JP2014170955A - 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光源からの光を照明瞳に分布させ、該照明瞳を通過した光で被照射面を照明する照明光学系。照明光学系の光路に配置されて、入射光の偏光状態を変換して、照明光学系の照明瞳に分布される光を所定の偏光状態にする偏光変換部材と、偏光変換部材と被照射面との間に配置されて、照明瞳に分布される光のうちの第1方向に偏光した直線偏光を楕円偏光の光に変化させる後続光学系と、照明光学系の光路に配置されて、第1方向と斜めに交差する第2方向に偏光した直線偏光の光の偏光状態を維持し、且つ楕円偏光に変化する偏光の楕円率を低減させるように、第1方向に偏光した直線偏光を楕円偏光に変換する位相変調部材と、を備える。
【選択図】 図1
Description
前記照明光学系の光路に配置されて、入射光の偏光状態を変換して、前記照明光学系の照明瞳に分布される光を所定の偏光状態にする偏光変換部材と、
前記偏光変換部材と前記被照射面との間に配置されて、前記照明瞳に分布される光のうちの第1方向に偏光した直線偏光を楕円偏光の光に変化させる後続光学系と、
前記照明光学系の光路に配置されて、前記第1方向と斜めに交差する第2方向に偏光した直線偏光の光の偏光状態を維持し、且つ前記楕円偏光に変化する偏光の楕円率を低減させるように、前記第1方向に偏光した直線偏光を楕円偏光に変換する位相変調部材と、
を備えることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
θ=d・ρ (a)
3 回折光学素子
4 アフォーカルレンズ
5A 偏光変換部材
5B 位相変調部材
6 円錐アキシコン系
7 ズームレンズ
8 マイクロフライアイレンズ(オプティカルインテグレータ)
10 コンデンサー光学系
11 マスクブラインド
12 結像光学系
LS 光源
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
Claims (17)
- 光源からの光を照明瞳に分布させ、該照明瞳を通過した光で被照射面を照明する照明光学系であって、
前記照明光学系の光路に配置されて、入射光の偏光状態を変換して、前記照明光学系の照明瞳に分布される光を所定の偏光状態にする偏光変換部材と、
前記偏光変換部材と前記被照射面との間に配置されて、前記照明瞳に分布される光のうちの第1方向に偏光した直線偏光を楕円偏光の光に変化させる後続光学系と、
前記照明光学系の光路に配置されて、前記第1方向と斜めに交差する第2方向に偏光した直線偏光の光の偏光状態を維持し、且つ前記楕円偏光に変化する偏光の楕円率を低減させるように、前記第1方向に偏光した直線偏光を楕円偏光に変換する位相変調部材と、
を備えることを特徴とする照明光学系。 - 請求項1に記載の照明光学系において、
前記位相変調部材は、前記偏光変換部材よりも前記被照射面側の光路中に配置されることを特徴とする照明光学系。 - 請求項1または2に記載の照明光学系において、
前記位相変調部材は、前記第2方向または該第2方向と直交する方向に光学軸が設定された波長板を有することを特徴とする照明光学系。 - 請求項3に記載の照明光学系において、
前記後続光学系は、平面状の反射面を有し、
前記第2方向は、前記反射面に対するp偏光の偏光方向またはs偏光の偏光方向に対応していることを特徴とする照明光学系。 - 請求項3に記載の照明光学系において、
前記後続光学系は、複数の平面状の反射面を有し、
前記第2方向は、前記反射面に対するp偏光の偏光方向またはs偏光の偏光方向に対応していることを特徴とする照明光学系。 - 請求項3乃至5の何れか一項に記載の照明光学系において、
前記波長板は、照明光路の断面の全体に亘って延在し、且つ均一な厚さを有することを特徴とする照明光学系。 - 請求項1乃至6の何れか一項に記載の照明光学系において、
前記位相変調部材は、前記照明瞳またはその近傍に配置されていることを特徴とする照明光学系。 - 請求項1乃至7の何れか一項に記載の照明光学系において、
前記位相変調部材は、前記偏光変換部材と一体的に保持されていることを特徴とする照明光学系。 - 請求項1乃至8の何れか一項に記載の照明光学系において、
前記位相変調部材は、照明光路に対して挿脱可能であることを特徴とする照明光学系。 - 請求項1乃至9の何れか一項に記載の照明光学系において、
前記位相変調部材は、前記照明瞳よりも前記被照射面側に配置されていることを特徴とする照明光学系。 - 請求項1乃至10の何れか一項に記載の照明光学系において、
当該照明光学系は、前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、
前記照明瞳は、前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置にあることを特徴とする照明光学系。 - 請求項1乃至11の何れか一項に記載の照明光学系において、
前記後続光学系は、平面状の反射面を有し、
前記位相変調部材は、前記後続光学系中の前記平面状の反射面に対するp偏光の偏光方向およびs偏光の偏光方向と斜めに交差する第3方向に偏光した直線偏光の光を所要の楕円偏光の光に変換することを特徴とする照明光学系。 - 請求項12に記載の照明光学系において、
前記位相変調部材は、前記p偏光の偏光方向またはs偏光の偏光方向に光学軸が設定された波長板を有することを特徴とする照明光学系。 - 所定のパターンを照明するための請求項1乃至13のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項14に記載の露光装置において、
前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする露光装置。 - 請求項15に記載の露光装置において、
前記位相変調部材は、前記投影光学系によるリターデーションの影響を低減することを特徴とする露光装置。 - 請求項14乃至16のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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