TWI366004B - Microlithography projection optical system, microlithographic tool comprising such an optical system, method for microlithographic production of microstructured components using such a microlithographic tool, microstructured component being produced by s - Google Patents
Microlithography projection optical system, microlithographic tool comprising such an optical system, method for microlithographic production of microstructured components using such a microlithographic tool, microstructured component being produced by sInfo
- Publication number
- TWI366004B TWI366004B TW095133636A TW95133636A TWI366004B TW I366004 B TWI366004 B TW I366004B TW 095133636 A TW095133636 A TW 095133636A TW 95133636 A TW95133636 A TW 95133636A TW I366004 B TWI366004 B TW I366004B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- microlithographic
- optical system
- tool
- microstructured
- produced
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
- G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
- G02B17/0647—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors
- G02B17/0663—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which not all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry, e.g. at least one of the mirrors is warped, tilted or decentered with respect to the other elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70308—Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/001—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras
- G02B13/0055—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras employing a special optical element
- G02B13/0065—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras employing a special optical element having a beam-folding prism or mirror
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/16—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use in conjunction with image converters or intensifiers, or for use with projectors, e.g. objectives for projection TV
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
- G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
- G02B17/0605—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors
- G02B17/0621—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors off-axis or unobscured systems in which not all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry, e.g. at least one of the mirrors is warped, tilted or decentered with respect to the other elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0804—Catadioptric systems using two curved mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/02—Objectives
- G02B21/04—Objectives involving mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Lenses (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US71643705P | 2005-09-13 | 2005-09-13 | |
US79338706P | 2006-04-07 | 2006-04-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200717025A TW200717025A (en) | 2007-05-01 |
TWI366004B true TWI366004B (en) | 2012-06-11 |
Family
ID=37478693
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW098136869A TWI451125B (zh) | 2005-09-13 | 2006-09-12 | 顯微蝕刻投影光學系統、包含此一光學系統之顯微蝕刻工具、使用此一顯微蝕刻工具於顯微蝕刻生產微結構元件之方法、藉此一方法所生產之微結構元件以及於此一光學系統中設計一光學表面的方法 |
TW095133636A TWI366004B (en) | 2005-09-13 | 2006-09-12 | Microlithography projection optical system, microlithographic tool comprising such an optical system, method for microlithographic production of microstructured components using such a microlithographic tool, microstructured component being produced by s |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW098136869A TWI451125B (zh) | 2005-09-13 | 2006-09-12 | 顯微蝕刻投影光學系統、包含此一光學系統之顯微蝕刻工具、使用此一顯微蝕刻工具於顯微蝕刻生產微結構元件之方法、藉此一方法所生產之微結構元件以及於此一光學系統中設計一光學表面的方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US7414781B2 (zh) |
EP (1) | EP1924888B1 (zh) |
JP (4) | JP2009508150A (zh) |
KR (3) | KR100962911B1 (zh) |
CN (1) | CN103076723A (zh) |
TW (2) | TWI451125B (zh) |
WO (1) | WO2007031271A1 (zh) |
Families Citing this family (123)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1924888B1 (en) * | 2005-09-13 | 2013-07-24 | Carl Zeiss SMT GmbH | Microlithography projection optical system, method for manufacturing a device and method to design an optical surface |
DE102006014380A1 (de) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage mit negativer Schnittweite der Eintrittspupille |
CN101416117B (zh) | 2006-04-07 | 2014-11-05 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 微光刻投影光学系统、工具及其制造方法 |
DE102006035022A1 (de) * | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zum Herstellen einer optischen Komponente, Interferometeranordnung und Beugungsgitter |
JP2008048293A (ja) * | 2006-08-18 | 2008-02-28 | Kyocera Corp | 撮像装置、およびその製造方法 |
EP1930771A1 (en) | 2006-12-04 | 2008-06-11 | Carl Zeiss SMT AG | Projection objectives having mirror elements with reflective coatings |
JP5188397B2 (ja) * | 2006-12-27 | 2013-04-24 | 京セラ株式会社 | 撮像装置および情報コード読取装置 |
EP1950594A1 (de) * | 2007-01-17 | 2008-07-30 | Carl Zeiss SMT AG | Abbildende Optik, Projektionsbelichtunsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, durch das Herstellungsverfahren gefertigtes mikrostrukturiertes Bauelement sowie Verwendung einer derartigen abbildenden Optik |
US8567678B2 (en) * | 2007-01-30 | 2013-10-29 | Kyocera Corporation | Imaging device, method of production of imaging device, and information code-reading device |
US7692867B2 (en) * | 2007-03-23 | 2010-04-06 | General Electric Company | Enhanced parfocality |
WO2009006919A1 (en) * | 2007-07-09 | 2009-01-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of measuring a deviation an optical surface from a target shape |
DE102008002377A1 (de) | 2007-07-17 | 2009-01-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einem derartigen Beleuchtungssystem |
DE102007033967A1 (de) * | 2007-07-19 | 2009-01-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv |
US8027022B2 (en) | 2007-07-24 | 2011-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection objective |
EP2191332B1 (en) | 2007-08-20 | 2013-05-29 | Carl Zeiss SMT GmbH | Projection objective having mirror elements with reflective coatings |
DE102007045396A1 (de) * | 2007-09-21 | 2009-04-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Bündelführender optischer Kollektor zur Erfassung der Emission einer Strahlungsquelle |
DE102007051671A1 (de) * | 2007-10-26 | 2009-05-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik |
JP2010257998A (ja) * | 2007-11-26 | 2010-11-11 | Nikon Corp | 反射投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
DE102007062198A1 (de) | 2007-12-21 | 2009-06-25 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | Katoptrisches Objektiv zur Abbildung eines im Wesentlichen linienförmigen Objektes |
DE102008000800A1 (de) | 2008-03-20 | 2009-09-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie |
EP2541324B1 (en) | 2008-03-20 | 2016-04-13 | Carl Zeiss SMT GmbH | Optical system |
DE102008033342A1 (de) | 2008-07-16 | 2010-01-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie |
DE102008015996A1 (de) | 2008-03-27 | 2009-10-01 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Mikroskop und Mikroskopierverfahren zur Untersuchung eines reflektierenden Objektes |
DE102008001694A1 (de) | 2008-05-09 | 2009-11-12 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsoptik für die Mikrolithografie |
JP4658162B2 (ja) * | 2008-06-27 | 2011-03-23 | 京セラ株式会社 | 撮像装置および電子機器 |
US8363129B2 (en) * | 2008-06-27 | 2013-01-29 | Kyocera Corporation | Imaging device with aberration control and method therefor |
DE102008033340B3 (de) * | 2008-07-16 | 2010-04-08 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik |
US8502877B2 (en) | 2008-08-28 | 2013-08-06 | Kyocera Corporation | Image pickup apparatus electronic device and image aberration control method |
DE102008046699B4 (de) | 2008-09-10 | 2014-03-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik |
WO2010032753A1 (ja) | 2008-09-18 | 2010-03-25 | 株式会社ニコン | 開口絞り、光学系、露光装置及び電子デバイスの製造方法 |
JP4743553B2 (ja) * | 2008-09-29 | 2011-08-10 | 京セラ株式会社 | レンズユニット、撮像装置、および電子機器 |
DE102008042438B4 (de) | 2008-09-29 | 2010-11-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens zwei Arbeitszuständen |
KR20100044625A (ko) * | 2008-10-22 | 2010-04-30 | 삼성전자주식회사 | 주기적으로 활성화되는 복제 경로를 구비하는 지연 동기 루프를 구비하는 반도체 장치 |
DE202008016307U1 (de) | 2008-12-09 | 2009-04-02 | Carl Zeiss Smt Ag | Retikel mit einer abzubildenden Struktur, Projektionsoptik zur Abbildung der Struktur sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Projektionsoptik |
DE102009008644A1 (de) | 2009-02-12 | 2010-11-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einer derartigen abbildenden Optik |
KR101478400B1 (ko) | 2009-03-06 | 2015-01-06 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 조명 광학 시스템 및 마이크로리소그래피용 광학 시스템 |
US8269981B1 (en) | 2009-03-30 | 2012-09-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method and an apparatus for measuring a deviation of an optical test surface from a target shape |
WO2010115500A1 (en) | 2009-03-30 | 2010-10-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Imaging optics and projection exposure installation for microlithography with an imaging optics of this type |
DE102009034028A1 (de) | 2009-03-30 | 2010-10-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102009030501A1 (de) * | 2009-06-24 | 2011-01-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes |
CN102686972B (zh) | 2009-09-18 | 2015-04-08 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 测量光学表面形状的方法以及干涉测量装置 |
DE102009045163B4 (de) | 2009-09-30 | 2017-04-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
US8743342B2 (en) * | 2009-11-17 | 2014-06-03 | Nikon Corporation | Reflective imaging optical system, exposure apparatus, and method for producing device |
JPWO2011065374A1 (ja) * | 2009-11-24 | 2013-04-18 | 株式会社ニコン | 結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
DE102009047179B8 (de) | 2009-11-26 | 2016-08-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsobjektiv |
CN102870030B (zh) | 2010-04-22 | 2015-04-08 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备 |
US8317344B2 (en) | 2010-06-08 | 2012-11-27 | Nikon Corporation | High NA annular field catoptric projection optics using Zernike polynomial mirror surfaces |
EP2598931B1 (en) | 2010-07-30 | 2020-12-02 | Carl Zeiss SMT GmbH | Imaging optical system and projection exposure installation for microlithography with an imaging optical system of this type |
DE102010039745A1 (de) | 2010-08-25 | 2012-03-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik |
DE102010040811A1 (de) | 2010-09-15 | 2012-03-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik |
JP5686901B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2015-03-18 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 投影露光システム及び投影露光方法 |
DE102011080437A1 (de) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildendes optisches System für die Mikrolithographie |
DE102010062597A1 (de) * | 2010-12-08 | 2012-06-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Reflektives optisches Abbildungssystem |
DE102011076752A1 (de) | 2011-05-31 | 2012-12-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik |
DE102011078928A1 (de) | 2011-07-11 | 2013-01-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie |
CN102402135B (zh) * | 2011-12-07 | 2013-06-05 | 北京理工大学 | 一种极紫外光刻投影物镜设计方法 |
DE102011088980A1 (de) | 2011-12-19 | 2012-10-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektlithografie mit einer derartigen abbildenden Optik |
KR102330570B1 (ko) | 2012-02-06 | 2021-11-25 | 가부시키가이샤 니콘 | 반사 결상 광학계, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 |
DE102012202675A1 (de) | 2012-02-22 | 2013-01-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithografie mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102012208793A1 (de) | 2012-05-25 | 2013-11-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102012212753A1 (de) | 2012-07-20 | 2014-01-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsoptik |
WO2014019617A1 (en) | 2012-08-01 | 2014-02-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical unit for a projection exposure apparatus |
DE102012218558A1 (de) | 2012-10-11 | 2013-08-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102013204441A1 (de) | 2013-03-14 | 2014-04-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Kollektor |
JP5746259B2 (ja) * | 2013-05-07 | 2015-07-08 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 反射コーティングを備えたミラー要素を有する投影対物系 |
US9291751B2 (en) | 2013-06-17 | 2016-03-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical unit and projection exposure apparatus for projection lithography comprising such an imaging optical unit |
DE102013213545A1 (de) | 2013-07-10 | 2015-01-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie |
DE102014208770A1 (de) | 2013-07-29 | 2015-01-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Projektionsoptik |
DE102014203187A1 (de) | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie |
US10558126B2 (en) * | 2014-02-24 | 2020-02-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
WO2016012425A2 (de) | 2014-07-22 | 2016-01-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende optik für ein metrologiesystem zur untersuchung einer lithographiemaske |
DE102014218474A1 (de) | 2014-09-15 | 2016-03-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren für die EUV-Mikrolithographie |
WO2016078819A1 (en) | 2014-11-18 | 2016-05-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Illumination optical unit for euv projection lithography |
DE102014223452A1 (de) | 2014-11-18 | 2016-05-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Teilsystem für die Projektionslithographie sowie Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie |
DE102014223811B4 (de) | 2014-11-21 | 2016-09-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik für die EUV-Projektionslithographie, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines strukturierten Bauteils |
DE102015201138A1 (de) | 2015-01-23 | 2016-01-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie |
DE102015226531A1 (de) | 2015-04-14 | 2016-10-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102015209827B4 (de) | 2015-05-28 | 2019-06-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld, optisches System sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
KR20180014740A (ko) | 2015-05-28 | 2018-02-09 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 대물 필드를 이미지 필드 내로 이미징하기 위한 이미징 광학 유닛, 및 이러한 이미징 광학 유닛을 포함하는 투영 노광 장치 |
DE102015221985A1 (de) | 2015-11-09 | 2017-05-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102015212619A1 (de) | 2015-07-06 | 2017-01-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102015221984A1 (de) | 2015-11-09 | 2017-05-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102015221983A1 (de) | 2015-11-09 | 2017-05-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102015224597A1 (de) | 2015-12-08 | 2016-10-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacettenspiegel für die EUV-Projektionslithographie |
DE102015226529A1 (de) | 2015-12-22 | 2017-06-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
CN108474651B (zh) | 2015-12-22 | 2020-09-15 | Asml荷兰有限公司 | 形貌测量系统 |
DE102016205617A1 (de) | 2016-04-05 | 2017-10-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage |
DE102016212578A1 (de) | 2016-07-11 | 2018-01-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsoptik für die EUV-Projektionslithographie |
JP6559105B2 (ja) * | 2016-08-31 | 2019-08-14 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイ装置 |
JP6573586B2 (ja) * | 2016-08-31 | 2019-09-11 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイ装置 |
DE102016218996A1 (de) | 2016-09-30 | 2017-09-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik für die Projektionslithographie |
DE102017201520B4 (de) | 2017-01-31 | 2018-10-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsoptik, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung von mikro- oder nanostrukturierten Bauelementen |
DE102017205130A1 (de) | 2017-03-27 | 2017-07-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102017207542A1 (de) | 2017-05-04 | 2017-06-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102017210269A1 (de) | 2017-06-20 | 2017-08-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102017210990A1 (de) | 2017-06-28 | 2017-08-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld mit EUV-Abbildungslicht |
TWI812626B (zh) | 2017-07-26 | 2023-08-21 | 德商卡爾蔡司Smt有限公司 | 投射微影中用於成像光之光束導引的光學元件 |
DE102018200152A1 (de) | 2018-01-08 | 2019-07-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102017212869A1 (de) | 2017-07-26 | 2019-01-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102017216458A1 (de) | 2017-09-18 | 2019-03-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Spiegels als optischer Komponente für ein optisches System einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie |
DE102017216893A1 (de) | 2017-09-25 | 2019-03-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld |
DE102018200956A1 (de) | 2018-01-22 | 2018-12-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102018200955A1 (de) | 2018-01-22 | 2019-01-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel-Baugruppe zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102018200954A1 (de) | 2018-01-22 | 2019-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102018201170A1 (de) | 2018-01-25 | 2019-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik für die EUV-Mikrolithographie |
DE102018203283A1 (de) | 2018-03-06 | 2018-05-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie |
DE102018207277A1 (de) | 2018-05-09 | 2019-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Lithografiemaske, optisches System zur Übertragung von Original Strukturabschnitten der Lithografiemaske sowie Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes, in dem mindestens ein Original-Strukturabschnitt einer Lithografiemaske anordenbar ist |
DE102018208373A1 (de) | 2018-05-28 | 2019-06-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102018214437A1 (de) | 2018-08-27 | 2018-10-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102018216832A1 (de) | 2018-10-01 | 2018-11-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Bereitstellung einer Optik-Baugruppe |
DE102018217707A1 (de) | 2018-10-16 | 2018-12-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacettenspiegel zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektonslithographie |
DE102019202759A1 (de) | 2019-02-28 | 2019-04-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projek-tionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102019203423A1 (de) | 2019-03-13 | 2020-01-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik |
DE102019205271A1 (de) | 2019-04-11 | 2020-10-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
TWI704342B (zh) * | 2019-11-28 | 2020-09-11 | 雷科股份有限公司 | Aoi(自動光學檢測)應用在雷射蝕薄銅線圈的方法及其設備 |
DE102019219209A1 (de) | 2019-12-10 | 2020-01-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Oberflächenprofil-Messeinrichtung zur Vermessung der Spiegel einer abbildenden Optik |
EP4001987A1 (en) | 2020-11-18 | 2022-05-25 | Coretronic Corporation | Imaging system and projection device |
DE102021205775A1 (de) | 2021-06-08 | 2022-12-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik |
DE102021205774A1 (de) | 2021-06-08 | 2022-12-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik |
DE102021211181A1 (de) | 2021-10-05 | 2022-08-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | EUV-Projektionsoptik |
DE102022206110A1 (de) | 2022-06-20 | 2023-12-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld |
DE102022206112A1 (de) | 2022-06-20 | 2023-12-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld |
DE102022212382A1 (de) | 2022-11-21 | 2023-02-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Design einer Projektionsoptik sowie Projektionsoptik |
Family Cites Families (106)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3343868A1 (de) | 1983-12-03 | 1985-06-13 | Zeiss Carl Fa | Objektiv mit kegelschnittflaechen fuer die mikrozonenabbildung |
US4650292A (en) * | 1983-12-28 | 1987-03-17 | Polaroid Corporation | Analytic function optical component |
US5003567A (en) | 1989-02-09 | 1991-03-26 | Hawryluk Andrew M | Soft x-ray reduction camera for submicron lithography |
JP2691226B2 (ja) | 1989-07-10 | 1997-12-17 | 株式会社ニコン | 赤外線撮像光学装置 |
US5071240A (en) | 1989-09-14 | 1991-12-10 | Nikon Corporation | Reflecting optical imaging apparatus using spherical reflectors and producing an intermediate image |
US5063586A (en) * | 1989-10-13 | 1991-11-05 | At&T Bell Laboratories | Apparatus for semiconductor lithography |
DE3943258A1 (de) * | 1989-12-29 | 1991-07-11 | Michael Brunn | Silhouettierungsfreies spiegelsystem fuer astronomische teleskope vom typ schiefspiegler |
US5212588A (en) | 1991-04-09 | 1993-05-18 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Reflective optical imaging system for extreme ultraviolet wavelengths |
US5309276A (en) * | 1991-08-29 | 1994-05-03 | Optical Research Associates | Catoptric optical system including concave and convex reflectors |
JPH0736959A (ja) * | 1993-07-15 | 1995-02-07 | Hitachi Ltd | 自由曲面光学系の設計方法 |
DE4327656A1 (de) | 1993-08-17 | 1995-02-23 | Steinheil Optronik Gmbh | Infrarot-Objektiv |
RU2136483C1 (ru) | 1993-11-23 | 1999-09-10 | Инженерный центр "Плазмотег" | Абразивный материал для прецизионной обработки поверхности и способ его изготовления |
JP3358097B2 (ja) | 1994-04-12 | 2002-12-16 | 株式会社ニコン | X線投影露光装置 |
US6166866A (en) | 1995-02-28 | 2000-12-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Reflecting type optical system |
EP0730180B1 (en) | 1995-02-28 | 2002-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Reflecting type of zoom lens |
US6021004A (en) | 1995-02-28 | 2000-02-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Reflecting type of zoom lens |
US6229595B1 (en) | 1995-05-12 | 2001-05-08 | The B. F. Goodrich Company | Lithography system and method with mask image enlargement |
US5815310A (en) | 1995-12-12 | 1998-09-29 | Svg Lithography Systems, Inc. | High numerical aperture ring field optical reduction system |
US5686728A (en) | 1996-05-01 | 1997-11-11 | Lucent Technologies Inc | Projection lithography system and method using all-reflective optical elements |
JPH11110791A (ja) | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Pioneer Electron Corp | 光情報記録媒体の再生ピックアップ装置 |
AU1053199A (en) | 1997-11-14 | 1999-06-07 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method of manufacturing the same, and exposure method |
US6240158B1 (en) * | 1998-02-17 | 2001-05-29 | Nikon Corporation | X-ray projection exposure apparatus with a position detection optical system |
US6226346B1 (en) * | 1998-06-09 | 2001-05-01 | The Regents Of The University Of California | Reflective optical imaging systems with balanced distortion |
JP2000091209A (ja) | 1998-09-14 | 2000-03-31 | Nikon Corp | 露光装置の製造方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP4238390B2 (ja) | 1998-02-27 | 2009-03-18 | 株式会社ニコン | 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法 |
DE10138313A1 (de) | 2001-01-23 | 2002-07-25 | Zeiss Carl | Kollektor für Beleuchtugnssysteme mit einer Wellenlänge < 193 nm |
US7186983B2 (en) | 1998-05-05 | 2007-03-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system particularly for microlithography |
US6859328B2 (en) | 1998-05-05 | 2005-02-22 | Carl Zeiss Semiconductor | Illumination system particularly for microlithography |
EP0955641B1 (de) | 1998-05-05 | 2004-04-28 | Carl Zeiss | Beleuchtungssystem insbesondere für die EUV-Lithographie |
US6396067B1 (en) | 1998-05-06 | 2002-05-28 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Mirror projection system for a scanning lithographic projection apparatus, and lithographic apparatus comprising such a system |
DE19923609A1 (de) * | 1998-05-30 | 1999-12-02 | Zeiss Carl Fa | Ringfeld-4-Spiegelsysteme mit konvexem Primärspiegel für die EUV-Lithographie |
US6577443B2 (en) * | 1998-05-30 | 2003-06-10 | Carl-Zeiss Stiftung | Reduction objective for extreme ultraviolet lithography |
EP1293830A1 (en) | 1998-06-08 | 2003-03-19 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
US6072852A (en) * | 1998-06-09 | 2000-06-06 | The Regents Of The University Of California | High numerical aperture projection system for extreme ultraviolet projection lithography |
US6213610B1 (en) * | 1998-09-21 | 2001-04-10 | Nikon Corporation | Catoptric reduction projection optical system and exposure apparatus and method using same |
JP2000098228A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 投影露光装置及び露光方法、並びに反射縮小投影光学系 |
JP2000098229A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 反射縮小投影光学系、該光学系を備えた投影露光装置および該装置を用いた露光方法 |
JP2000100694A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 反射縮小投影光学系、該光学系を備えた投影露光装置および該装置を用いた露光方法 |
JP2000100703A (ja) * | 1998-09-24 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 投影露光装置及び方法、並びに反射縮小投影光学系 |
US6195201B1 (en) | 1999-01-27 | 2001-02-27 | Svg Lithography Systems, Inc. | Reflective fly's eye condenser for EUV lithography |
US6600552B2 (en) * | 1999-02-15 | 2003-07-29 | Carl-Zeiss Smt Ag | Microlithography reduction objective and projection exposure apparatus |
WO2002048796A2 (en) | 2000-12-12 | 2002-06-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection system for euv lithography |
EP1772775B1 (de) * | 1999-02-15 | 2008-11-05 | Carl Zeiss SMT AG | Mikrolithographie-Reduktionsobjektiveinrichtung sowie Projektionsbelichtungsanlage |
US7151592B2 (en) * | 1999-02-15 | 2006-12-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection system for EUV lithography |
US6249391B1 (en) * | 1999-03-11 | 2001-06-19 | Olympus Optical Co., Ltd. | Image-forming optical system |
DE60041679D1 (de) | 1999-03-15 | 2009-04-16 | Panasonic Corp | Lichtsammelelement, Verfahren zur Aufzeichnung und Wiedergabe der Informationen und optischer Kopf |
US6033079A (en) | 1999-03-15 | 2000-03-07 | Hudyma; Russell | High numerical aperture ring field projection system for extreme ultraviolet lithography |
JP2000286189A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Nikon Corp | 露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法 |
EP1089111B1 (en) | 1999-04-02 | 2005-03-30 | Olympus Corporation | Viewing optical system and image display comprising the same |
US6426506B1 (en) * | 1999-05-27 | 2002-07-30 | The Regents Of The University Of California | Compact multi-bounce projection system for extreme ultraviolet projection lithography |
JP4212721B2 (ja) * | 1999-06-10 | 2009-01-21 | 三菱電機株式会社 | 広角反射光学系 |
JP4717974B2 (ja) | 1999-07-13 | 2011-07-06 | 株式会社ニコン | 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置 |
US6557443B1 (en) * | 1999-09-09 | 2003-05-06 | Larue Mark C. | Bar feeder for machining center |
JP2001185480A (ja) | 1999-10-15 | 2001-07-06 | Nikon Corp | 投影光学系及び該光学系を備える投影露光装置 |
EP1093021A3 (en) | 1999-10-15 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Projection optical system as well as equipment and methods making use of said system |
US6621557B2 (en) | 2000-01-13 | 2003-09-16 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and exposure methods |
TW538256B (en) * | 2000-01-14 | 2003-06-21 | Zeiss Stiftung | Microlithographic reduction projection catadioptric objective |
US6867913B2 (en) | 2000-02-14 | 2005-03-15 | Carl Zeiss Smt Ag | 6-mirror microlithography projection objective |
JP2002006221A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-01-09 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置及び露光方法 |
JP2002015979A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-18 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置及び露光方法 |
EP1327172A1 (de) * | 2000-10-20 | 2003-07-16 | Carl Zeiss | 8-spiegel-mikrolithographie-projektionsobjektiv |
DE10052289A1 (de) | 2000-10-20 | 2002-04-25 | Zeiss Carl | 8-Spiegel-Mikrolithographie-Projektionsobjektiv |
DE60206908T2 (de) | 2001-01-09 | 2006-07-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionssystem für die extrem-ultraviolettlithographie |
US6387723B1 (en) * | 2001-01-19 | 2002-05-14 | Silicon Light Machines | Reduced surface charging in silicon-based devices |
US20020171047A1 (en) * | 2001-03-28 | 2002-11-21 | Chan Kin Foeng | Integrated laser diode array and applications |
JP4349550B2 (ja) | 2001-03-29 | 2009-10-21 | フジノン株式会社 | 反射型投映用光学系 |
TW594043B (en) | 2001-04-11 | 2004-06-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Reflection type optical apparatus and photographing apparatus using the same, multi-wavelength photographing apparatus, monitoring apparatus for vehicle |
JP2002329655A (ja) | 2001-05-01 | 2002-11-15 | Canon Inc | 反射型縮小投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
DE10139177A1 (de) | 2001-08-16 | 2003-02-27 | Zeiss Carl | Objektiv mit Pupillenobskuration |
JP4134544B2 (ja) * | 2001-10-01 | 2008-08-20 | 株式会社ニコン | 結像光学系および露光装置 |
JP2003114387A (ja) | 2001-10-04 | 2003-04-18 | Nikon Corp | 反射屈折光学系および該光学系を備える投影露光装置 |
JP3581689B2 (ja) * | 2002-01-31 | 2004-10-27 | キヤノン株式会社 | 位相測定装置 |
EP1333260A3 (en) | 2002-01-31 | 2004-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Phase measuring method and apparatus |
JP2003233005A (ja) | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Canon Inc | 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2003233002A (ja) | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Canon Inc | 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2003233001A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Canon Inc | 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP3631723B2 (ja) * | 2002-02-08 | 2005-03-23 | 株式会社タロウ | 分子構造モデル構成体 |
DE10208854A1 (de) | 2002-03-01 | 2003-09-04 | Zeiss Carl Semiconductor Mfg | Beleuchtungssystem mit genestetem Kollektor zur annularen Ausleuchtung einer Austrittspupille |
US6989922B2 (en) * | 2002-06-21 | 2006-01-24 | Nikon Corporation | Deformable mirror actuation system |
JP2004031808A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Nikon Corp | 露光装置の投影光学系、該投影光学系を備えた露光装置及び該露光装置を用いた露光方法 |
JP2004029625A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-01-29 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置及び露光方法 |
AU2003232785A1 (en) | 2002-07-17 | 2004-02-02 | Zentaris Gmbh | Novel anthracene derivatives and the use thereof as a medicament |
DE60323927D1 (de) | 2002-12-13 | 2008-11-20 | Asml Netherlands Bv | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
JP3938040B2 (ja) | 2002-12-27 | 2007-06-27 | キヤノン株式会社 | 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2004252363A (ja) | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Canon Inc | 反射型投影光学系 |
JP2004252358A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Canon Inc | 反射型投影光学系及び露光装置 |
JP2004258541A (ja) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Canon Inc | 反射型光学系 |
JP2003233305A (ja) * | 2003-03-10 | 2003-08-22 | Takumi Fujimori | 名称による50音索引の住宅地図帳 |
JP4340851B2 (ja) * | 2003-04-09 | 2009-10-07 | 株式会社ニコン | 光源ユニット、照明光学装置、露光装置および露光方法 |
JP2005003943A (ja) | 2003-06-12 | 2005-01-06 | Fuji Xerox Co Ltd | 光学素子およびその製造方法 |
JP4428947B2 (ja) | 2003-06-30 | 2010-03-10 | キヤノン株式会社 | 結像光学系 |
JP2005055553A (ja) * | 2003-08-08 | 2005-03-03 | Nikon Corp | ミラー、温度調整機構付きミラー及び露光装置 |
US7085075B2 (en) * | 2003-08-12 | 2006-08-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection objectives including a plurality of mirrors with lenses ahead of mirror M3 |
JP2005166778A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Canon Inc | 露光装置、デバイスの製造方法 |
JP2005172988A (ja) | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Nikon Corp | 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置 |
DE10359576A1 (de) | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit |
DE10360414A1 (de) | 2003-12-19 | 2005-07-21 | Carl Zeiss Smt Ag | EUV-Projektionsobjektiv sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
US7114818B2 (en) | 2004-05-06 | 2006-10-03 | Olympus Corporation | Optical system, and electronic equipment that incorporates the same |
DE102005042005A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Hochaperturiges Objektiv mit obskurierter Pupille |
WO2006069725A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Hochaperturiges objektiv mit obskurierter pupille |
TWI308644B (en) | 2004-12-23 | 2009-04-11 | Zeiss Carl Smt Ag | Hochaperturiges objektiv mlt obskurierter pupille |
JP2006245147A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
KR100604942B1 (ko) | 2005-06-18 | 2006-07-31 | 삼성전자주식회사 | 비축상(off-axis) 프로젝션 광학계 및 이를 적용한극자외선 리소그래피 장치 |
EP1924888B1 (en) | 2005-09-13 | 2013-07-24 | Carl Zeiss SMT GmbH | Microlithography projection optical system, method for manufacturing a device and method to design an optical surface |
DE102006003375A1 (de) | 2006-01-24 | 2007-08-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Gruppenweise korrigiertes Objektiv |
DE102006014380A1 (de) | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage mit negativer Schnittweite der Eintrittspupille |
-
2006
- 2006-09-12 EP EP06791994.4A patent/EP1924888B1/en not_active Not-in-force
- 2006-09-12 JP JP2008529565A patent/JP2009508150A/ja active Pending
- 2006-09-12 KR KR1020087001999A patent/KR100962911B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-09-12 CN CN2013100144003A patent/CN103076723A/zh active Pending
- 2006-09-12 KR KR1020107000043A patent/KR101127346B1/ko active IP Right Grant
- 2006-09-12 KR KR1020117020449A patent/KR101149267B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-09-12 WO PCT/EP2006/008869 patent/WO2007031271A1/en active Application Filing
- 2006-09-12 TW TW098136869A patent/TWI451125B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-09-12 TW TW095133636A patent/TWI366004B/zh active
- 2006-09-13 US US11/520,558 patent/US7414781B2/en active Active
-
2008
- 2008-07-02 US US12/166,406 patent/US7719772B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-05-28 US US12/474,247 patent/US8169694B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-30 JP JP2009265616A patent/JP5249179B2/ja active Active
-
2011
- 2011-06-21 JP JP2011151263A patent/JP5507501B2/ja active Active
-
2012
- 2012-04-03 US US13/438,428 patent/US9465300B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-05-08 JP JP2013098566A patent/JP5689147B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080054377A (ko) | 2008-06-17 |
JP2009508150A (ja) | 2009-02-26 |
KR101149267B1 (ko) | 2012-05-25 |
EP1924888A1 (en) | 2008-05-28 |
US7719772B2 (en) | 2010-05-18 |
US7414781B2 (en) | 2008-08-19 |
KR20110114696A (ko) | 2011-10-19 |
JP5689147B2 (ja) | 2015-03-25 |
US20090262443A1 (en) | 2009-10-22 |
JP2013210647A (ja) | 2013-10-10 |
EP1924888B1 (en) | 2013-07-24 |
JP5249179B2 (ja) | 2013-07-31 |
JP2010107988A (ja) | 2010-05-13 |
WO2007031271A1 (en) | 2007-03-22 |
TWI451125B (zh) | 2014-09-01 |
US8169694B2 (en) | 2012-05-01 |
US20120188525A1 (en) | 2012-07-26 |
KR101127346B1 (ko) | 2012-03-29 |
CN103076723A (zh) | 2013-05-01 |
US9465300B2 (en) | 2016-10-11 |
TW201011339A (en) | 2010-03-16 |
JP5507501B2 (ja) | 2014-05-28 |
US20090046357A1 (en) | 2009-02-19 |
US20070058269A1 (en) | 2007-03-15 |
KR20100023947A (ko) | 2010-03-04 |
KR100962911B1 (ko) | 2010-06-10 |
JP2012008574A (ja) | 2012-01-12 |
TW200717025A (en) | 2007-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI366004B (en) | Microlithography projection optical system, microlithographic tool comprising such an optical system, method for microlithographic production of microstructured components using such a microlithographic tool, microstructured component being produced by s | |
TWI339775B (en) | Method for performing a double exposure lithography process | |
PT1866144T (pt) | Aparelho para a conformação de um filme plano numa lente ótica, processo para a funcionalização de uma lente ótica por meio do referido aparelho e a lente ótica obtida deste modo | |
DE502007005941D1 (de) | Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektions-Mikrolithographie, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils | |
DE102006032810A8 (de) | Beleuchtungsoptik für eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage, Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, mikrolithografisches Herstellungsverfahren für Bauelemente sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauelement | |
HK1247994A1 (zh) | 投影光學系統、曝光裝置和曝光方法 | |
IL182197A0 (en) | Laser plasma euv light source, target member, production method for target member, target supplying method, and euv exposure system | |
EP1775755A4 (en) | EXTREME UV LIGHT SOURCE, EXTREME UV EXPOSURE SYSTEM, AND PRODUCTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE | |
SG126877A1 (en) | A method, program product and apparatus for performing double exposure lithography | |
EP2028681A4 (en) | REFLECTION MASK ROLLING FOR EUV LITHOGRAPH | |
EP2333816A4 (en) | REFLECTING MASK ROLLING FOR EUV LITHOGRAPHY AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF | |
EP1881520A4 (en) | OPTICAL PROJECTION SYSTEM, EXPOSURE DEVICE, AND EXPOSURE METHOD | |
SG153023A1 (en) | Method of measuring focus of a lithographic projection apparatus | |
TWI372311B (en) | Method of manufactureing a pellicle for lithography | |
TWI349836B (en) | Rework process for photoresist film | |
EP2139026A4 (en) | REFLECTIVE MASK PIECE FOR EUV LITHOGRAPHY | |
DK2039218T3 (da) | En metode til betjening af et binauralt høresystem, såvel som et binauralt høresystem | |
WO2009114438A3 (en) | Cyclohexanedimethanamine by direct amination of cyclohexanedimethanol | |
DK1788435T3 (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af en litografisk trykplade | |
WO2008022178A3 (en) | Method for separating optical and resist effects in process models | |
TW200715372A (en) | Exposure method | |
EP1843385A4 (en) | OPTICAL PROJECTION SYSTEM, EXPOSURE SYSTEM AND EXPOSURE METHOD | |
SG115770A1 (en) | Method of determining aberration of a projection system of a lithographic apparatus | |
NL2003181A1 (nl) | A source module of an EUV lithographic apparatus, a lithographic apparatus, and a method for manufacturing a device. | |
TWI368113B (en) | Optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus |