JP2011517786A5

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Publication number: JP2011517786A5
Application number: JP2011500061A
Authority: JP
Filing date: 2009-02-28
Publication date: 2012-04-12
Anticipated expiration: 2029-02-28

Claims

物体平面（５）の物体視野（４）を像平面（９）の像視野（８）内に結像するためのマイクロリソグラフィのための投影対物系（７；１４；１５）であって、
少なくとも１つのミラーが反射自由曲面を有する少なくとも６つのミラー（Ｍ１からＭ６）、
を含み、
投影対物系（７；１４；１５）の全長（Ｔ）と物体像シフト（ｄ_OIS）との間の比が、１２よりも小さい、
ことを特徴とする投影対物系。
前記像平面（９）が、前記物体平面（５）の下流の投影対物系（７；１４；１５）の最初の視野平面である、
ことを特徴とする請求項１に記載の投影対物系。
全長（Ｔ）と物体像シフト（ｄ_OIS）との間の５よりも小さい比を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影対物系。
前記反射自由曲面は、双円錐面であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の投影対物系。
複数のミラー（Ｍ１からＭ６）、
を含み、物体平面（５）の物体視野（４）を像平面（９）の像視野（８）内に結像するためのマイクロリソグラフィのための投影対物系（７；１４；１５）であって、
全長（Ｔ）と物体像シフト（ｄ_OIS）との間の２よりも小さい比、
を特徴とする投影対物系。
少なくとも６つのミラー（Ｍ１からＭ６）を特徴とする請求項５に記載の投影対物系。
前記ミラー（Ｍ１からＭ６）の少なくとも１つが、反射自由曲面を有することを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の投影対物系。
前記反射自由曲面は、双円錐面であることを特徴とする請求項７に記載の投影対物系。
前記像平面（９）は、前記物体平面（５）の下流の投影対物系（７；１４；１５）の最初の視野平面であることを特徴とする請求項５から請求項８のいずれか１項に記載の投影対物系。
物体平面（５）の物体視野（４）を像平面（９）の像視野（８）内に結像するためのマイクロリソグラフィのための投影対物系（１６）であって、
少なくとも１つのミラーが反射自由曲面を有する複数のミラー（Ｍ１からＭ６）と、
物体平面（５）と像平面（９）の間の少なくとも１つの中間像平面（１７）と、
を含み、
投影対物系（１６）の全長（Ｔ）と物体像シフト（ｄ_OIS）との間の比が、１２よりも小さい、
ことを特徴とする投影対物系。
全長（Ｔ）と物体像シフト（ｄ_OIS）との間の５よりも小さい比を特徴とする請求項１０に記載の投影対物系。
前記反射自由曲面は、該曲面の方程式：

を用いて説明可能であり、ここで、

Ｚ：点ｘ、ｙ（ｘ²＋ｙ²＝ｒ²）での前記自由曲面のサジタル高さ、
ｃ：対応する非球面の頂点曲率を表す定数、
ｋ：対応する非球面の円錐定数、
Ｃ_j：単項式Ｘ^mＹⁿの係数、
である、
ことを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の投影対物系。
中心物体視野点の主光線（１８）と、
前記中心物体視野点を通過する前記物体平面（５）に対する法線（１９）と、
の間の距離が、前記物体視野（５）で始まって前記像視野（９）へと伝播する前記主光線（１８）の経路に沿って単調に増大する、
ことを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の投影対物系。
２００ｍｍよりも大きい物体像シフト（ｄ_OIS）を特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の投影対物系。
一方で前記ミラー（Ｍ１からＭ６）の１つの上に入射する結像ビーム（１３）の最大（α_max）及び最小（α_min）入射角間の差と、他方で投影対物系の像側の開口数との比が、最大で６０°になることを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の投影対物系。
少なくとも０．２５の像側の開口数を特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の投影対物系。
前記物体視野（４）及び／又は前記像視野（８）の少なくとも２ｍｍ×２６ｍｍの視野サイズを特徴とする請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の投影対物系。
前記物体視野（４）上の中心物体視野点に割り当てられた結像ビーム（１３）の５°と９°の間の範囲の入射角（β）を特徴とする請求項１から請求項１７のいずれか１項に記載の投影対物系。
光源（２）によって放出された照明光（３）を誘導し、かつ物体視野（４）を照明するためのマイクロリソグラフィのための照明光学系（６）と、
前記物体視野（４）を像視野（８）内に結像するための投影光学系（１６）と、
を含み、
前記照明光学系（６）が、前記照明光（３）が前記光源（２）と前記物体視野（４）の間に中間焦点（２３）を有するような方法で設計される、
光学系であって、
投影光学系（１６）の全長（Ｔ）と中間焦点像シフト（Ｄ）の間の３よりも小さい比、を特徴とする光学系。
前記投影光学系は、請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載の投影対物系であることを特徴とする請求項１９に記載の光学系。
前記中間焦点（２３）は、前記照明光学系（６）の構成要素（２２）の貫通開口部（２４）の近くに配置されることを特徴とする請求項１９から請求項２０のいずれか１項に記載の光学系。
前記照明光学系（６）は、前記照明光（３）を誘導するための集光器（２０）及び最大で３つのミラー（２１、２２）を含むことを特徴とする請求項１９から請求項２１のいずれか１項に記載の光学系。
請求項１９から請求項２２のいずれか１項に記載の光学系、
を含むことを特徴とする投影露光装置（１）。
微細構造化構成要素を製造する方法であって、
レチクル（１０）及びウェーハ（１１）を準備する段階と、
請求項２３に記載の投影露光装置を用いて前記レチクル（１０）上の構造を前記ウェーハ（１１）の感光層上に投影する段階と、
前記ウェーハ（１１）上に微細構造を作成する段階と、
を用いることを特徴とする方法。