DE102018214223A1

DE102018214223A1 - Pupillenfacettenspiegel

Info

Publication number: DE102018214223A1
Application number: DE102018214223.8A
Authority: DE
Inventors: Michael Patra; Markus Schwab
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2018-08-23
Filing date: 2018-08-23
Publication date: 2018-11-08

Abstract

Ein Pupillenfacettenspiegel (10) ist nahe oder in einer Pupillenebene einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage (1) anordenbar. Der Pupillenfacettenspiegel (10) hat eine Mehrzahl von Pupillenfacetten (11) zur Führung eines Teilbündels von Beleuchtungslicht (3) der Projektionsbelichtungsanlage (1) hin zu einem Objektfeld (20) der Projektionsbelichtungsanlage (1). Einige der Pupillenfacetten sind als Schalt-Pupillenfacetten (11) mit Hilfe zugeordneter Aktoren (12) zwischen mindestens zwei Kippstellungen schaltbar. Einige der Pupillenfacetten sind als Fix-Pupillenfacetten (11) fix, nicht zwischen Kippstellungen schaltbar, ausgeführt. Es resultiert ein Pupillenfacettenspiegel, mit dem eine Flexibilität einer Vorgabe verschiedener Beleuchtungssettings insbesondere im Zusammenspiel mit einem Feldfacettenspiegel mit kippbaren Feldfacetten erhöht ist.

Description

Die Erfindung betrifft einen Pupillenfacettenspiegel, der nahe oder in einer Pupillenebene einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage anordenbar ist. Ferner betrifft die Erfindung eine Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Pupillenfacettenspiegel, ein optisches System für die Projektionslithografie mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System, ein Herstellungsverfahren für ein mikro- bzw. nanostrukturiertes Bauelement mit Einsatz einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sowie ein mit einem derartigen Herstellungsverfahren hergestelltes mikro- bzw. nanostrukturiertes Bauelement.
Ein Pupillenfacettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage ist bekannt aus der WO 2014/075 917 A1 .
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Pupillenfacettenspiegel derart weiterzubilden, dass eine Flexibilität einer Vorgabe verschiedener Beleuchtungssettings insbesondere im Zusammenspiel mit einem Feldfacettenspiegel mit kippbaren Feldfacetten erhöht ist.
Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch einen Pupillenfacettenspiegel mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen.
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass der Einsatz eines Pupillenfacettenspiegels mit zwischen mindestens zwei Kippstellungen schaltbaren Schalt-Pupillenfacetten die Flexibilität bei der Einstellung verschiedener Beleuchtungssettings deutlich erhöht. Wenn ein derartiger Pupillenfacettenspiegel zusammen mit einem im Beleuchtungsstrahlengang vorgelagerten
(Feld-)Facettenspiegel mit kippbaren Feldfacetten eingesetzt wird, kann ein und dieselbe Pupillenfacette zur Erzeugung verschiedener Beleuchtungssettings mit verschiedenen Feldfacetten beleuchtet werden, da über eine Verkippung einer derart beaufschlagten Schalt-Pupillenfacette das bei den verschiedenen Beleuchtungssettings über verschiedene Feldfacetten geführte Beleuchtungslicht-Teilbündel hin zum Objektfeld geführt werden kann. Es ist auf diese Weise möglich, eine gegebene Anzahl verschiedener Beleuchtungssettings mit einer vorteilhaft kleinen Anzahl von Pupillenfacetten des Pupillenfacettenspiegels zu realisieren. Ein entsprechend kompakter Pupillenfacettenspiegel kann die Folge sein. Es werden nur diejenigen Pupillenfacetten als Schalt-Pupillenfacetten ausgeführt, für die beim Erzeugen verschiedener Beleuchtungssettings tatsächlich eine Schaltbarkeit erforderlich ist. Dabei müssen tatsächlich nicht alle Pupillenfacetten schaltbar ausgeführt werden, sondern ein Teil der Pupillenfacetten kann fix, also nicht zwischen Kippstellungen schaltbar, ausgeführt sein.
Der Pupillenfacettenspiegel ist dann nahe oder in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik angeordnet, wenn für einen Positions-Parameter P gilt: P > 0,7.
Zur Definition dieses Parameters P sei verwiesen auf die WO 2009/024 164 A1 . Es gilt: $P = D (SA) / (D (SA) + D (CR))$
Hierbei gilt:

D(SA): Durchmesser einer Subapertur in der jeweils betrachteten Anordnungsebene des Pupillenfacettenspiegels;
D(CR): maximaler Abstand von Hauptstrahlen, die vom Objektfeld der Projektionsbelichtungsanlage ausgehen, wiederum gemessen in der Anordnungsebene des Pupillenfacettenspiegels.

Entsprechend dieser Definition von D gilt in einer Feldebene: D = 0, da D(CR) ≠ 0 ist und D(SA) = 0 ist. In einer Pupillenebene gilt wiederum:
P = 1, da D(CR) = 0 ist und D(SA) ≠ 0 ist.
Anteile schaltbarer Pupillenfacetten nach Anspruch 2 haben sich als vorteilhaft herausgestellt. Es können zwischen 10% und 90% aller Pupillenfacetten als Schalt-Pupillenfacetten ausgeführt sein. Entsprechende Anteile der Schalt-Pupillenfacetten können im Bereich zwischen 15% und 85%, zwischen 20% und 80%, zwischen 25% und 75%, zwischen 30% und 70%, zwischen 35% und 65%, zwischen 40% und 60% oder zwischen 45% und 55% liegen. Entsprechende Anteile der Schalt-Pupillenfacetten können auch im Bereich zwischen 5% und 15%, zwischen 10% und 20%, zwischen 15% und 25%, zwischen 20% und 30%, zwischen 25% und 35%, zwischen 30% und 40%, zwischen 35% und 45%, zwischen 40% und 50%, zwischen 45% und 55%, zwischen 50% und 60%, zwischen 55% und 65%, zwischen 60% und 70%, zwischen 65% und 75%, zwischen 70% und 80%, zwischen 75% und 85%, zwischen 80% und 90% oder zwischen 85% und 95% liegen.
Eine Verteilung der Schalt-Pupillenfacetten nach Anspruch 3 oder 4 hat sich für die flexible Zuordnung der Facetten zur Vorgabe bestimmter Beleuchtungssettings als besonders vorteilhaft herausgestellt.
Ein Parallelogramm-Gestänge nach Anspruch 5 ermöglicht eine räumliche Trennung zwischen dem Aktor und der hierüber verkippten Pupillenfacette, was die Integration entsprechender Kippmechaniken erleichtert.
Die Vorteile einer Beleuchtungsoptik nach Anspruch 6 entsprechen denen, die vorstehend im Zusammenhang mit dem Pupillenfacettenspiegel bereits erläutert wurden.
Anteils-Relationen der Anzahl der Schalt-Pupillenfacetten an einer Gesamtzahl der Pupillenfacetten des Pupillenfacettenspiegels nach den Ansprüchen 7 und 8 haben sich als besonders vorteilhaft herausgestellt. Der Pupillenfüllgrad kann bei der Vorgabe eines jeweiligen Beleuchtungssettings minimiert sein, sodass in der Beleuchtungspupille eine hohe Ortsauflösung beleuchteter Bereiche gegeben ist. Dies verbessert eine Winkeldefinition von Beleuchtungswinkeln des jeweiligen Beleuchtungssettings, was beispielsweise bei Multipol-Beleuchtungssettings von besonderem Vorteil ist.
Anzahl-Relation zwischen der Anzahl der Schalt-Pupillenfacetten und der Anzahl der Feldfacetten nach dem Anspruch 9 haben sich als besonders vorteilhaft herausgestellt. Typischerweise sind die Flächen von Feldfacettenspiegel und Pupillenfacettenspiegel vergleichbar groß, so dass eine Ausgestaltung nach Anspruch 9 die Verwendung identischer oder zumindest ähnlicher Aktuatoren für die Aktuierung von Feldfacetten und Schalt-Pupillenfacetten erlaubt.
Die Vorteile eines optischen Systems nach Anspruch 10, eines Beleuchtungssystems nach Anspruch 11, einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 12, eines Herstellungsverfahrens nach Anspruch 13 sowie eines mikro- bzw. nanostrukturierten Bauteils nach Anspruch 14 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf den Pupillenfacettenspiegel und die Beleuchtungsoptik bereits erläutert wurden. Beim mikro- bzw. nanostrukturierten Bauteil kann es sich um ein Halbleiterbauelement, insbesondere um einen Mikrochip, beispielsweise um einen Speicherchip, handeln.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:

1 schematisch und in Bezug auf eine Beleuchtungsoptik im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie;
2 eine Aufsicht auf eine Facettenanordnung eines Feldfacettenspiegels der Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage nach 1;
3 eine Aufsicht auf eine Facettenanordnung eines Pupillenfacettenspiegels der Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage nach 1;
4 in einer zu 2 ähnlichen Darstellung eine Facettenanordnung einer weiterer Ausführung eines Feldfacettenspiegels;
5 schematisch eine weitere Ausführung eines Pupillenfacettenspiegels mit einer Pupillenfacettenanordnung, bei der Schalt-Pupillenfacetten im Vergleich zu nicht schaltbaren Fix-Pupillenfacetten hervorgehoben sind;
6 eine Seitenansicht eines Parallelogramm-Gestänges zur Übertragung einer Kippbewegung zwischen einem Aktor und einer Schalt-Pupillenfacette, dargestellt in einer Neutralstellung;
7 in einer zu 6 ähnlichen Ansicht das Kipp-Gestänge in einer Kippstellung; und
8 bis 10 schematisch eine weitere Ausführung eines Pupillenfacettenspiegels, aufweisend Schalt-Pupillenfacetten und Fix-Pupillenfacetten, wobei mit Beleuchtungslicht beleuchtete Pupillenfacetten zur Erzeugung eines jeweiligen Beleuchtungssettings hervorgehoben sind.

Eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie dient zur Herstellung eines mikro- beziehungsweise nanostrukturierten elektronischen Halbleiter-Bauelements. Eine Lichtquelle 2 emittiert zur Beleuchtung genutzte EUV-Strahlung im Wellenlängenbereich beispielsweise zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 2 kann es sich um eine GDPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Gasentladung, gas discharge produced plasma) oder um eine LPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Wafer, Wafer produced plasma) handeln. Auch eine Strahlungsquelle, die auf einem Synchrotron basiert, ist für die Lichtquelle 2 einsetzbar. Informationen zu einer derartigen Lichtquelle findet der Fachmann beispielsweise in der US 6,859,515 B2 . Zur Beleuchtung und Abbildung innerhalb der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird EUV-Beleuchtungslicht beziehungsweise Beleuchtungsstrahlung 3 genutzt. Das EUV-Beleuchtungslicht 3 durchläuft nach der Lichtquelle 2 zunächst einen Kollektor 4, bei dem es sich beispielsweise um einen genesteten Kollektor mit einem aus dem Stand der Technik bekannten Mehrschalen-Aufbau oder alternativ um einen ellipsoidal geformten Kollektor handeln kann. Ein entsprechender Kollektor ist aus der EP 1 225 481 A2 bekannt. Nach dem Kollektor 4 durchtritt das EUV-Beleuchtungslicht 3 zunächst eine Zwischenfokusebene 5, was zur Trennung des EUV-Beleuchtungslichts 3 von unerwünschten Strahlungs- oder Partikelanteilen genutzt werden kann. Nach Durchlaufen der Zwischenfokusebene 5 trifft das EUV-Beleuchtungslicht 3 zunächst auf einen Feldfacettenspiegel 6. In der Zwischenfokusebene 5 hat ein Gesamtbündel des Beleuchtungslichts 3 eine numerische Apertur α.
Zur Erleichterung der Beschreibung von Lagebeziehungen ist in der Zeichnung jeweils ein kartesisches globales xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Achse verläuft in der 1 senkrecht zur Zeichenebene und aus dieser heraus. Die y-Achse verläuft in der 1 nach rechts. Die z-Achse verläuft in der 1 nach oben.
Zur Erleichterung der Beschreibung von Lagebeziehungen bei einzelnen optischen Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird in den nachfolgenden Figuren jeweils auch ein kartesisches lokales xyz- oder xy-Koordinatensystem verwendet. Die jeweiligen lokalen xy-Koordinaten spannen, soweit nichts anderes beschrieben ist, eine jeweilige Hauptanordnungsebene der optischen Komponente, beispielsweise eine Reflexionsebene, auf. Die x-Achsen des globalen xyz-Koordinatensystems und der lokalen xyz- oder xy-Koordinatensysteme verlaufen parallel zueinander. Die jeweiligen y-Achsen der lokalen xyz- oder xy-Koordinatensysteme haben einen Winkel zur y-Achse des globalen xyz-Koordinatensystems, die einem Kippwinkel der jeweiligen optischen Komponente um die x-Achse entspricht.
2 zeigt beispielhaft eine Facettenanordnung von Feldfacetten 7 des Feldfacettenspiegels 6. Die Feldfacetten 7 sind rechteckig und haben jeweils das gleiche x/y-Aspektverhältnis. Das x/y-Aspektverhältnis kann beispielsweise 12/5, kann 25/4 oder kann 104/8 betragen.
Die Feldfacetten 7 geben eine Reflexionsfläche des Feldfacettenspiegels 6 vor und sind in vier Spalten zu je sechs bis acht Feldfacettengruppen 8a, 8b gruppiert. Die Feldfacettengruppen 8a haben jeweils sieben Feldfacetten 7. Die beiden zusätzlichen randseitigen Feldfacettengruppen 8b der beiden mittleren Feldfacettenspalten haben jeweils vier Feldfacetten 7. Zwischen den beiden mittleren Facettenspalten und zwischen der dritten und vierten Facettenzeile weist die Facettenanordnung des Feldfacettenspiegels 6 Zwischenräume 9 auf, in denen der Feldfacettenspiegel 6 durch Haltespeichen des Kollektors 4 abgeschattet ist.
Bei einer nicht dargestellten Variante ist der Feldfacettenspiegel 6 als MEMS-Spiegelarray mit einer Vielzahl verkippbarer Einzelspiegel aufgebaut, wobei jede der Feldfacetten 7 durch eine Mehrzahl derartiger Einzelspiegel gebildet wird. Ein solcher Aufbau des Feldfacettenspiegels 6 ist bekannt aus der US 2011/0001947 A1 .
Sowohl ein Krümmungsradius einer Feldfacetten-Einzelspiegel-Gruppe des MEMS-Spiegelarrays als auch ein Krümmungsradius einer Pupillenfacetten-Einzelspiegel-Gruppe des MEMS-Spiegelarrays kann durch Verlagerung der Einzelspiegel senkrecht zu einer Spiegelarray-Anordnungsebene und entsprechende Verkippung der Einzelspiegel angepasst werden, wie ebenfalls in der US 2011/0001947 A1 beschrieben. Auch durch Verkippung der Einzelspiegel ohne eine entsprechende Verlagerung senkrecht zu einer Spiegelarray-Anordnungsebene kann eine Krümmungsradiusanpassung erreicht werden, wobei sich dann effektiv z. B. ein Fresnel-Spiegel ergibt.
Nach Reflexion am Feldfacettenspiegel 6 trifft das in Strahlbüschel beziehungsweise Teilbündel, die den einzelnen Feldfacetten 7 zugeordnet sind, aufgeteilte EUV-Beleuchtungslicht 3 auf einen Pupillenfacettenspiegel 10.
Die Feldfacetten 7 des Feldfacettenspiegels 6 sind zwischen mehreren Ausleuchtungs-Kippstellungen kippbar, sodass hierdurch ein Strahlengang des von der jeweiligen Feldfacette 7 reflektierten Beleuchtungslichts 3 in seiner Richtung verändert und damit der Auftreffpunkt des reflektierten Beleuchtungslichts 3 auf dem Pupillenfacettenspiegel 10 verändert werden kann. Entsprechende, zwischen verschiedenen Ausleuchtungs-Kippstellungen verlagerbare Feldfacetten sind bekannt aus der US 6,658,084 B2 und der US 7,196,841 B2 . Hierüber ist die Vorgabe eines Beleuchtungssettings, also einer Verteilung von Beleuchtungswinkeln zur Ausleuchtung des Objektfeldes, möglich. Beispiele für Beleuchtungssettings sind u.a. bekannt aus der DE 10 2008 021 833 A1 .
3 zeigt eine beispielhafte Facettenanordnung von runden Pupillenfacetten 11 des Pupillenfacettenspiegels 10. Die Pupillenfacetten 11 sind um ein Zentrum herum in ineinander liegenden Facettenringen angeordnet. Jedem von einer der Feldfacetten 7 reflektierten Teilbündel des EUV-Be-leuchtungslichts 3 ist mindestens eine Pupillenfacette 11 derart zugeordnet, dass jeweils ein beaufschlagtes Facettenpaar mit einer der Feldfacetten 7 und einer der Pupillenfacetten 11 einen Objektfeld-Ausleuchtungskanal für das zugehörige Teilbündel des EUV-Beleuchtungslichts 3 vorgibt. Die kanalweise Zuordnung der Pupillenfacetten 11 zu den Feldfacetten 7 erfolgt abhängig von einer gewünschten Beleuchtung durch die Projektionsbelichtungsanlage 1.
Einige der Pupillenfacetten 11, von denen in der 3 ausgewählte beispielhaft mit dem Index „S“ versehen sind, sind als Schalt-Pupillenfacetten 11_S mit Hilfe zugeordneter Aktoren 12 zwischen mindestens zwei Ausleuchtungs-Kippstellungen schaltbar. Die Aktoren 12 sind in der 3 lediglich schematisch angedeutet. Die Schalt-Pupillenfacetten 11_S können zwischen zwei Kippstellungen, zwischen drei Kippstellungen, zwischen vier Kippstellungen oder auch zwischen einer noch größeren Anzahl von Kippstellungen schaltbar sein. Der Pupillenfacettenspiegel 10 kann verschiedene Typen von Schalt-Pupillenfacetten 11_S aufweisen, die in verschiedene Anzahlen von Ausleuchtungs-Kippstellungen schaltbar sind.
Zudem weist der Pupillenfacettenspiegel 10 weitere, mit dem Index „F“ versehene Fix-Pupillenfacetten 11_F auf, die relativ zu einem Pupillenfacettenträger 13 des Pupillenfacettenspiegels 10 fix, also nicht zwischen Kippstellungen schaltbar, ausgeführt sind.
Der Anteil der Schalt-Pupillenfacetten 11_S an der Gesamtzahl der Pupillenfacetten 11 des Pupillenfacettenspiegels 10 kann im Bereich zwischen 5% und 95%, insbesondere im Bereich zwischen 10% und 90%, im Bereich zwischen 15% und 85%, im Bereich zwischen 20% und 80%, im Bereich zwischen 25% und 75%, im Bereich zwischen 30% und 70%, im Bereich zwischen 35% und 65%, im Bereich zwischen 40% und 60% oder im Bereich zwischen 45% und 55% liegen. Der Anteil der Schalt-Pupillenfacetten 11_S kann im Bereich zwischen 5% und 15%, im Bereich zwischen 10% und 20%, im Bereich zwischen 15% und 25%, im Bereich zwischen 20% und 30%, im Bereich zwischen 25% und 35%, im Bereich zwischen 30% und 40%, im Bereich zwischen 35% und 45%, im Bereich zwischen 40% und 50%, im Bereich zwischen 45% und 55%, im Bereich zwischen 50% und 60%, im Bereich zwischen 55% und 65%, im Bereich zwischen 60% und 70%, im Bereich zwischen 65% und 75%, im Bereich zwischen 70% und 80%, im Bereich zwischen 75% und 85%, im Bereich zwischen 80% und 90% oder im Bereich zwischen 85% und 95% der Gesamtzahl der Pupillenfacetten 11 liegen.
Ein Anteil der schaltbaren Pupillenfacetten 11_S kann in einem Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 10 größer sein als in einem Randbereich des Pupillenfacettenspiegels 10.
Über die jeweiligen Ausleuchtungs-Kippstellungen der jeweiligen Feldfacette 7 ist dieser Feldfacette 7 eine disjunkte Menge von Pupillenfacetten 11 des Pupillenfacettenspiegels 10 zugeordnet. Jede der Pupillenfacetten 11 einer dieser Mengen wird über genau eine der verschiedenen Kippstellungen der zugeordneten Feldfacetten 7 mit dem Beleuchtungslicht 3 beaufschlagt, so dass je nach Kippstellung der Feldfacette 7 ein bestimmter Ausleuchtungskanal zwischen dieser Feldfacette 7 und einer der Pupillenfacetten 11 der Pupillenfacetten-Menge gebildet ist. Die Ausleuchtungskanäle, die je nach Kippstellung genau einer der Feldfacetten 7 genutzt werden können, über die also die Pupillenfacetten 11 der dieser Feldfacette 7 zugeordneten disjunkten Menge der Pupillenfacetten 11 mit dem Beleuchtungslicht-Teilbündel beaufschlagt werden können, bilden eine Ausleuchtungskanalgruppe. Eine Feldfacette 7 kann mehr Kippstellungen, welche mittels eines mit ihr verbundenen Aktuators eingestellt werden können, besitzen als Kippstellungen, welche zur Ausbildung eines Beleuchtungskanals führen. Nur eine Kippstellung, welche zur Ausbildung eines Ausleuchtungskanals führt, soll im Folgenden als Kippstellung bezeichnet werden.
Zwischen einer ggf. im jeweiligen Ausleuchtungskanal vorliegenden Schalt-Pupillenfacette 11_S und dem nachfolgenden Beleuchtungsstrahlengang des über diesen Ausleuchtungskanal geführten Beleuchtungslicht-Teilbündels kann dieser Strahlengang über die jeweilige Ausleuchtungs-Kippstellung der Schalt-Pupillenfacette 11_S noch in seiner Richtung beeinflusst werden. Hierüber ist es möglich, beispielsweise ein und dieselbe Schalt-Pupillenfacette 11_S verschiedenen Feldfacetten 7 über jeweils einen Ausleuchtungskanal zuzuordnen, sodass auch eine Schalt-Pupillenfacette 11_S je nach ihrer Kippstellung verschiedenen Feldfacetten 7 zugeordnet sein kann. Eine Fix-Pupillenfacette 11_F ist dagegen maximal einer Feldfacette 7 zugeordnet, typischerweise exakt einer Feldfacette.
Der Feldfacettenspiegel 6 hat mehrere hundert der Feldfacetten 7, beispielsweise 300 Feldfacetten 7. Der Pupillenfacettenspiegel 10 kann eine Anzahl der Pupillenfacetten 11 haben, die mindestens genauso groß ist wie die Summe der Kippstellungen aller Feldfacetten 7 des Feldfacettenspiegels 6. In diesem Fall werden für die verwendete Zuordnung von Pupillenfacetten zu Feldfacetten einige der Pupillenfacetten nicht genutzt. Vorteilhaft kann es insbesondere sein, wenn die Summe der Kippstellungen aller Feldfacetten 7 des Feldfacettenspiegels 6 gleich der Anzahl der Pupillenfacetten 11 ist.
Eine derartige Anzahl der Pupillenfacetten 11, die sich an der Summe der Kippstellungen aller Feldfacetten 7 orientiert, ist allerdings nicht zwingend. Aufgrund der vorhandenen Schalt-Pupillenfacetten 11_S ist es möglich, den Pupillenfacettenspiegel 10 mit einer Anzahl von Pupillenfacetten 11 auszustatten, die kleiner ist als die Summe der Kippstellungen aller Feldfacetten 7. Wenn beispielsweise jede der Feldfacetten 7 zwei verschiedene Kippstellungen hat, kann die Anzahl der Pupillenfacetten 11 auch genauso groß sein wie die Anzahl der Feldfacetten 7, kann um 10% größer sein, kann um 20% größer sein, kann um 30% größer sein, kann um 40% größer sein oder kann auch um 50% größer sein. Die Anzahl der Pupillenfacetten 11 kann in diesem Fall kleiner sein als 200% der Anzahl der Feldfacetten 7, kann kleiner sein als 190%, kann kleiner sein als 180% und kann auch kleiner sein als 170%.
Bei einer nicht dargestellten Variante ist der Pupillenfacettenspiegel 10 als MEMS-Spiegelarray mit einer Vielzahl verkippbarer Einzelspiegel aufgebaut, wobei jede der Pupillenfacetten 11 durch eine Mehrzahl derartiger Einzelspiegel gebildet wird. Ein solcher Aufbau des Pupillenfacettenspiegels 10 ist bekannt aus US 2011/0001947 A1 .
Über den Pupillenfacettenspiegel 10 (vgl. 1) und eine nachfolgende, aus drei EUV-Spiegeln 14, 15, 16 bestehenden Übertragungsoptik 17 werden die Feldfacetten 7 in eine Objektebene 18 der Projektionsbelichtungsanlage 1 abgebildet. Der EUV-Spiegel 16 ist als Spiegel für streifenden Einfall (Grazing-Incidence-Spiegel) ausgeführt. In der Objektebene 18 ist ein Objekt in Form eines Retikel 19 angeordnet, von dem mit dem EUV-Beleuchtungslicht 3 ein Ausleuchtungsbereich in Form eines Beleuchtungsfeldes ausgeleuchtet wird, das mit einem Objektfeld 20 einer nachgelagerten Projektionsoptik 21 der Projektionsbelichtungsanlage 1 zusammenfällt. Die Objektfeld-Ausleuchtungskanäle werden im Objektfeld 20 überlagert. Das EUV-Beleuchtungslicht 3 wird vom Retikel 19 reflektiert.
Ein Gesamtbündel des Beleuchtungslichts 3 am Objektfeld 20 hat eine objektseitige numerische Apertur NA, die beispielsweise im Bereich zwischen 0,04 und 0,15 liegen kann.
Die Projektionsoptik 21 bildet das Objektfeld 20 in der Objektebene 18 in ein Bildfeld 22 in einer Bildebene 23 ab. In dieser Bildebene 23 ist ein Wafer 24 angeordnet, der eine lichtempfindliche Schicht trägt, die während der Projektionsbelichtung mit der Projektionsbelichtungsanlage 1 belichtet wird. Bei der Projektionsbelichtung werden sowohl das Retikel 19 als auch der Wafer 24 in y-Richtung synchronisiert gescannt. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 ist als Scanner ausgeführt. Die Scanrichtung y wird nachfolgend auch als Objektverlagerungsrichtung bezeichnet.
Die Projektionsoptik 21 hat einen Abbildungsmaßstab β. Soweit die Projektionsoptik 21 beispielsweise das Objektfeld 20 um einen Faktor 4 verkleinert auf das Bildfeld 22 abbildet, beträgt dieser Abbildungsmaßstab β 1/4. Abbildungsmaßstäbe der Projektionsoptik 21 können im Bereich zwischen 1/2 und 1/16, beispielsweise bei 1/5, 1/6, 1/7 oder 1/8, liegen.
Die Projektionsoptik 21 kann anamorphotisch mit in den zueinander senkrechten Ebenen xz, yz entsprechend der 1 unterschiedlichen Abbildungsmaßstäben βx, βy ausgeführt sein. Beispiele derartiger anamorphotischer Projektionsoptiken sind bekannt aus der US 9,366,968 und US 9,983,484 .
βx kann im Bereich zwischen 1/3 und 1/5 und insbesondere im Bereich von 1/4 liegen. βy kann im Bereich zwischen 1/4 und 1/10, insbesondere im Bereich von 1/8, liegen.
Der Feldfacettenspiegel 6, der Pupillenfacettenspiegel 10 und die Spiegel 14 bis 16 der Übertragungsoptik 17 sind Bestandteile einer Beleuchtungsoptik 25 der Projektionsbelichtungsanlage 1. Die Übertragungsoptik 17 kann optional auch anamorphotisch ausgebildet sein. Bei einer Variante der Beleuchtungsoptik 25, die in der 1 nicht dargestellt ist, kann die Übertragungsoptik 17 auch zum Teil oder ganz entfallen, so dass zwischen dem Pupillenfacettenspiegel 10 und dem Objektfeld 20 kein weiterer EUV-Spiegel, genau ein weiterer EUV-Spiegel oder auch genau zwei weitere EUV-Spiegel angeordnet sein können. Der Pupillenfacettenspiegel 10 kann in einer Eintrittspupillenebene der Projektionsoptik 21 angeordnet sein.
Gemeinsam mit der Projektionsoptik 21 bildet die Beleuchtungsoptik 25 ein optisches System der Projektionsbelichtungsanlage 1.
Der Feldfacettenspiegel 6 stellt einen ersten Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik 25 dar. Die Feldfacetten 7 stellen erste Facetten der Beleuchtungsoptik 25 dar.
Der Pupillenfacettenspiegel 10 stellt einen zweiten Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik 25 dar. Die Pupillenfacetten 11 stellen zweite Facetten der Beleuchtungsoptik 25 dar.
4 zeigt eine weitere Ausführung eines Feldfacettenspiegels 6. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf den Feldfacettenspiegel 6 nach 2 erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nur erläutert, soweit sie sich von den Komponenten des Feldfacettenspiegels 6 nach 2 unterscheiden. Der Feldfacettenspiegel 6 nach 4 hat eine Feldfacettenanordnung mit gebogenen Feldfacetten 7. Diese Feldfacetten 7 sind in insgesamt fünf Spalten mit jeweils einer Mehrzahl von Feldfacettengruppen 8 angeordnet. Die Feldfacettenanordnung ist in eine kreisförmige Begrenzung einer Trägerplatte 26 des Feldfacettenspiegels 6 eingeschrieben.
Die Gesamtheit der Feldfacetten 7 ist auf der jeweiligen Trägerplatte 26 des Feldfacettenspiegels 6 innerhalb einer Fläche mit Dimensionen FFx, FFy untergebracht.
Die Feldfacetten 7 der Ausführung nach 4 haben alle die gleiche Fläche und das gleiche Verhältnis von Breite in x-Richtung und Höhe in y-Richtung, welches dem x/y-Aspektverhältnis der Feldfacetten 7 der Ausführung nach 2 entspricht.
5 zeigt eine weitere Ausführung eines Pupillenfacettenspiegels 10, der anstelle des Pupillenfacettenspiegels nach 3 bei der Projektionsbelichtungsanlage 1 zum Einsatz kommen kann. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 4 und insbesondere unter Bezugnahme auf die 3 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
In der 5 ist eine Verteilung zwischen Schalt-Pupillenfacetten 11_S und Fix-Pupillenfacetten 11_F hervorgehoben. Die Anzahl dieser Pupillenfacetten 11 kann sehr deutlich größer sein als in der in dieser Hinsicht schematischen Darstellung nach 5.
Die Verteilung der Schalt-Pupillenfacetten 11_S ist beim Pupillenfacettenspiegel 10 nach 5 so, dass in einem Zentralbereich 27 des Pupillenfacettenträgers 13 um dessen Zentrum Z alle Pupillenfacetten 11 als Schalt-Pupillenfacetten 11_S ausgeführt sind. An den Zentralbereich 27 schließt sich ein ringförmiger Übergangsbereich 28 radial an. In diesem Übergangsbereich 28 sind alle Pupillenfacetten 11 als Fix-Pupillenfacetten 11_F ausgeführt. Radial außerhalb des Übergangsbereichs 28 schließt sich ein Randbereich 29 auf dem Pupillenfacettenträger 13 an, in dem sowohl Schalt-Pupillenfacetten 11_S als auch Fix-Pupillenfacetten 11_F angeordnet sind. Diese Anordnung kann so sein, dass jeweils Gruppen von Schalt-Pupillenfacetten 11_S einerseits und von Fix-Pupillenfacetten 11_F gebildet sind. Derartige Gruppen können zwei Pupillenfacetten 11, drei Pupillenfacetten 11, vier Pupillenfacetten 11 oder auch, was nicht in der 5 dargestellt ist, eine größere Anzahl von Pupillenfacetten 11 beinhalten.
Je nach Ausführung des Pupillenfacettenspiegels 10 kann eine bereichsweise Unterteilung des Pupillenfacettenträgers 13 in Bereiche, in denen ausschließlich Schalt-Pupillenfacetten 11_S angeordnet sind, in Bereiche, in denen ausschließlich Fix-Pupillenfacetten 11_F angeordnet sind und in Bereiche, in denen sowohl Schalt-Pupillenfacetten 11_S als auch Fix-Pupillenfacetten 11_F angeordnet sind, variieren.
Auch beispielsweise eine zur Verteilung nach 5 komplementäre Verteilung ist möglich, bei der anstelle der Schalt-Pupillenfacetten 11_S Fix-Pupillenfacetten 11_F und anstelle der Fix-Pupillenfacetten 11_F Schalt-Pupillenfacetten 11_S vorliegen.
Allgemein kann die Dichte der Schalt-Pupillenfacetten 11_S und der Fix-Pupillenfacetten 11_F über den Pupillenfacettenspiegel 10 ungleichmäßig sein. Auf Grund des Platzbedarfs der Aktuatoren 12 kann eine gleichmäßige und/oder dichte Anordnung der Aktuatoren wünschenswert sein. Durch eine geeignete Übertragungsmechanik kann die Anordnung der Schalt-Pupillenfacetten 11_S von der Anordnung der Aktuatoren 12 entkoppelt werden.
6 und 7 zeigen ein Beispiel für eine Anordnung einer Übertragungsmechanik zwischen einem der Aktoren 12 zum Schalten einer jeweiligen Schalt-Pupillenfacette 11_S und der zugehörigen Schalt-Pupillenfacette 11_S .
6 zeigt die Übertragungsmechanik 30 dabei in einer Neutralstellung, bei der die Schalt-Pupillenfacette 11_S in einer neutralen Kippstellung (Kippstellung = 0°) vorliegt. 7 zeigt die Übertragungsmechanik 30 in einer Kippstellung, bei der eine Reflexionsfläche 31 der Schalt-Pupillenfacette 11_S , die senkrecht auf der Zeichenebene der 6 und 7 liegt, aus der Neutralstellung verkippt ist.
Die Übertragungsmechanik 30 umfasst vier gelenkig miteinander verbundene Hebel 32, 33, 34, 35, die nach Art eines Parallelogramm-Gestänges angeordnet sind. Eine Verkippung der direkt mit dem Aktor verbundenen Aktorstange 32 wird über die beiden parallel zueinander mit der Aktorstange 32 über erste Gelenke 36 verbundene Übertragungsstangen 33, 34 an die vierte Facettenstange 35 übertragen, die mit den Übertragungsstangen 33, 34 wiederum über Gelenke 36 verbunden ist. Die Gelenke 36 ermöglichen eine Verschwenkung der Stangen 32 bis 35 zueinander um einen Schwenkbarkeitsgrad jeweils mit einer Schwenkachse senkrecht zur Zeichenebene nach den 6 und 7.
Die Aktorstange 32 verläuft sowohl in der Neutralstellung nach 6 als auch in der Kippstellung nach 7 parallel zur Facettenstange 35.
8 bis 10 zeigen am Beispiel einer weiteren Ausführung eines Pupillenfacettenspiegels 10, der anstelle der Pupillenfacettenspiegel nach den 3 und 5 bei der Projektionsbelichtungsanlage 1 zum Einsatz kommen kann, die Wirkung der schaltbaren Schalt-Pupillenfacetten 11_S. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 7 und insbesondere unter Bezugnahme auf die 3 und 5 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
Der Pupillenfacettenspiegel 10 nach den 8 bis 10 hat eine zentrale Pupillenfacette 11, insgesamt acht diese zentrale Pupillenfacette in einem ersten Facettenring umgebende weitere, sektorstumpf-förmige Pupillenfacetten 11 und in einem äußeren Ring acht weitere teilringförmige Pupillenfacetten 11, die, beginnend mit der in der 8 links oben dargestellten äußeren Pupillenfacette 11 mit einem rechten oberen Index von 1 bis 8 in den 8 bis 10 durchnummeriert sind. Tatsächlich kann die Anzahl der Facettenringe sehr deutlich größer sein als in der diesbezüglich schematischen Darstellung nach den 8 bis 10 und kann im Bereich zwischen 5 und 100 liegen. Auch die Anzahl der einzelnen Pupillenfacetten 11 innerhalb eines derartigen Facettenrings kann sehr deutlich größer sein als in der diesbezüglich schematischen Darstellung nach den 8 bis 10. Die Anzahl der Pupillenfacetten 11 innerhalb eines derartigen Facettenrings kann beispielsweise zwischen 5 und 500 liegen.
8 zeigt schematisch ein erstes Quadrupol-Beleuchtungssetting auf dem Pupillenfacettenspiegel 10. Beim Quadrupol-Beleuchtungssetting nach 8 sind die äußeren Pupillenfacetten 11 mit den ungeraden Indizes, also die Pupillenfacetten 11¹ , 11³ , 11⁵ und 11⁷ jeweils mit einem Beleuchtungslicht-Teilbündel über zugeordnete Feldfacetten 7 ausgeleuchtet. Die Pupillenfacette 11¹ ist dabei mit einer ersten Feldfacette ausgeleuchtet, die nachfolgend als Feldfacette 7¹ bezeichnet ist und in der 8 der Pupillenfacette 11¹ zugeordnet ist. Die Pupillenfacette 11³ ist entsprechend über eine Feldfacette 7² mit einem weiteren Beleuchtungslicht-Teilbündel ausgeleuchtet.
9 zeigt wiederum auf dem Pupillenfacettenspiegel 10 der Ausführung nach 8 ein zweites Beleuchtungssetting, welches als Dipol-Beleuchtungssetting mit einer gegenüber einem y-Dipolsetting um +22,5° entgegen dem Uhrzeigersinn verkippten Dipolausrichtung ausgeführt ist. Es sind nun die Pupillenfacetten 11¹ , 11² , 11⁵ und 11⁶ über entsprechende Feldfacetten 7 mit Beleuchtungslicht-Teilbündeln ausgeleuchtet. Die Pupillenfacette 11¹ wird dabei wiederum mit der Feldfacette 7¹ ausgeleuchtet. Die Pupillenfacette 11² wird mit der nun in eine zweite Kippstellung verkippten Feldfacette 7² ausgeleuchtet.
10 zeigt ein drittes Beleuchtungssetting, welches mit dem Pupillenfacettenspiegel 10 erzeugt werden kann. Es handelt sich hierbei um ein Dipolsetting mit im Uhrzeigersinn im Vergleich zu einem y-Dipolsetting um +22,5° gedrehter Dipolausrichtung. Beleuchtet werden beim Beleuchtungssetting nach 10 die Pupillenfacetten 11² , 11³ , 11⁶ und 11⁷ . Die Pupillenfacette 11³ wird wie im Beleuchtungssetting nach 8 von der zugeordneten Feldfacette 7² ausgeleuchtet. Die Pupillenfacette 11² wird beim Beleuchtungssetting nach 10 von der Feldfacette 7¹ ausgeleuchtet, wird also von einer anderen Feldfacette ausgeleuchtet als beim Beleuchtungssetting nach 9. Damit der Ausleuchtungskanal, aufweisend die Facetten 7¹ und 11² beim Beleuchtungssetting nach 10 wiederum das Objektfeld 20 ausleuchtet, muss die Pupillenfacette 11² als Schalt-Pupillenfacette 11² _S ausgeführt sein.
Entsprechend kann eine spiegelsymmetrische Zuordnung auch der Pupillenfacetten 11⁵ bis 11⁷ über entsprechende Feldfacetten 7³ und 7⁴ erfolgen, wobei in diesem Fall dann auch die Pupillenfacette 11⁶ als Schalt-Pupillenfacette 11⁶ _S ausgeführt ist.
Der Pupillenfacettenträger 13 des Pupillenfacettenspiegels 10 weist eine Fläche mit Dimensionen PFx, PFy (vgl. 3, 5 und 8) auf.
Zur Herstellung eines nano- bzw. mikrostrukturierten Bauelements, beispielsweise eines Halbleiter-Speicherchips, wird zunächst das Retikel 19 und der Wafer 24 mit einer für das Beleuchtungslicht 3 lichtempfindlichen Beschichtung bereitgestellt.
Je nach einer Strukturanordnung auf dem Retikel 19 bzw. je nach gefordertem Auflösungsvermögen wird über eine entsprechende Auswahl der beleuchteten Pupillenfacetten 11 ein entsprechendes Beleuchtungssetting ausgewählt. Dies erfolgt durch entsprechende Verkippung einerseits der kippbaren Feldfacetten 7 und andererseits der Schalt-Pupillenfacetten 11_S . Diese Verkippung wird gesteuert über eine zentrale Steuereinrichtung 37, die in der 1 schematisch dargestellt ist.
Zur Vorgabe des Anteils A einer Anzahl der Schalt-Pupillenfacetten 11_S an einer Gesamtanzahl N_ges der Pupillenfacetten 11 des Pupillenfacettenspiegels 10 können verschiedene Randbedingungen herangezogen werden. Es kann ein gewünschter Pupillenfüllgrad p der Beleuchtungsoptik 25 vorgegeben werden. Der Pupillenfüllgrad p ist definiert als ein Anteil einer mit Beleuchtungslicht beaufschlagten Pupillenfläche der Beleuchtungsoptik 25 zur gesamten Pupillenfläche.
Für den Anteil A der schaltbaren Pupillenfacetten 11_S kann ein Wert gewählt werden, der folgender Relation genügt: $0,5 p PFx PFy/FFx FFy < A < 2p PFx PFy/FFx FFy$
Insbesondere kann der Anteil A der schaltbaren Pupillenfacetten 11_S auch folgender Relation genügen: $0,8 p PFx PFy/FFx FFy<A<1,2p PFx PFy/FFx FFy$
Alternativ oder zusätzlich kann der Anteil A der Schalt-Pupillenfacetten 11_S folgender Relation genügen: $0,5 p β x β {y NA}^{2} / α^{2} < A < 2 p β x β {y NA}^{2} / α^{2}$
Insbesondere kann der Anteil A der schaltbaren Pupillenfacetten 11_S auch folgender Relation genügen: $0,8 p β x β {y NA}^{2} / α^{2} < A < 1,2 p β x β {y NA}^{2} / α^{2}$
NA bezeichnet hier die numerische Apertur des Beleuchtungslichts 3 am Objektfeld 20. α ist eine numerische Apertur des Gesamtbündels des Beleuchtungslichts 3 an einem Zwischenfokus 5 eines Strahlengangs des Beleuchtungslichts 3 vor dem Feldfacettenspiegel 6.
Die Anzahl der schaltbaren Pupillenfacetten 11_S kann bis auf einen Faktor 2 gleich der Anzahl der Feldfacetten 7 sein, also
0,5 Anzahl der Feldfacetten 7 ≤ Anzahl der schaltbaren Pupillenfacetten 11_s ≤ 2 Anzahl der Feldfacetten 7
Nach Auswahl der Beleuchtungsoptik mit einem Pupillenfacettenspiegel mit entsprechendem Anteil A der schaltbaren Pupillenfacetten 11_S wird dann zunächst ein Abschnitt des Retikels 19 auf den Wafer 24 mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 projiziert. Anschließend wird die mit dem Beleuchtungslicht 3 belichtete lichtempfindliche Schicht auf dem Wafer 24 entwickelt.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

WO 2014/075917 A1 [0002]
WO 2009/024164 A1 [0007]
US 6859515 B2 [0018]
EP 1225481 A2 [0018]
US 2011/0001947 A1 [0023, 0024, 0036]
US 6658084 B2 [0026]
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DE 102008021833 A1 [0026]
US 9366968 [0041]
US 9983484 [0041]

Claims

Pupillenfacettenspiegel (10), anordenbar nahe oder in einer Pupillenebene einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage (1), - mit einer Mehrzahl von Pupillenfacetten (11), wobei jeweils eine der Pupillenfacetten (11) zur Führung eines Teilbündels von Beleuchtungslicht (3) der Projektionsbelichtungsanlage (1) hin zu einem Objektfeld (20) der Projektionsbelichtungsanlage (1) ausgeführt ist, - wobei -- einige der Pupillenfacetten (11) als Schalt-Pupillenfacetten (11_S) mit Hilfe zugeordneter Aktoren (12) zwischen mindestens zwei Kippstellungen schaltbar und -- einige der Pupillenfacetten (11) als Fix-Pupillenfacetten (11_F) fix, nicht zwischen Kippstellungen schaltbar, ausgeführt sind.
Pupillenfacettenspiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass im Bereich zwischen 5% und 95% aller Pupillenfacetten (11) des Pupillenfacettenspiegels (10) zwischen den mindestens zwei Kippstellungen schaltbar sind, wobei alle anderen Pupillenfacetten (11) nicht schaltbar ausgeführt sind.
Pupillenfacettenspiegel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Anteil der schaltbaren Pupillenfacetten (11_S) im Zentrum (27) des Pupillenfacettenspiegels (10) größer ist als in einem Randbereich (29) des Pupillenfacettenspiegels (10).
Pupillenfacettenspiegel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Anteil der schaltbaren Pupillenfacetten (11_S) im Zentrum (27) des Pupillenfacettenspiegels (10) kleiner ist als in einem Randbereich (29) des Pupillenfacettenspiegels (10).
Pupillenfacettenspiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass zur Kraftübertragung zwischen einem der Aktoren (12) zum Schalten der jeweiligen Schalt-Pupillenfacette (11_S) ein Parallelogramm-Gestänge (32 bis 35) zum Einsatz kommt.
Beleuchtungsoptik (25) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1) - mit einem Pupillenfacettenspiegel (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, - mit einem Feldfacettenspiegel (6) mit einer Mehrzahl von Feldfacetten (7), wobei jeweils eine der Feldfacetten (7) zur Führung eines der Teilbündel des Beleuchtungslichts (3) hin zu einer zugeordneten Pupillenfacette (11) des Pupillenfacettenspiegels (10) ausgeführt ist.
Beleuchtungsoptik nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass - eine Gesamtheit der Pupillenfacetten (11) des Pupillenfacettenspiegels (10) eine Fläche mit Dimensionen PFx, PFy aufweist, - eine Gesamtheit der Feldfacetten (7) des Feldfacettenspiegels (6) eine Fläche mit Dimensionen FFx, FFy aufweist, - wobei ein Anteil A von $0,5 p PFx PFy/FFx FFy<A<2p PFx PFy/FFx FFy$
aller Pupillenfacetten (11) als Schalt-Pupillenfacetten (11_S) ausgeführt ist, - wobei p einen Pupillenfüllgrad der Beleuchtungsoptik (25) darstellt.
Beleuchtungsoptik nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass ein Anteil A von $0,5 p β x β {y NA}^{2} / α^{2} < A < 2 p β x β {y NA}^{2} / α^{2}$
aller Pupillenfacetten (11) als Schalt-Pupillenfacetten (11_S) ausgeführt ist, wobei - p einen Pupillenfüllgrad der Beleuchtungsoptik (25), - NA eine numerische Apertur eines Gesamtbündels des Beleuchtungslichts (3) am Objektfeld (20) und - α eine numerische Apertur des Gesamtbündels des Beleuchtungslichts (3) an einem Zwischenfokus (5) eines Strahlengangs des Beleuchtungslichts (3) vor dem Feldfacettenspiegel (6) darstellt.
Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl der Schalt-Pupillenfacetten (11_S) und die Anzahl der Feldfacetten (7) die folgende Relation erfüllt: 0,5 Anzahl der Feldfacetten (7) ≤ Anzahl der schaltbaren Pupillenfacetten (11_s) ≤ 2 Anzahl der Feldfacetten (7)
Optisches System für die Projektionslithografie mit einer Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 6 bis 9 zur Beleuchtung eines Objektsfeldes (20), in dem ein zu beleuchtendes Objekt anordenbar ist, und mit einer Projektionsoptik (21) zur Abbildung eines Objektfeldes (20) in ein Bildfeld (22).
Beleuchtungssystem mit einer Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 6 bis 9 und mit einer EUV-Lichtquelle (2).
Projektionsbelichtungsanlage mit einem optischen System nach Anspruch 10 und einer EUV-Lichtquelle (2).
Herstellungsverfahren für ein strukturiertes Bauelement mit folgenden Schritten: - Bereitstellen einer Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 12, - Bereitstellen eines Retikels (19), - Projizieren einer im Objektfeld (2) angeordneten Oberfläche des Retikels (19) auf eine lichtempfindliche Schicht eines Wafers (24).
Bauelement, hergestellt mit einem Verfahren nach Anspruch 13.