JP2013084958A - 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013084958A JP2013084958A JP2012223639A JP2012223639A JP2013084958A JP 2013084958 A JP2013084958 A JP 2013084958A JP 2012223639 A JP2012223639 A JP 2012223639A JP 2012223639 A JP2012223639 A JP 2012223639A JP 2013084958 A JP2013084958 A JP 2013084958A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- optical system
- illumination
- intensity distribution
- pupil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 211
- 238000005286 illumination Methods 0.000 title claims abstract description 95
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims abstract description 149
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 146
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 63
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 230000036544 posture Effects 0.000 claims description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 18
- 230000009471 action Effects 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 13
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 11
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 10
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 3
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 241000276498 Pollachius virens Species 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系は、所定面に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、照明光学系の照明瞳に光強度分布を可変的に形成する空間光変調器と、所定面の近傍の位置、または所定面と光学的に共役な面を含む共役空間に配置されて、光路を伝搬する伝搬光束のうちの一部の光束の偏光状態を変化させる偏光部材と、光源と偏光部材との間の光路中に配置されて、所定面へ入射する光の強度分布の均一性を向上させる光強度分布均一化部材とを備えている。
【選択図】 図1
Description
所定面に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に光強度分布を可変的に形成する空間光変調器と、
前記所定面の近傍の位置、または前記所定面と光学的に共役な面を含む共役空間に配置されて、光路を伝搬する伝搬光束のうちの一部の光束の偏光状態を変化させる偏光部材と、
前記光源と前記偏光部材との間の光路中に配置されて、前記所定面へ入射する光の強度分布の均一性を向上させる光強度分布均一化部材とを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
2 光強度分布均一化部材
3 空間光変調器
4 1/2波長板(偏光部材)
5,6 リレー光学系
7 マイクロフライアイレンズ(オプティカルインテグレータ)
8 コンデンサー光学系
9 マスクブラインド
10 結像光学系
LS 光源
DTr,DTw 瞳強度分布計測部
CR 制御系
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
Claims (16)
- 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
所定面に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に光強度分布を可変的に形成する空間光変調器と、
前記所定面の近傍の位置、または前記所定面と光学的に共役な面を含む共役空間に配置されて、光路を伝搬する伝搬光束のうちの一部の光束の偏光状態を変化させる偏光部材と、
前記光源と前記偏光部材との間の光路中に配置されて、前記所定面へ入射する光の強度分布の均一性を向上させる光強度分布均一化部材とを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記偏光部材は、入射した第1光束を第1の偏光状態の光に変化させる第1偏光素子と、入射した第2光束を第2の偏光状態の光に変化させる第2偏光素子とを有し、
前記第2光束は前記第1光束と並列していることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。 - 前記偏光部材は、前記伝搬光束のうちの一部の光束が進行する第1光路のみに配置された波長板を有することを特徴とする請求項1または2に記載の照明光学系。
- 前記偏光部材は、前記伝搬光束のうちの一部の光束が進行する第1光路のみに配置された旋光子を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の照明光学系。
- オプティカルインテグレータを備え、
前記偏光部材は、前記光源と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記光強度分布均一化部材は、入射した光束を複数の光束に波面分割する波面分割素子と、該波面分割素子により波面分割された前記複数の光束を前記所定面において重畳させるリレー光学系とを有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記波面分割素子は、少なくとも一方向に並んだ複数のレンズ要素を有することを特徴とする請求項6に記載の照明光学系。
- 前記光強度分布均一化部材は、前記光源と前記空間光変調器との間の光路の中間位置よりも前記光源側に配置されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記波面分割素子と前記空間光変調器との間の光路から取り出した光に基づいて、前記所定面へ入射する光の前記光路を横切る面内の位置と、前記所定面へ入射する光の前記所定面に対する角度との少なくとも一方をモニターするビームモニターを備えていることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記空間光変調器は、前記所定面内で二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記空間光変調器と前記照明瞳との間の光路中に配置されて、空間光変調器の前記複数の光学要素がファーフィールドに形成するファーフィールドパターンを、前記照明瞳に結像させる分布形成光学系を備えていることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記分布形成光学系は、前記空間光変調器からの射出光束の角度方向の分布を、前記分布形成光学系からの射出光束の断面における位置分布に変換することを特徴とする請求項11に記載の照明光学系。
- 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項1乃至13のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項14に記載の露光装置。
- 請求項14または15に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161544006P | 2011-10-06 | 2011-10-06 | |
US61/544,006 | 2011-10-06 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017033199A Division JP6390879B2 (ja) | 2011-10-06 | 2017-02-24 | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013084958A true JP2013084958A (ja) | 2013-05-09 |
JP2013084958A5 JP2013084958A5 (ja) | 2016-03-17 |
JP6103467B2 JP6103467B2 (ja) | 2017-03-29 |
Family
ID=48529766
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012223639A Active JP6103467B2 (ja) | 2011-10-06 | 2012-10-05 | 照明光学系、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
JP2017033199A Active JP6390879B2 (ja) | 2011-10-06 | 2017-02-24 | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017033199A Active JP6390879B2 (ja) | 2011-10-06 | 2017-02-24 | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6103467B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015163994A (ja) * | 2009-12-11 | 2015-09-10 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | Euvマイクロリソグラフィのための照明光学ユニット |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006269853A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Sony Corp | 露光装置および露光方法 |
JP2007227918A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2010034486A (ja) * | 2007-10-16 | 2010-02-12 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2011114041A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-09 | Nikon Corp | 光束分割装置、空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
US20110228247A1 (en) * | 2010-03-22 | 2011-09-22 | Heine Melle Mulder | Illumination system and lithographic apparatus |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI453796B (zh) * | 2005-01-21 | 2014-09-21 | 尼康股份有限公司 | 偏光變更單元以及元件製造方法 |
EP2209135A4 (en) * | 2007-11-06 | 2011-06-08 | Nikon Corp | OPTICAL LIGHTING DEVICE AND EXPOSURE DEVICE |
JP5365982B2 (ja) * | 2008-10-02 | 2013-12-11 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP5688672B2 (ja) * | 2009-02-17 | 2015-03-25 | 株式会社ニコン | 光伝送装置、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
-
2012
- 2012-10-05 JP JP2012223639A patent/JP6103467B2/ja active Active
-
2017
- 2017-02-24 JP JP2017033199A patent/JP6390879B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006269853A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Sony Corp | 露光装置および露光方法 |
JP2007227918A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2010034486A (ja) * | 2007-10-16 | 2010-02-12 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2011114041A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-09 | Nikon Corp | 光束分割装置、空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
US20110228247A1 (en) * | 2010-03-22 | 2011-09-22 | Heine Melle Mulder | Illumination system and lithographic apparatus |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015163994A (ja) * | 2009-12-11 | 2015-09-10 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | Euvマイクロリソグラフィのための照明光学ユニット |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6390879B2 (ja) | 2018-09-19 |
JP6103467B2 (ja) | 2017-03-29 |
JP2017129866A (ja) | 2017-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6621057B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
US10691026B2 (en) | Illumination optical system, exposure apparatus, device production method, and light polarization unit | |
JP6583741B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2013502703A (ja) | 偏光変換ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP6390879B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
JP5403244B2 (ja) | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2011114041A (ja) | 光束分割装置、空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
WO2009128293A1 (ja) | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2012256742A (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP5327715B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2011119596A (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2012004558A (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2010283101A (ja) | 偏光子ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
WO2014077404A1 (ja) | 照明光学系及び照明方法、並びに露光方法及び装置 | |
JP2010283100A (ja) | 偏光変換ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2010141151A (ja) | 光束分割素子、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150908 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160201 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160921 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170206 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6103467 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170219 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |