JP6103467B2 - 照明光学系、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 - Google Patents
照明光学系、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6103467B2 JP6103467B2 JP2012223639A JP2012223639A JP6103467B2 JP 6103467 B2 JP6103467 B2 JP 6103467B2 JP 2012223639 A JP2012223639 A JP 2012223639A JP 2012223639 A JP2012223639 A JP 2012223639A JP 6103467 B2 JP6103467 B2 JP 6103467B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- light
- illumination
- pupil
- intensity distribution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 210
- 238000005286 illumination Methods 0.000 title claims description 113
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 15
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 150
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 142
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 68
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 9
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 5
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 18
- 230000009471 action Effects 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 13
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 11
- 230000036544 posture Effects 0.000 description 11
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 10
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 9
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 241000276498 Pollachius virens Species 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
所定面に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に光強度分布を可変的に形成する空間光変調器と、
前記所定面の近傍の位置、または前記所定面と光学的に共役な面を含む共役空間に配置されて、光路を伝搬する伝搬光束のうちの一部の光束の偏光状態を変化させる偏光部材と、
前記光源と前記偏光部材との間の光路中に配置されて、前記所定面へ入射する光の強度分布の均一性を向上させる光強度分布均一化部材とを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
2 光強度分布均一化部材
3 空間光変調器
4 1/2波長板(偏光部材)
5,6 リレー光学系
7 マイクロフライアイレンズ(オプティカルインテグレータ)
8 コンデンサー光学系
9 マスクブラインド
10 結像光学系
LS 光源
DTr,DTw 瞳強度分布計測部
CR 制御系
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
Claims (28)
- 光源からの照明光で照明瞳を介して被照射面を照明する照明光学系において、
前記光源からの照明光の強度分布を均一にする第1光学系と、
前記第1光学系からの強度分布が均一化された照明光の少なくとも一部の偏光状態を変える偏光部と、
前記偏光部からの照明光を反射する複数の反射面を有し、前記複数の反射面を個別に制御して前記照明瞳に照明光を分布させる第2光学系と、
前記第1光学系から前記偏光部へ向かう光の角度を検出するビーム検出系と、
を備える照明光学系。 - 前記ビーム検出系は、前記第1光学系からの光が所定面に入射する位置を検出する、請求項1に記載の照明光学系。
- 前記光源と前記偏光部との間に配置されて、前記所定面に入射する光の位置と前記角度とを変更する第3光学系を備える、請求項2に記載の照明光学系。
- 前記光源と前記偏光部との間に配置されて、前記角度を変更する第3光学系を備える、請求項1に記載の照明光学系。
- 前記第3光学系は、前記ビーム検出系からの出力で制御される、請求項3または4に記載の照明光学系。
- 前記ビーム検出系は、前記第1光学系からの光の所定面での光強度分布をモニタする、請求項1乃至5の何れか一項に記載の照明光学系。
- 前記複数の反射面は、前記ビーム検出系からの出力を用いて制御される、請求項6に記載の照明光学系。
- 前記偏光部は前記所定面の近傍に配置される、請求項2または3に記載の照明光学系。
- 前記複数の反射面は、前記所定面に配置される、請求項8に記載の照明光学系。
- 前記第1光学系は、入射光を波面分割する波面分割素子と、前記波面分割素子を介した光を集光する集光光学系とを備える、請求項1乃至9の何れか一項に記載の照明光学系。
- 前記偏光部は、前記第1光学系からの光の光路を横切る方向での位置が変更される偏光素子を有する、請求項1乃至10の何れか一項に記載の照明光学系。
- 前記照明瞳に分布される前記光の偏光分布を所定の分布に設定するために、前記偏光素子の前記位置が設定される、請求項11に記載の照明光学系。
- 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置である、請求項1乃至12の何れか一項に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項1乃至13の何れか一項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光する露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置である、請求項14に記載の露光装置。
- 光源からの照明光で照明瞳を介して被照射面を照明する照明方法において、
第1光学系を用いて前記光源からの照明光の強度分布を均一にすることと、
偏光部を用いて、前記第1光学系からの強度分布が均一化された照明光の少なくとも一部の偏光状態を変えることと、
前記少なくとも一部の偏光状態が変えられた照明光を複数の反射面で反射することと、
前記複数の反射面を個別に制御して前記照明瞳に照明光を分布させることと、
前記第1光学系から前記偏光部へ向かう光の角度を検出することと、
を含む照明方法。 - 前記検出することは、前記第1光学系からの光が所定面に入射する位置を検出することを含む、請求項16に記載の照明方法。
- 前記検出することは、前記所定面に入射する光の位置と前記角度とを変更することをさらに含む、請求項17に記載の照明方法。
- 前記検出することは、前記角度を変更することをさらに含む、請求項16に記載の照明方法。
- 前記検出することは、前記第1光学系からの光の所定面での光強度分布をモニタすることを含む、請求項16または17に記載の照明方法。
- 前記偏光部は前記所定面の近傍に配置される、請求項17に記載の照明方法。
- 前記複数の反射面は、前記所定面に配置される、請求項21に記載の照明方法。
- 前記第1光学系は、入射光を波面分割する波面分割素子と、前記波面分割素子を介した光を集光する集光光学系とを備える、請求項16乃至22の何れか一項に記載の照明方法。
- 前記偏光状態を変えることは、偏光素子の位置を前記第1光学系からの光の光路を横切る方向で変更することを含む、請求項16乃至23の何れか一項に記載の照明方法。
- 前記変更することは、前記偏光素子の前記位置を変更して前記照明瞳に分布される前記光の偏光分布を所定の分布に設定することを含む、請求項24に記載の照明方法。
- 請求項16乃至25の何れか一項に記載の照明方法を用いて、所定のパターンを照明することと、
前記照明された前記所定のパターンからの光で感光性基板を露光することと、
を含む、露光方法。 - 請求項14または15に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むデバイス製造方法。 - 請求項26に記載の露光方法を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161544006P | 2011-10-06 | 2011-10-06 | |
US61/544,006 | 2011-10-06 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017033199A Division JP6390879B2 (ja) | 2011-10-06 | 2017-02-24 | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013084958A JP2013084958A (ja) | 2013-05-09 |
JP2013084958A5 JP2013084958A5 (ja) | 2016-03-17 |
JP6103467B2 true JP6103467B2 (ja) | 2017-03-29 |
Family
ID=48529766
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012223639A Active JP6103467B2 (ja) | 2011-10-06 | 2012-10-05 | 照明光学系、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
JP2017033199A Active JP6390879B2 (ja) | 2011-10-06 | 2017-02-24 | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017033199A Active JP6390879B2 (ja) | 2011-10-06 | 2017-02-24 | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6103467B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009054540B4 (de) * | 2009-12-11 | 2011-11-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithographie |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200923418A (en) * | 2005-01-21 | 2009-06-01 | Nikon Corp | Exposure device, exposure method, fabricating method of device, exposure system, information collecting device, and measuring device |
JP2006269853A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Sony Corp | 露光装置および露光方法 |
US7525642B2 (en) * | 2006-02-23 | 2009-04-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP2179329A1 (en) * | 2007-10-16 | 2010-04-28 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
EP2209135A4 (en) * | 2007-11-06 | 2011-06-08 | Nikon Corp | OPTICAL LIGHTING DEVICE AND EXPOSURE DEVICE |
JP5365982B2 (ja) * | 2008-10-02 | 2013-12-11 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP5688672B2 (ja) * | 2009-02-17 | 2015-03-25 | 株式会社ニコン | 光伝送装置、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2011114041A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-09 | Nikon Corp | 光束分割装置、空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
EP2369413B1 (en) * | 2010-03-22 | 2021-04-07 | ASML Netherlands BV | Illumination system and lithographic apparatus |
-
2012
- 2012-10-05 JP JP2012223639A patent/JP6103467B2/ja active Active
-
2017
- 2017-02-24 JP JP2017033199A patent/JP6390879B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017129866A (ja) | 2017-07-27 |
JP6390879B2 (ja) | 2018-09-19 |
JP2013084958A (ja) | 2013-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6621057B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP5935852B2 (ja) | 光学ユニット、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
US10175583B2 (en) | Illumination optical system, exposure apparatus, device production method, and light polarization unit | |
JP6583741B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2013502703A (ja) | 偏光変換ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP6390879B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
WO2010044307A1 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP5403244B2 (ja) | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2011114041A (ja) | 光束分割装置、空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP5532213B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
WO2009128293A1 (ja) | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2012256742A (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP5327715B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2010283101A (ja) | 偏光子ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2012004558A (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
WO2014077404A1 (ja) | 照明光学系及び照明方法、並びに露光方法及び装置 | |
JP2010283100A (ja) | 偏光変換ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2010141151A (ja) | 光束分割素子、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150908 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160201 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160921 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170206 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6103467 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170219 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |