Kreisringes hat.
  14. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 9–13, dadurch gekennzeichnet, dass es eine Mehrzahl von Gruppen zweiter Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) gibt, die eine Klasse bildet, wobei die Vereinigung aller gruppenzugehörigen Gebiete (27a, 27b, 27c, 33a, 33b, 33c, 227a, 227b, 227c, 233a, 233b, 233c, 877, 879, 1077), die zu den Gruppen dieser Klasse gehören, die Form eines vollständigen Kreisringes hat und wobei es keine zwei zweite Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) aus der gleichen Klasse gibt, die zur gleichen Menge gehören.
  15. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 9–14, dadurch gekennzeichnet, dass es eine Mehrzahl von Gruppen gibt, die eine Klasse bildet, wobei die Vereinigung aller gruppenzugehörigen Gebiete (27a, 27b, 27c, 33a, 33b, 33c, 227a, 227b, 227c, 233a, 233b, 233c, 877, 879, 1077), die zu den Gruppen dieser Klasse gehören, die Form eines Dipols hat und wobei es keine zwei zweite Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) aus der gleichen Klasse gibt, die zur gleichen Menge gehören.
  16. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 9–15, dadurch gekennzeichnet, dass es eine Mehrzahl von Gruppen gibt, die eine Klasse bildet, wobei die Vereinigung aller gruppenzugehörigen Gebiete (27a, 27b, 27c, 33a, 33b, 33c, 227a, 227b, 227c, 233a, 233b, 233c, 877, 879, 1077), die zu den Gruppen dieser Klasse gehören, die Form eines Quadrupols hat und wobei es keine zwei zweite Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) aus der gleichen Klasse gibt, die zur gleichen Menge gehören.
  17. Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 14–16 dadurch gekennzeichnet, dass das erste optische Element (1, 301, 401, 601) mindestens einen ersten Zustand und einen zweiten Zustand einnehmen kann, die während des Betriebs des Beleuchtungsoptik (339, 439) zu zwei verschiedenen Ausleuchtungen in der Austrittspupillenebene führen, wobei im ersten Zustand alle zweiten reflektiven Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) einer ersten Klasse mit Strahlung beaufschlagt werden und im zweiten Zustand alle zweiten reflektiven Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) einer zweiten Klasse
  18. Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 1–17, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl der zweiten reflektiven Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 807, 1207) größer als 250 ist und die Anzahl der Gruppen zweiter reflektiver Facettenelemente (7, 307, 407, 607, 607, 1207) kleiner als 50 ist.
  19. Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage (337, 437) mit einer Beleuchtungsoptik (339, 439) nach einem der Ansprüche 1–18.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102226734B1 (ko) 2012-11-13 2021-03-12 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 Euv 투영 리소그래피용 조명 광학 유닛

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009045135A1 (de) * 2009-09-30 2011-03-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie
DE102010062720B4 (de) 2010-12-09 2012-07-12 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Lithographiesystem
DE102011076460A1 (de) * 2011-05-25 2012-11-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik
WO2013013947A2 (en) 2011-07-26 2013-01-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, and microlithographic exposure method
DE102011088152A1 (de) 2011-12-09 2013-06-13 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Lithographiesystem
DE102012207377A1 (de) * 2012-05-03 2013-11-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik sowie optisches System für die EUV-Projektionslithographie
DE102012213368A1 (de) 2012-07-30 2013-12-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie
DE102012218221A1 (de) 2012-10-05 2014-04-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Monitorsystem zum Bestimmen von Orientierungen von Spiegelelementen und EUV-Lithographiesystem
EP2876498B1 (de) * 2013-11-22 2017-05-24 Carl Zeiss SMT GmbH Beleuchtungssystem eines mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgerätes
KR102605161B1 (ko) * 2015-02-11 2023-11-23 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 Euv 투영 리소그라피를 위한 조명 광학기기
KR20230167934A (ko) 2022-06-03 2023-12-12 삼성전자주식회사 극자외선 노광 장치 및 그것의 동작 방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10053587A1 (de) * 2000-10-27 2002-05-02 Zeiss Carl Beleuchtungssystem mit variabler Einstellung der Ausleuchtung
DE102006020734A1 (de) * 2006-05-04 2007-11-15 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für die EUV-Lithographie sowie erstes und zweites optisches Element zum Einsatz in einem derartigen Beleuchtungssystem
DE102008009600A1 (de) * 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5233456A (en) * 1991-12-20 1993-08-03 Texas Instruments Incorporated Resonant mirror and method of manufacture
US7015491B2 (en) * 2001-06-01 2006-03-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby, control system
EP1262836B1 (de) * 2001-06-01 2018-09-12 ASML Netherlands B.V. Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
US7170587B2 (en) * 2002-03-18 2007-01-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
DE10219514A1 (de) * 2002-04-30 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie
US6700644B2 (en) * 2002-06-05 2004-03-02 Euv Llc Condenser for photolithography system
US6870554B2 (en) * 2003-01-07 2005-03-22 Anvik Corporation Maskless lithography with multiplexed spatial light modulators
DE10317667A1 (de) * 2003-04-17 2004-11-18 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element für ein Beleuchtungssystem
US20050017465A1 (en) * 2003-07-24 2005-01-27 Bergstrom Skegs, Inc. Wear rod for a snowmobile ski
JP4717813B2 (ja) * 2003-09-12 2011-07-06 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光設備のための照明系
KR101309880B1 (ko) 2005-05-13 2013-09-17 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 낮은 입사각을 갖는 육-미러 ｅｕｖ 프로젝션 시스템
DE502006009171D1 (de) 2005-10-18 2011-05-05 Zeiss Carl Smt Gmbh Kollektor für beleuchtungssysteme mit einer wellenlänge </= 193 nm
JP5262063B2 (ja) * 2007-10-23 2013-08-14 株式会社ニコン 空間光変調ユニット、照明装置、露光装置、及びデバイスの製造方法
CN101946190B (zh) * 2008-02-15 2013-06-19 卡尔蔡司Smt有限责任公司 微光刻的投射曝光设备使用的分面镜
DE102008001511A1 (de) 2008-04-30 2009-11-05 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithografie sowie Beleuchtungssystem und Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
WO2011023419A1 (en) * 2009-08-25 2011-03-03 Asml Netherlands B.V. Illumination system, lithographic apparatus and method of adjusting an illumination mode
JP6103467B2 (ja) * 2011-10-06 2017-03-29 株式会社ニコン 照明光学系、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10053587A1 (de) * 2000-10-27 2002-05-02 Zeiss Carl Beleuchtungssystem mit variabler Einstellung der Ausleuchtung
DE102006020734A1 (de) * 2006-05-04 2007-11-15 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für die EUV-Lithographie sowie erstes und zweites optisches Element zum Einsatz in einem derartigen Beleuchtungssystem
DE102008009600A1 (de) * 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102226734B1 (ko) 2012-11-13 2021-03-12 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 Euv 투영 리소그래피용 조명 광학 유닛

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