JP2009508150A5 - - Google Patents

Claims (16)

1. 動作中に波長λの放射光を物体平面から像平面に結像するように配列されており、その少なくとも１つは前記放射光の経路内に位置する回転非対称面を有する反射素子である、複数の素子を備え、前記回転非対称面は、該回転非対称面の１又はそれ以上の位置において回転対称基準面から約λ又はそれ以上の距離だけずれるマイクロリソグラフィ投影光学系を含むシステム。
2. 前記回転非対称面は、式
   

   

   に対応する面から約０．１λ又はそれ以下の距離だけずれ、
   ただし、式中、
   

   

   であり、
   ｚは、軸に平行な、前記面のサグであり、ｃは、頂点曲率であり、ｋは、円錐定数であり、Ｃ_jは、単項式ｘ^mｙⁿの係数であり、αは、整数である請求項１に記載のシステム。
3. 前記回転非対称面は、前記回転対称基準面から前記１つ又は複数の位置で約２０ｎｍ又はそれ以上の距離だけずれる請求項１に記載のシステム。
4. 前記複数の素子は正の主光線角度倍率を有する２つ以下の反射素子を含む請求項１に記載のシステム。
5. 前記マイクロリソグラフィ投影光学系は約０．２又はそれ以上の像側開口数を有する請求項１に記載のシステム。
6. 前記光学系は、像平面において矩形の視野を有し、直交する方向のそれぞれにおいて、前記矩形の視野は、互いに直交する両方向で約１ｍｍ又はそれ以上の最小寸法を有する請求項１に記載のシステム。
7. 前記像視野の静的歪曲は約１０ｎｍ又はそれ以下である請求項１に記載のシステム。
8. 前記像視野の波面誤差は約λ／１４又はそれ以下である請求項１に記載のシステム。
9. 前記主光線は、前記物体平面において互いから発散する請求項１に記載のシステム。
10. 前記マイクロリソグラフィ投影光学系の子午断面に対し、前記主光線は、２０°未満の、前記複数の素子のそれぞれの表面上の最大入射角を有する請求項９に記載のシステム。
11. 前記複数の素子は、前記像平面においてテレセントリックである請求項１に記載のシステム。
12. 前記光学系を通る放射光の経路は主光線により特徴付けられ、前記光学系の子午断面について、中心視野点の前記主光線は、θ度の、前記複数の素子のそれぞれの表面上の最大入射角を有し、前記マイクロリソグラフィ投影光学系は０．３よりも大きい像側開口数ＮＡを有し、比θ／ＮＡは６８未満である請求項１に記載のシステム。
13. マイクロリソグラフィ投影光学系は、約７５ｍｍ又はそれ以下の物体−像シフトを有する請求項１に記載のシステム。
14. 前記複数の素子は、約２５ｍｍ又はそれ以下のフリーボードを有する４つ又はそれ以上の素子を備える請求項１に記載のシステム。
15. 動作中にλの放射光を物体平面に与えるように構成された放射光源をさらに備える請求項１に記載のシステム。
16. 動作中に前記放射光源から放射光を前記物体平面に位置する物体に向けるように配列された１つ又は複数の素子を備える照明系をさらに備え、前記照明系は、前記マイクロリソグラフィ投影光学系の入射瞳に対応する場所に位置する素子を備える請求項１５に記載のシステム。