JP5846471B2 - 偏光影響光学装置及びマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 - Google Patents
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Description
101 光源ユニット
110 照明系
125 マスク
130 投影対物系
140 基板
Claims (14)
- 第1のλ/2板(210,230)と第2のλ/2板(220,240)とを含む少なくとも1つの対、
を含み、
前記第1のλ/2板(210,230)と前記第2のλ/2板(220,240)は、互いに部分的に重なり、重ね合わせ領域(A,C)及び少なくとも1つの非重ね合わせ領域(B−1,B−2;D−1,D−2)を形成し、
前記第1のλ/2板(210,230)は、第1の複屈折速軸(fa−1)を有し、前記第2のλ/2板(220,240)は、第2の複屈折速軸(fa−2)を有し、該第1の速軸(fa−1)と該第2の速軸(fa−2)は、互いに対して45°±5°の角度で配置される、
ことを特徴とする偏光影響光学装置(200)。 - 前記重ね合わせ領域(A,C)は、前記第1のλ/2板(210,230)のみが存在する第1の非重ね合わせ領域(B−1;D−1)と前記第2のλ/2板(220,240)のみが存在する第2の非重ね合わせ領域(B−2;D−2)との間に配置されることを特徴とする請求項1に記載の偏光影響光学装置。
- 前記重ね合わせ領域(A,C)及び前記少なくとも1つの非重ね合わせ領域(B−1,B−2;D−1,D−2)の各々は、円セグメントの形状の幾何学形状のものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の偏光影響光学装置。
- 前記重ね合わせ領域(A,C)を形成する前記円セグメントは、前記少なくとも1つの非重ね合わせ領域(B−1,B−2;D−1,D−2)を形成する前記円セグメントとは異なる開き角を有することを特徴とする請求項3に記載の偏光影響光学装置。
- 前記重ね合わせ領域(A,C)において装置(200)上に入射する第1の直線偏光光ビームの振動面が、第1の回転角だけ回転され、前記少なくとも1つの非重ね合わせ領域(B−1,B−2;D−1,D−2)において装置上に入射する第2の直線偏光光ビームの振動面が、第2の回転角だけ回転され、該第1の回転角は、該第2の回転角とは異なることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置。
- 前記第1のλ/2板(210,230)のみを通過する第2の直線偏光光ビームの前記振動面及び前記第2のλ/2板(220,240)のみを通過する第3の直線偏光光ビームの前記振動面は、それぞれ、第2及び第3の回転角だけ回転され、該第2の回転角は、該第3の回転角とは異なることを特徴とする請求項5に記載の偏光影響光学装置。
- 前記第2の回転角と前記第3の回転角は、マグニチュードが同じであり、かつ反対の符号のものであることを特徴とする請求項6に記載の偏光影響光学装置。
- 前記第1のλ/2板(210,230)と前記第2のλ/2板(220,240)は、前記互いの重ね合わせ領域(A,C)内で90°回転子を形成することを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置。
- 各対が、それぞれの第1のλ/2板(210,230)とそれぞれの第2のλ/2板(220,240)を含む2つの対を備え、該第1の対と該第2の対は、装置(200)の対称軸の互いに反対の側に配置されることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置(200)、
を含み、
前記偏光影響光学装置(200)は、重ね合わせ領域(A,C)及び同じく少なくとも1つの非重ね合わせ領域(B−1,B−2;D−1,D−2)の両方が少なくとも部分的に光学系の光学有効領域内に配置されるように光学系に配置される、
ことを特徴とする光学系。 - 前記偏光影響光学装置(200)は、光学系の作動時に、該装置上に入射する光ビームの光ビーム断面にわたって一定である好ましい偏光方向を有する直線偏光分布(410)を近似的なタンジェンシャル偏光分布(420)に変換することを特徴とする請求項10に記載の光学系。
- 前記第1のλ/2板(210,230)は、前記装置(200)上に入射する光ビームの前記好ましい偏光方向に対して22.5°±2°の角度で延びる第1の複屈折速軸(fa−1)を有し、前記第2のλ/2板(220,240)は、該装置(200)上に入射する光ビームの該好ましい偏光方向に対して−22.5°±2°の角度で延びる第2の複屈折速軸(fa−2)を有することを特徴とする請求項10又は請求項11に記載の光学系。
- 照明系と投影対物系とを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
請求項1から9のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置(200)又は請求項10から請求項12のいずれか1項に記載の光学系を有する、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 微細構造構成要素をマイクロリソグラフィ製造する方法であって、
感光材料の層が少なくとも部分的に適用された基板(140)を準備する段階と、
結像される構造を有するマスク(125)を準備する段階と、
請求項13に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置(100)を準備する段階と、
前記マスク(125)の少なくとも一部を前記投影露光装置(100)を用いて前記層のある一定の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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