DE102019203423A1

DE102019203423A1 - Abbildende Optik

Info

Publication number: DE102019203423A1
Application number: DE102019203423.3A
Authority: DE
Inventors: Thilo Pollak; Toralf Gruner
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2019-03-13
Filing date: 2019-03-13
Publication date: 2020-01-16
Also published as: DE102020201098A1

Abstract

Eine abbildende Optik dient zur Abbildung eines Objektfeldes in einer Objektebene in ein Bildfeld (8) in einer Bildebene (9). Die abbildende Optik hat eine Mehrzahl von Spiegeln (M3, M5, M6) zur Führung von Abbildungslicht (3) längs eines Strahlengangs zwischen dem Objektfeld und dem Bildfeld (8). Ein Spiegelsubstrat (21) mindestens eines der Spiegel (M5) wirkt mit einer Deformationseinrichtung (23) zur gesteuerten Einleitung von Deformationen in eine Reflexionsfläche (22) des Spiegels (M5) zur Kompensation von Deformationen des vorletzten Spiegels (M5) zusammen. Eine Steuer/Regeleinrichtung (25) steht mit der Deformationseinrichtung (23) in Signalverbindung. Es resultiert eine abbildende Optik, bei der bei Einhaltung vorgegebener Toleranzen für maximale Abbildungsfehler Transmissionsverluste eines Belichtungssystems, dessen Bestandteil die abbildende Optik ist, möglichst gering gehalten sind.

Description

Die Erfindung betrifft eine abbildende Optik mit einer Mehrzahl von Spiegeln, die ein Objektfeld in einer Objektebene in ein Bildfeld in einer Bildebene abbilden.
Derartige abbildende Optiken sind bekannt aus der WO 2010/028748 A1 , die ein sogenanntes doppeltobskuriertes System zeigt, wobei sowohl ein vorletzter als auch ein letzter Spiegel im Abbildungslicht-Strahlengang eine Durchtrittsöffnung zum Durchtritt von Abbildungslicht aufweisen. Weitere abbildende Optiken sind bekannt aus der WO 2010/091800 A1 , der DE 10 2015 213 273 A1 und der DE 10 2013 219 583 A1 . Eine katadioptrische abbildende Optik ist bekannt aus der US 2006/0023179 A1 .
Eine Aufgabe der Erfindung ist es, eine abbildende Optik so weiterzubilden, dass bei Einhaltung vorgegebener Toleranzen für maximale Abbildungsfehler Transmissionsverluste eines Belichtungs- bzw. Beleuchtungssystems, dessen Bestandteil die abbildende Optik ist, möglichst gering gehalten sind.
Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine abbildende Optik mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen.
Mit der erfindungsgemäßen Deformationseinrichtung werden Designs der abbildenden Optik zugänglich, bei denen ein vorletzter Spiegel zum Einsatz kommt, dessen mechanische Eigensteifigkeit zur Gewährleistung einer vorgegebenen Abbildungsqualität nicht ausreicht. Es kann dann ein optisches Design genutzt werden, bei dem z. B. ein gleichzeitig im Durchmesser großer und in der Substratstärker dünner vorletzter Spiegel zum Einsatz kommt. Eine derartige abbildende Optik mit im Durchmesser großem und hinsichtlich der Substratstärke dünnem vorletzten Spiegel ermöglicht ein Design mit kleinen Einfallswinkeln des Abbildungslichts auf den beteiligten Spiegeln, was zu einem Design mit geringen Abbildungsfehlern bei gleichzeitig großem Durchsatz führt. Auch eine geringe Polarisationssensität kann bei einem solchen Design resultieren.
Der vorletzte Spiegel kann mit einem großen Aspektverhältnis aus maximalem Spiegeldurchmesser einerseits und Stärke des Spiegelsubstrats andererseits ausgeführt, wobei ein derartiges Aspektverhältnis größer sein kann als 5, größer sein kann als 6, größer sein kann als 7, größer sein kann als 8, größer sein kann als 10, größer sein kann als 12 oder auch noch größer sein kann und beispielsweise auch im Bereich von 15 oder auch im Bereich von 20 liegen kann. Über eine derartige Deformationseinrichtung lassen sich Abbildungsfehler kompensieren und/oder korrigieren, die aufgrund einer reduzierten mechanischen Eigenstabilität des vorletzten Spiegels resultieren.
Über die erfindungsgemäße Deformationseinrichtung kann der vorletzte Spiegel in seinen Starrkörperfreiheitsgraden manipuliert werden. Eine Manipulation in einem Freiheitsgrad oder in mehreren Starrkörperfreiheitsgraden ist möglich. Die abbildende Optik kann als reine Spiegeloptik ausgeführt sein. Die abbildende Optik kann als Optik für EUV-Abbildungslichtwellenlängen ausgeführt sein, beispielsweise für Wellenlängen in einem Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Eine bildseitige nummerische Apertur der abbildenden Optik kann größer sein als 0,6 und kann auch größer sein als 0,7. Über die Steuer/Regel-einrichtung kann eine reine Steuerung der Deformationseinrichtung oder auch eine Regelung der Deformationseinrichtung erfolgen. Eine reine Steuerung ist beispielsweise möglich, indem ein Betriebsablauf der abbildenden Optik beispielsweise über ein Teach-in-Verfahren vorab durchgespielt oder simuliert wird und dort im zeitlichen Betriebsablauf festgestellte Abweichungen einer Reflexionsflächenform bei einem Produktions-Betriebsablauf dann durch entsprechende Steuereingriffe über die Deformationseinrichtung korrigiert und/oder kompensiert werden. Alternativ oder zusätzlich ist eine reine Steuervariante der Deformationseinrichtung möglich, indem dem Betrieb der abbildenden Optik eine entsprechende Kalibrierung vorausgeht. Der Spiegel, auf dessen Reflexionsfläche die Deformationseinrichtung wirkt, kann der vorletzte Spiegel im Abbildungslicht-Strahlengang sein, also derjenige Spiegel, der dem Bildfeld räumlich nächst benachbart ist und auch als Nachbarspiegel bezeichnet wird. Alternativ oder zusätzlich kann auch ein anderer Spiegel der abbildenden Optik mit einer entsprechenden Deformationseinrichtung ausgerüstet sein. Bei einem derartigen anderen Spiegel mit Deformationseinrichtung kann es sich um einen Spiegel handeln, der ein zum vorletzten Spiegel im Strahlengang vergleichbares Subaperturverhältnis aufweist. In Bezug auf die Charakterisierung eines entsprechenden Subaperturverhältnisses wird auf die Definition eines entsprechenden Parameters P in der WO 2009/024164 A1 verwiesen.
Eine Regelfrequenz der Steuer/Regeleinrichtung kann größer sein als 100 Hz, kann größer sein als 200 Hz, kann größer sein als 500 Hz, kann größer sein als 1 kHz, kann größer sein als 2 kHz, kann größer sein als 5 kHz und kann größer sein als 10 kHz.
Die Deformationseinrichtung kann jeweils eine mit einer ggf. im hierüber zu deformierenden Spiegel vorhandenen Abbildungslicht-Durchtrittsöffnung fluchtende Öffnung aufweisen.
Eine effektive Erhöhung der Steifigkeit des vorletzten Spiegels nach Anspruch 2 kann derart sein, dass resultierende Eigenfrequenzen des vorletzten Spiegels im kHz-Bereich die Folge sind. Durch die Wirkung der Deformationseinrichtung wird somit eine Steifigkeit des vorletzten Spiegels erzielt, die deutlich höher ist als eine mechanische Eigensteifigkeit des Spiegels.
Mit einem Passe-Sensor nach Anspruch 3 ist ein geregelter Betrieb der Deformationseinrichtung möglich. Es kann eine reglungstechnische Versteifung des vorletzten Spiegels der abbildenden Optik erreicht werden. Ein Passe-Sensor zur Erfassung einer Oberflächenform einer Spiegel-Reflexionsfläche ist beispielsweise bekannt aus der US 2016/0023179 A1 .
Die Deformationseinrichtung der abbildenden Optik kann mindestens einen Piezo-Aktor bzw. einen elektrostriktiven Aktor aufweisen. Ein derartiger Aktor hat sich für eine derartige Deformationseinrichtung bewährt. Die Deformationseinrichtung kann als Piezomatte gestaltet sein, die flächig mit dem Spiegelsubstrat des zu deformierenden Spiegels verbunden ist. Die Deformationseinrichtung kann eine Mehrzahl und/oder eine Vielzahl von Aktoren aufweisen, mit denen jeweils eine lokale Deformation und/oder mit denen jeweils verschiedene Beiträge einer globalen Deformation erreichbar sind. Alternativ oder zusätzlich zu elektrostriktiven Aktoren können auch magnetostriktive Aktoren zum Einsatz kommen.
Zumindest ein Beitrag einer Deformationserfassung kann über einen Spannungsabgriff an den elektro- und/oder magnetostriktiven Aktoren durchgeführt werden.
Bei einer doppeltobskurierten abbildenden Optik nach Anspruch 4 kommen die Vorteile der Deformationseinrichtung besonders gut zum Tragen.
Eine Anordnung der Deformationseinrichtung auf der Reflexionsflächenseite des Spiegelsubstrats nach Anspruch 5 ermöglicht eine direkte Wirkung der Deformation auf die Abbildungseigenschaften des deformierten Spiegels. Beispiele für die Anordnung einer Deformationseinrichtung auf einer Spiegel-Reflexionsflächenseite sind beispielsweise aus der DE 10 2015 213 273 A1 und aus der DE 10 2013 219 583 A1 bekannt. Die Deformationseinrichtung kann eine Säulenstruktur mit einer Mehr- bis einer Vielzahl von Piezo-Aktoren aufweisen. Ein derartiges Konzept ist auch als Smart Multilayer Interactive Optics for Lithography at Extreme UV-wavelengths („SMILE“) bekannt.
Eine Anordnung der Deformationseinrichtung nach Anspruch 6 ermöglicht es, die Deformationseinrichtung unabhängig von einer hochreflektierenden Multilagen-Beschichtung der Reflexionsflächenseite des Spiegelsubstrats zu realisieren. Die Einleitung der Deformationskraft erfolgt dann über die Rückseite des Spiegelsubstrats durch dieses hindurch, sodass eine entsprechende Deformation der Reflexionsfläche resultiert. Eine derartige Deformationseinrichtung auf der Spiegel-Rückseite kann als Piezomatte realisiert sein.
Eine Ausführung nach Anspruch 7, die auch als Ausführung mit piezoelektrischem Quer- oder Transversaleffekt (d₃₁-Effekt) bekannt ist, hat sich in der Praxis bewährt.
Eine Größe der Durchtrittsöffnung nach Anspruch 8 führt zu einer vorteilhaft niedrigen Pupillenobskuration der abbildenden Optik.
Ein geringer Arbeitsabstand nach Anspruch 9 ermöglicht es, den vorletzten Spiegel sehr nahe an die Bildebene heranzurücken, was z. B. eine kleine Pupillenobskuration aufgrund der Durchtrittsöffnung im vorletzten Spiegel begünstigt.
Die Vorteile eines optischen Systems nach Anspruch 10, eines Belichtungs- bzw. Beleuchtungssystems nach Anspruch 11, einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 12, eines Herstellungsverfahrens für ein mikro- bzw. nanostrukturiertes Bauteil nach Anspruch 13 sowie für ein entsprechend hergestelltes Bauteil entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die erfindungsgemäße abbildende Optik bereits erläutert wurden. Bei dem Bauteil kann es sich um ein Halbleiter-Bauelement, insbesondere um einen Mikrochip und beispielsweise um einen Speicherchip handeln.
Ausführungsbeispiele werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser Zeichnung zeigen

1 schematisch eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie;
2 einen Abbildungsstrahlengänge zueinander beabstandeter Feldpunkte beinhaltenden Meridionalschnitt durch eine Ausführung einer Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage nach 1;
3 eine Ausschnittsvergrößerung der Projektionsoptik nach 2 im Bereich der beiden letzten Spiegel im Abbildungslicht-Strahlengang, wobei ein vorletzter Spiegel im Abbildungslicht-Strahlengang mit einer ersten Ausführung einer Deformationseinrichtung zur gesteuerten Einleitung von Deformationen in eine Reflexionsfläche des Spiegels, angeordnet auf einer Rückseite des Spiegelsubstrates des vorletzten Spiegels, dargestellt ist; und
4 in einer zu 3 ähnlichen Darstellung wiederum den Ausschnitt der Projektionsoptik nach 2, wobei nun der vorletzte Spiegel im Abbildungslicht-Strahlengang mit einer weiteren Ausführung für die Deformationseinrichtung gezeigt ist, die auf einer Reflexionsflächenseite des Spiegelsubstrates des vorletzten Spiegels angeordnet ist.

Eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithografie hat eine Lichtquelle 2 für Beleuchtungslicht bzw. Abbildungslicht 3. Bei der Lichtquelle 2 handelt es sich um eine EUV-Lichtquelle, die Licht in einem Wellenlängenbereich zwischen 5 nm und 30 nm erzeugt. Auch andere EUV-Wellenlängen sind möglich. Generell sind sogar beliebige Wellenlängen, z. B. sichtbare Wellenlängen, für das in der Projektionsbelichtungsanlage 1 geführte Beleuchtungslicht möglich. Ein Strahlengang des Beleuchtungslichts 3 ist in der 1 äußerst schematisch dargestellt.
Zur Führung des Beleuchtungslichts 3 hin zu einem Objektfeld 4 in einer Objektebene 5 dient eine Beleuchtungsoptik 6. Mit einer Projektionsoptik bzw. abbildenden Optik 7 wird das Objektfeld 4 in ein Bildfeld 8 in einer Bildebene 9 mit einem vorgegebenen Verkleinerungsmaßstab abgebildet. Die Projektionsoptik 7 verkleinert um einen Faktor 8.
Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenfalls möglich, zum Beispiel 4x, 5x, 6x oder auch Abbildungsmaßstäbe, die größer sind als 8x. Für Beleuchtungslicht mit EUV-Wellenlänge eignet sich insbesondere ein Abbildungsmaßstab von 8x, da hierdurch der objektseitige Einfallswinkel auf einer Reflexionsmaske klein gehalten werden kann. Für eine bildseitige Apertur der Projektionsoptik 7 von NA = 0,5 lassen sich bei einem Abbildungsmaßstab von 8x objektseitig Beleuchtungswinkel von weniger als 6° realisieren.
Die Bildebene 9 ist bei der Projektionsoptik 7 parallel zur Objektebene 5 angeordnet. Abgebildet wird hierbei ein mit dem Objektfeld 4 zusammenfallender Ausschnitt einer reflektierenden Maske 10, die auch als Retikel bezeichnet wird.
Zur Erleichterung der Beschreibung der Projektionsbelichtungsanlage 1 ist in der Zeichnung ein kartesisches xyz-Koordinatensystem angegeben, aus dem sich die jeweilige Lagebeziehung der in den Figuren dargestellten Komponenten ergibt. In der 1 verläuft die x-Richtung senkrecht zur Zeichenebene in diese hinein, die y-Richtung nach rechts und die z-Richtung nach unten.
Das Retikel 10 wird von einem Retikelhalter 10a getragen, der über einen Objektverlagerungsantrieb 10b längs der y-Richtung verlagert wird, die auch als Objektverlagerungsrichtung bezeichnet ist.
Aufgrund der reflektierenden Wirkung des Retikels 10 wird das Beleuchtungslicht 3 an der Objektebene 5 reflektiert. Die Abbildung erfolgt auf die Oberfläche eines Substrats 11 in Form eines Wafers, der von einem Wafer- bzw. Substrathalter 12 getragen wird. Der Substrathalter 12 ist über einen ebenfalls schematisch dargestellten Substratverlagerungsantrieb 12a synchronisiert zum Objektverlagerungsantrieb längs der y-Richtung verlagerbar.
In der 1 ist schematisch zwischen dem Retikel 10 und der Projektionsoptik 7 ein in diese einlaufendes Strahlenbündel 13 des Beleuchtungslichts 3 und zwischen der Projektionsoptik 7 und dem Substrat 11 ein aus der Projektionsoptik 7 auslaufendes Strahlungsbündel 14 des Beleuchtungslichts 3 dargestellt. Die bildfeldseitige numerische Apertur NA der Projektionsoptik 7 nach 2 beträgt 0,50.
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 ist vom Scannertyp. Sowohl das Retikel 10 als auch das Substrat 11 werden beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage 1 in der y-Richtung gescannt.
2 zeigt das optische Design der Projektionsoptik 7. Zu Details des optischen Grunddesigns wird verwiesen auf die Projektionsoptik nach 2 der WO 2010/028748 A1 . Dargestellt ist der Strahlengang jeweils dreier Einzelstrahlen 15, die von fünf in der 2 übereinanderliegenden und zueinander in der y-Richtung beabstandeten Objektfeldpunkten ausgehen, wobei die drei Einzelstrahlen 15, die zu einem dieser fünf Objektfeldpunkte gehören, jeweils drei unterschiedlichen Beleuchtungsrichtungen für die fünf Objektfeldpunkte zugeordnet sind. Diese drei Beleuchtungsrichtungen werden durch den oberen Komastrahl, den unteren Komastrahl sowie den Hauptstrahl eines jeden der fünf Objektfeldpunkte wiedergegeben.
Ausgehend von der Objektebene 5 werden die Einzelstrahlen 15 zunächst von einem ersten Spiegel M1 und anschließend von weiteren Spiegeln reflektiert, die nachfolgend in der Reihenfolge des Strahlengangs als Spiegel M2, M3, M4, M5 und M6 bezeichnet werden. Dargestellt sind jeweils die zur Berechnung der Form der Reflexionsflächen der Spiegel M1 bis M6 benötigten mathematischen Parentflächen. In der tatsächlichen Projektionsoptik 7 liegen die Reflexionsflächen der Spiegel M1 bis M6 tatsächlich nur dort vor, wo sie von den Einzelstrahlen 15 beaufschlagt werden.
Die Projektionsoptik 7 nach 2 hat also sechs reflektierende Spiegel. Diese Spiegel tragen eine für die Wellenlänge des Beleuchtungslichts 3 hoch reflektierende Beschichtung, falls dies aufgrund der Wellenlänge, zum Beispiel im EUV, erforderlich ist. Insbesondere tragen die Spiegel M1 bis M6 Mehrfach-Reflexionsschichten zur Optimierung ihrer Reflexion für das auftreffende Beleuchtungslicht 3. Die Reflexion ist insbesondere dann, wenn EUV-Beleuchtungslicht 3 zum Einsatz kommt, umso besser, je näher der Reflexionswinkel, also der Auftreffwinkel der Einzelstrahlen 15 auf den Oberflächen der Spiegel M1 bis M6, an der senkrechten Inzidenz liegt. Die Projektionsoptik 7 hat insgesamt für alle Einzelstrahlen 15 kleine Reflexionswinkel.
In der Beleuchtungsoptik 6 und der Projektionsoptik 7 lassen sich auch Strahlungen mit voneinander stark unterschiedlicher Wellenlänge führen, da diese Optiken im Wesentlichen achromatische Eigenschaften haben. Es ist also möglich, in diesen Optiken zum Beispiel einen Justagelaser zu führen oder ein Autofokussiersystem zu betreiben, wobei gleichzeitig mit einer von deren Arbeitswellenlänge stark verschiedenen Wellenlänge für das Beleuchtungslicht gearbeitet wird. So kann ein Justagelaser bei 632,8 nm, bei 248 nm oder bei 193 nm arbeiten, während gleichzeitig mit einem Beleuchtungslicht im Bereich zwischen 5 und 30 nm gearbeitet wird.
Der Spiegel M3 hat eine konvexe Grundform, kann also durch eine konvexe bestangepasste Fläche beschrieben werden. In der nachfolgenden Beschreibung werden derartige Spiegel vereinfacht als konvex und Spiegel, die durch eine konkav bestangepasste Fläche beschrieben werden können, vereinfacht als konkav bezeichnet. Der konvexe Spiegel M3 sorgt für eine gute Petzval-Korrektur bei der Projektionsoptik 7.
Eine Baulänge der Projektionsoptik 7, also der Abstand zwischen der Objektebene 5 und der Bildebene 9, beträgt bei der Projektionsoptik 7 1521 mm.
Die zu einer bestimmten Beleuchtungsrichtung der fünf Objektfeldpunkte gehörenden Einzelstrahlen 15 vereinigen sich in einer Pupillenebene 16 der Projektionsoptik 7. Die Pupillenebene 16 ist dem Spiegel M3 benachbart im Strahlengang nach diesem angeordnet.
Die Spiegel M1 bis M4 bilden die Objektebene 5 ab in eine Zwischenbildebene 17. Die zwischenbildseitige numerische Apertur der Projektionsoptik 7 beträgt etwa 0,2. Die Spiegel M1 bis M4 bilden eine erste Teil-Abbildungsoptik der Projektionsoptik 7 mit einem verkleinernden Abbildungsmaßstab von etwa 3,2x. Die nachfolgenden Spiegel M5 und M6 bilden eine weitere Teil-Abbildungsoptik der Projektionsoptik 7 mit einem verkleinernden Abbildungsmaßstab von etwa 2,5x. Im Strahlengang des Beleuchtungslichts 3 zwischen den Spiegeln M4 und M5 vor der Zwischenbildebene 17 und dieser benachbart ist eine Durchgangs- bzw. Durchtrittsöffnung 18 im Spiegel M6 ausgebildet, durch die das Beleuchtungs- bzw. Abbildungslicht 3 bei der Reflexion vom vierten Spiegel M4 hin zum fünften Spiegel M5 hindurchtritt. Der fünfte Spiegel M5 wiederum hat eine zentrale Durchgangs- bzw. Durchtrittsöffnung 19, durch die das Strahlungsbündel 14 zwischen dem sechsten Spiegel M6 und der Bildebene 9 hindurchtritt.
Die Durchtrittsöffnung 19 im vorletzten Spiegel M5 kann so groß sein, dass für alle Feldpunkte des Objektfeldes 4 eine Pupillenobskuration der abbilden Optik 7 resultiert, deren Flächenanteil an einer gesamten Pupillenfläche der abbildenden Optik 7 kleiner ist als 9 %. Auch eine noch kleinere Pupillenobskuration mit einem Flächenanteil an der gesamten Pupillenfläche kleiner als 8 %, kleiner als 7 %, kleiner als 6 %, kleiner als 5 %, kleiner als 4 % und kleiner als 3 % ist möglich. Abbildende Optiken mit entsprechend kleinen Pupillenobskurationen sind bekannt beispielsweise aus der WO 2010/091800 A1 .
Im Strahlengang zwischen dem fünften Spiegel M5 und dem sechsten Spiegel M6 liegt eine weitere Pupillenebene 20 der Projektionsoptik 7, die zur ersten Pupillenebene 16 optisch konjugiert ist. Am Ort der weiteren Pupillenebene 20 existiert eine physikalisch von außen zugängliche Blendenebene. In dieser Blendenebene kann eine Aperturblende angeordnet sein.
Die Projektionsoptik 7 hat in einer der Pupillenebenen 16, 20 eine zentriert angeordnete Obskurationsblende. Hierdurch werden die den zentralen Durchgangsöffnungen 18, 19 in den Spiegeln M6, M5 zugeordneten Teilstrahlen des Projektionsstrahlengangs obskuriert. Daher wird das Design der Projektionsoptik 7 auch als Design mit zentraler Pupillenobskuration bezeichnet.
Ein ausgezeichneter Einzelstrahl 15, der einen zentralen Objektfeldpunkt mit einem zentral ausgeleuchteten Punkt in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 7 verbindet, wird auch als Hauptstrahl eines zentralen Feldpunktes bezeichnet. Der Hauptstrahl des zentralen Feldpunktes schließt ab der Reflexion am sechsten Spiegel M6 mit der Bildebene 9 näherungsweise einen rechten Winkel ein, verläuft also in etwa parallel zur z-Achse der Projektionsbelichtungsanlage 1. Dieser Winkel ist größer als 85 °.
Das Bildfeld 8 hat die Form eines Ringfeldsegmentes, ist also von zwei zueinander parallel verlaufenden Teilkreisen und zwei ebenfalls zueinander parallel verlaufenden Seitenkanten begrenzt. Je nach Ausführung der Projektionsoptik 7 ist auch ein rechteckiges Bildfeld 8 möglich.
Gestrichelt ist in der 2 ein Spiegelsubstrat 21 des Spiegels M2 angedeutet.
Anhand der 3 wird nachfolgend eine erste Ausführung einer Deformationseinrichtung 23 zur gesteuerten Einleitung von Deformationen in eine Reflexionsfläche 22 des Nachbarspiegels M5 beschrieben. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 und 2 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugszeichen und werden nicht nochmal im Einzelnen diskutiert.
Bei der Ausführung nach 3 ist die Deformationseinrichtung 23 auf einer Rückseite 24 des Spiegelsubstrats 21 aufgebracht. Die Rückseite 24 des Spiegelsubstrats 21 liegt einer Reflexionsflächenseite des Spiegelsubstrats 21 mit der Reflexionsfläche 22 gegenüber. Die Deformationseinrichtung 23 ist als Piezomatte 23a ausgeführt und weist eine Vielzahl von individuell ansteuerbaren Piezo-Aktoren aus, die in der Zeichnung nicht näher dargestellt sind. Die Piezomatte der Deformationseinrichtung 23 kann als ein Surface-Parallel-Array (SPA) ausgeführt sein, wie dieses beschrieben ist im Internetartikel
http://www.northropgrumman.com/Business Ventures/AOAXinetics/IntelligentOptics/Te chnology/Pages/DeformableMirrors.aspx.
Eine derartige Piezomatte ist ein Beispiel für eine Ausführung der Deformationseinrichtung 23 mit mindestens einem Piezo-Aktor bzw. einem elektrostriktiven Aktor. Alternativ oder zusätzlich zu elektrostriktiven Aktoren kann die Deformationseinrichtung auch mindestens einen magnetostriktiven Aktor aufweisen.
Die Deformationseinrichtung 23 kann mehr als 50 Aktoren, mehr als 100 Aktoren und kann auch mehr als 200 Aktoren aufweisen.
Mit jedem Aktor der Vielzahl von Piezo-Aktoren der Deformationseinrichtung 23 kann eine lokale Deformation der Reflexionsfläche 22 des Nachbarspiegels M5 herbeigeführt werden.
Die Piezo-Aktoren der Piezomatte 23a sind so ausgeführt, dass über den jeweiligen Piezo-Aktor als Reaktion auf die Einleitung eines elektrischen Feldes mit einer Feldrichtungskomponente senkrecht zur Reflexionsfläche 22 des Nachbarspiegels M5 eine Deformations-Krafteinleitung mit einer Kraftvektorkomponente parallel zur Reflexionsfläche 22 des Nachbarspiegels M5 erfolgt.
Die Piezo-Aktoren können so ausgeführt sein, dass insbesondere ein piezoelektrischer Quer- oder Transversaleffekt ausgenutzt wird, der auch als d₃₁-Effekt bezeichnet ist.
Über die Deformationseinrichtung 23 kann der Nachbarspiegel M5 in seinen Starrkörperfreiheitsgraden manipuliert werden. Eine Manipulation in 3, 4, 5 oder auch in allen 6 Freiheitsgraden ist möglich.
Die Piezo-Aktoren können in Form eines Rasters über die Piezomatte 23a verteilt angeordnet sein. Ein derartiges Raster kann als Zeilen- und Spaltenraster ausgeführt sein oder auch eine hexagonale Symmetrie aufweisen. Die Anordnung der Piezo-Aktoren der Piezomatte 23a kann zudem an zu kompensierende Reflexionsflächen-Deformationstypen angepasst sein, die beispielsweise über Zernike-Polynome beschrieben werden können.
Die Piezomatte hat ihrerseits eine Durchtrittsöffnung, die mit der Durchtrittsöffnung 19 im Spiegelsubstrat 21 fluchtet. Die Deformationseinrichtung 23 dient zur Kompensation von Deformationen des Nachbarspiegels M5, indem abhängig von derartigen Deformationen über die Deformationseinrichtung 23 gesteuert Kompensations- oder Korrektur-Deformationen in die Reflexionsfläche 22 eingeleitet werden.
Zur Deformationseinrichtung 23 gehört zusätzlich zur Piezomatte 23a eine Steuer/Regeleinrichtung 25, die mit der Deformationseinrichtung 23 und insbesondere mit den Aktoren von dieser, in nicht näher dargestellter Signalverbindung steht. Die Steuer/Regeleinrichtung 25 kann je nach Ausführung der Deformationseinrichtung 23 als Steuereinrichtung arbeiten, bei der Steuersignale beispielsweise auf Grundlage einer Simulation eines Deformationsverhaltens des Nachbarspiegels M5 und/oder aufgrund einer vorausgehenden Kalibrierung erzeugt werden. Alternativ kann die Steuer/Regeleinrichtung 25 auch als Regeleinrichtung arbeiten. In letzterem Fall arbeitet die Steuer/Regeleinrichtung 25 mit einem Passe-Sensor 26 zur Erfassung einer Passe-Deformation der Reflexionsfläche 22 des Nachbarspiegels M5 zusammen. Der Passe-Sensor 26 steht mit der Steuer/Regeleinrichtung 25 über eine Signalleitung 27 in Signalverbindung. Ein derartiger Passe-Sensor zur Erfassung der Form einer Spiegel-Reflexionsfläche ist grundsätzlich bekannt aus der US 2016/0023179 A1 .
Über eine Ansteuerfrequenz der Steuer/Regeleinrichtung 25 ist eine Steifigkeit des Nachbarspiegels M5 effektiv erhöht. Diese effektive Erhöhung der Steifigkeit durch die Ansteuerung über die Steuer/Regeleinrichtung 25 führt zu resultierenden Eigenfrequenzen des Nachbarspiegels M5 im Bereich größer als 1 kHz.
Bei der geregelten Ausführung der Deformationseinrichtung 23 ergibt sich eine Regelungstechnische Versteifung des Nachbarspiegels M5. Eine Regelfrequenz der Steuer/Regeleinrichtung 25 kann größer als 100 Hz, kann größer sein als 1 kHz und kann auch noch größer sein.
Die Aktoren der Deformationseinrichtung können so angeordnet sein, dass über deren Krafteinleitung in die Reflexionsfläche 22 jeweils eine Basisdeformation resultiert, die in einem System orthogonaler Basisfunktionen beschrieben werden können, wobei jeder Aktorbeitrag eine andere Linearkombination dieser Basisfunktionen bewirkt. Über entsprechende Kombinationen der einzelnen Aktor-Deformationsbeiträge lassen sich dann bestimmte Soll-Deformationen gezielt erreichen.
Abstrakt wird eine Menge feldabhängiger Vektoren der Aberrationswirkungen durch relevante Basisdeformationen des vorletzten Spiegels bestimmt. Diese Basis muss so gewählt werden, dass alle real bedeutsamen Deformationen daraus zusammengesetzt werden können. Als Beispiel sind lokale Splinefunktionen denkbar, welche insgesamt die optische wirksame Fläche überdecken. Alternative Oberflächenbeschreibungen sind mannigfach im Stand der Technik bekannt.
Nun werden Systemfreiheitsgrade bestimmt, welche jede dieser feldabhängigen Aberrationswirkungen (mit umgekehrtem Vorzeichen) generieren können. Ein geringes Maß an parasitären Aberrationen ist meist akzeptabel. Diese Freiheitsgrade müssen ausreichend schnell ansteuerbar sein.
Schließlich wird ein Regelkreis etabliert, in dem zuerst anhand der aktuellen Deformation des vorletzten Spiegels der resultierende feldabhängige Aberrationsvektor ermittelt wird. Dies kann durch Simulation und/oder durch mittels Kalibrierung generierte Nachschautabellen („look-up table“) geschehen. Ein schneller Optimierer bestimmt ein Rezept für die Korrekturfreiheitsgrade, welches eine Kompensation aller optisch relevanten Änderungen bewirkt. Im Rahmen der Regelung wird dieses Rezept zeitnah realisiert.
In bestimmten Ausführungsformen ist es möglich, das betreffende Rezept bereits für zukünftige Zeitpunkte zu ermitteln, wenn aus der vorgesehenen Aktuierung des vorletzten Spiegels dessen dabei auftretende Deformation vorhergesagt werden kann. In dieser günstigen Situation kann eine synchrone Kompensation erfolgen.
Anstelle der dargestellten Ausführungen, bei denen die Deformationseinrichtung auf den Nachbarspiegel M5 direkt wirkt, kann die abbildende Optik 7 auch so ausgeführt sein, dass eine Deformationseinrichtung derart, wie vorstehend beschrieben, deformierend auf einen anderen Spiegel der abbildenden Optik wirkt, wobei die Deformation der Reflexionsfläche des anderen Spiegels dann eine vorgegebene Kompensation von Deformationen des Nachbarspiegels M5 herbeiführt. In diesem Fall kann der Spiegel, auf den die Deformationseinrichtung direkt wirkt, ein Spiegel sein, der in einer Ebene im Abbildungsstrahlengang der abbildenden Optik 7 angeordnet ist, die zu einer Anordnungsebene des Nachbarspiegels M5 in der abbildenden Optik optisch konjugiert ist. Alle Ebenen, die hinsichtlich der Bündelform und der Winkelverteilung der Abbildungsstrahlen einander entsprechen, stellen zueinander optisch konjugierte Ebenen dar. Die beiden in diesem Fall betrachteten Spiegel, nämlich einerseits der Nachbarspiegel M5 und andererseits der Spiegel, auf den die Deformationseinrichtung wirkt, können dann beispielsweise in gleicher Weise feldnah oder pupillennah angeordnet sein.
Eine entsprechende abbildende Optik ist bekannt aus der WO 2010/028748 A1 .
In Bezug auf eine Charakterisierung einer Anordnung eines Spiegels im Verhältnis zur Lage einer Feldebene oder einer Pupillenebene innerhalb einer abbildenden Optik wird auf die WO 2009/024164 A1 verwiesen, bei der eine solche Positionscharakterisierung über einen Parameter P erfolgt, der ein Subaperturverhältnis des jeweiligen Spiegels quantifiziert.
d_w ist ein freier Arbeitsabstand des Spiegels M5 von der Bildebene 9. Dieser freie Arbeitsabstand ist definiert als der Abstand zwischen der Bildebene 9 und dem dieser nächstliegende Abschnitt einer genutzten Reflexionsfläche des nächstliegenden Spiegels der Projektionsoptik 7, also bei der Ausführung nach 2 des Spiegels M5. NA ist die bildseitige numerische Apertur. Bei der Projektionsoptik 7 beträgt der freie Arbeitsabstand d_w 39 mm.
Der fünfte Spiegel M5 stellt den Spiegel dar, der dem Objektfeld 5 in der Bildebene 9 nächstbenachbart ist. Der fünfte Spiegel M5 wird nachfolgend daher auch als Nachbarspiegel bezeichnet. Der Nachbarspiegel M5 hat einen Trägerkörper bzw. ein Substrat 21, auf dem die Reflexionsfläche des Nachbarspiegels M5 ausgebildet ist. Die Spiegel M1 bis M6 der Projektionsoptik 7 sind aus Zerodur ® gefertigt. Dieses Material hat ein Elastizitätsmodul von 90 GPa.
Der Trägerkörper 21 hat eine maximale Stärke von 35 mm, so dass zwischen einer der Reflexionsfläche des Spiegels M5 abgewandten Rückseite des Spiegels M5 und der Bildebene ein freier Arbeitsabstand von 4 mm verbleibt. Ein maximaler Durchmesser der genutzten Reflexionsfläche des Spiegels M5 beträgt bei der Projektionsoptik 7 285 mm. Ein Verhältnis zwischen diesem maximalen Durchmesser und der Stärke des Trägerkörpers 21 des Spiegels M5 beträgt daher 285/35 = 8,14. Auch andere derartige Verhältnisse, die nachfolgend auch als Aspektverhältnisse bezeichnet werden, im Bereich zwischen 6 und 20 sind möglich.
Zerodur ® hat im interessierenden Raumtemperaturbereich einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten von weniger als 50 × 10^-9 m/m/K. Die Trägerkörper 22 der Spiegel M1 bis M6 können auch aus einem anderen Material mit einem thermischen Expansionskoeffizienten aufgebaut sein, der höchstens 1 × 10^-7 m/m/K beträgt. Ein weiteres Beispiel für ein derartiges Material ist ULE ® mit einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten, der ebenfalls im interessierenden Raumtemperaturbereich kleiner ist als 50 × 10^-9 m/m/K, und das ein Elastizitätsmodul von 69 GPa hat.
Der Nachbarspiegel M5 liegt in einer Anordnungsebene im Abbildungsstrahlengang der Projektionsoptik 7, die zu einer Anordnungsebene, in der der dritte Spiegel M3 liegt, optisch konjugiert ist. Der im Abbildungsstrahlengang zwischenliegende Spiegel M4 wirkt also so, dass er diese beiden Anordnungsebenen der Spiegel M3 und M5 ineinander in etwa abbildet.
Der dritte Spiegel M3 kann als deformierbarer Spiegel ausgeführt sein. Zu Details einer entsprechenden aktorischen Deformationseinrichtung für den dritten Spiegel M3 wird verwiesen auf die WO 2010/028748 A1 . Ein Beitrag, den eine Deformation der Reflexionsfläche 22 des Nachbarspiegels M5 auf eine Abweichung von Abbildungseigenschaften der Projektionsoptik 7 von Vorgabewerten hat kann dann zumindest teilweise über eine Deformation der Reflexionsfläche des dritten Spiegels M3 kompensiert werden. Eine gezielte Deformation der Reflexionsfläche des dritten Spiegels M3 kann natürlich auch zur Korrektur bzw. Kompensation weiterer Abbildungsfehler, beispielsweise zur Petzval-Korrektur, herangezogen werden.
Die Reflexionsfläche des vorletzten Spiegels M5 und/oder des dritten Spiegels M3 kann als insgesamt zusammenhängend genutzte Reflexionsfläche ausgeführt werden, wobei Abschnitte dieser zusammenhängend genutzten Reflexionsfläche jeweils mit individuellen Aktoren in Verbindung stehen. Auch in einer solchen zusammenhängend genutzten Reflexionsfläche kann gegebenenfalls eine Durchtrittsöffnung für das Abbildungslicht 3 vorgesehen sein. Alternativ zu einer zusammenhängend genutzten Reflexionsfläche ist es möglich, den vorletzten Spiegel M5 und/oder den dritten Spiegel M3 mit einer Reflexionsfläche aus einer Mehrzahl voneinander getrennt bewegbaren Spiegelabschnitten auszustatten. Jeder dieser Spiegelabschnitte kann dann über eigene Aktoren individuell deformierbar sein, sodass auf diese Weise eine Deformation der durch die Gesamtheit der Spiegelabschnitte gebildeten Reflexionsfläche des dritten Spiegels M3 herbeigeführt wird.
Als Aktuatoren zur Deformation des dritten Spiegels M3 oder zur Deformation eines der Spiegelabschnitte des dritten Spiegels M3 können Aktuatoren zum Einsatz kommen, die beispielsweise in der US 7,443,619 B2 beschrieben sind. Es können insbesondere Lorentz-Aktuatoren zum Einsatz kommen. Die Aktuatorik des dritten Spiegels M3 kann mit hoher Bandbreite ansteuerbar sein. Dies ermöglicht es, auch durch Schwingungen bzw. Vibrationen des Nachbarspiegels M5 hervorgerufene Deformations-Abbildungseinflüsse durch den deformierbaren Spiegel M3 zu kompensieren. Die Deformationen des deformierbaren Spiegels M3 sind dann mit den Schwingungs-Deformationen des Nachbarspiegels M5 synchronisiert. Dies kann durch eine entsprechende sensorische Abtastung der Schwingungen des Spiegels M5 und eine hieraus abgeleitete Ansteuerung der Aktuatorik des deformierbaren Spiegels M3 realisiert werden.
Die Reflexionsflächen der Spiegel M1 bis M6 haben rotationssymmetrische asphärische Grundformen, die mittels bekannter Asphärengleichungen beschrieben werden können. Alternativ ist es möglich, zumindest einzelne der Spiegel M1 bis M6 als nicht durch eine rotationssymmetrische Funktion beschreibbare Freiformflächen auszuführen. Derartige Freiformflächen für Reflexionsflächen von Spiegeln von Projektionsoptiken von Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithografie sind bekannt aus der US 2007/0058269 A1 und der US 2008/0170310 A1 .
Anhand der 4 wird nachfolgend eine weitere Ausführung einer Deformationseinrichtung 28 zur gesteuerten Einleitung von Deformationen in die Reflexionsfläche 22 des Nachbarspiegels M5 beschrieben. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 3 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugszeichen und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
Bei der Ausführung nach 4 ist die Deformationseinrichtung 28 auf der Reflexionsflächenseite des Spiegelsubstrates 21 des Nachbarspiegels M5 angeordnet. Die Deformationseinrichtung kann Teil einer Multilayer-Beschichtung der Reflexionsfläche 22 sein und hat wiederum eine Mehrzahl bzw. eine Vielzahl von elektrostriktiven oder magnetostriktiven Aktoren zur Deformation der Reflexionsfläche 22 des Nachbarspiegels M5. Ein Beispiel für eine Ausführung der Deformationseinrichtung 28 ist gegeben in der DE 10 2015 213 273 A1 . Weitere Beispiele für derartige Reflexionsflächenseitige Deformationseinrichtungen finden sich Fachartikel „Wavefront correction in the extreme ultraviolet wavelength range using piezoelectric thin films“ von Bayraktar et al., Optics Express, 2014, volume 22, no 25, pages 30623 - 30632.
Die Deformationseinrichtung 28 kann insbesondere zwischen einer hochreflektierenden Multilayer-Schicht des Nachbarspiegels M5 und dem Spiegelsubstrat 21 dieses Spiegels M5 angeordnet sein. Die Aktoren der Deformationseinrichtung 28 sind wiederum mit der Steuer/Regeleinrichtung 25 in Signalverbindung. Zudem kann auch die Deformationseinrichtung 28 einen Passe-Sensor 26 aufweisen, wie vorstehend im Zusammenhang mit der Ausführung nach 3 beschrieben.
Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung ist der vorletzte Spiegel im Abbildungslicht-Strahlengang nicht obskuriert und der letzte Spiegel im Abbildungslicht-Strahlengang ist obskuriert, sodass also nur im letzten Spiegel eine Abbildungslicht-Durchtrittsöffnung vorliegt, nicht aber im vorletzten Spiegel. Hinsichtlich der Ausführung und Anordnung der Deformationseinrichtung 23 bzw. 28 gilt auch in diesem Fall, was vorstehend im Zusammenhang mit der abbildenden Optik 7 erläutert wurde.
Bei einer weiteren nicht dargestellten Ausführung der abbildenden Optik weisen weder der vorletzte noch der letzte Spiegel im Abbildungslicht-Strahlengang eine Abbildungslicht-Durchtrittsöffnung auf. Diese Ausführung kann insbesondere so gestaltet sein, dass die abbildende Optik insgesamt nicht obskuriert ist. Auch hier gilt in Bezug auf die Ausführung und Anordnung der Deformationseinrichtung 23 bzw. 28 das, was vorstehend im Zusammenhang mit der abbildenden Optik 7 erläutert wurde.
Zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauteils, insbesondere eines Halbleiter-Bauelements für die Mikroelektronik, also beispielsweise eines Mikrochips, wird folgendermaßen vorgegangen: Zunächst werden das Retikel 10 und der Wafer 11 bereitgestellt. Dann wird eine auf dem Retikel 10 vorliegende Struktur auf eine lichtempfindliche Schicht des Wafers 11 mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 projiziert. Durch Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht wird dann eine Mikro- bzw. Nanostruktur auf dem Wafer 11 erzeugt.
Entsprechende Designs der Projektionsoptik 7 wie dasjenige nach 2 können auch bei anderen Anwendungen als der Projektionsbelichtung zum Einsatz kommen, beispielsweise als Mikroskopobjektiv. In diesem Falle vertauschen das Objektfeld 4 und das Bildfeld 8 ihre Rollen. Der Spiegel M5, also der Nachbarspiegel, ist im Falle der Anwendung der Projektionsoptik 7 als Mikroskopobjektiv dann dem Objektfeld 8 nächstbenachbart.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

WO 2010/028748 A1 [0002, 0031, 0064, 0071]
WO 2010/091800 A1 [0002, 0039]
DE 102015213273 A1 [0002, 0015, 0076]
DE 102013219583 A1 [0002, 0015]
US 2006/0023179 A1 [0002]
WO 2009/024164 A1 [0007, 0065]
US 2016/0023179 A1 [0011, 0055]
US 7443619 B2 [0073]
US 2007/0058269 A1 [0074]
US 2008/0170310 A1 [0074]

Claims

Abbildende Optik (7) zur Abbildung eines Objektfeldes (4) in einer Objektebene (5) in ein Bildfeld (8) in einer Bildebene (9) - mit einer Mehrzahl von Spiegeln (M1 bis M6) zur Führung von Abbildungslicht (3) längs eines Strahlengangs zwischen dem Objektfeld (4) und dem Bildfeld (8), - wobei ein Spiegelsubstrat (21) mindestens eines der Spiegel (M5) mit einer Deformationseinrichtung (23;28) zur gesteuerten Einleitung von Deformationen in eine Reflexionsfläche (22) des Spiegels (M5) zur Kompensation von Deformationen des vorletzten Spiegels (M5) zusammenwirkt, - mit einer Steuer/Regeleinrichtung (25), die mit der Deformationseinrichtung (23;28) in Signalverbindung steht.
Abbildende Optik nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuer/Regeleinrichtung (25) derart ausgeführt ist, dass über eine Ansteuerfrequenz der Steuer/Regeleinrichtung (25) eine Steifigkeit des vorletzten Spiegels (M5) effektiv erhöht ist.
Abbildende Optik nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch mindestens einen Passe-Sensor (26) zur Erfassung einer Passe-Deformation der Reflexionsfläche (22) des vorletzten Spiegels (M5), der mit der Steuer/Regeleinrichtung (25) in Signalverbindung (27) steht.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass ein vorletzter Spiegel (M5), der räumlich dem Bildfeld (8) benachbart angeordnet ist, und ein letzter Spiegel (M6) im Strahlengang vor dem Bildfeld (8) jeweils eine Durchtrittsöffnung (19, 18) zum Durchtritt des Abbildungslichts (3) aufweisen.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass Deformationseinrichtung (28) auf einer Reflexionsflächenseite des Spiegelsubstrates (21) des vorletzten Spiegels (M5) angeordnet ist.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Deformationseinrichtung (23) auf einer Rückseite (24) des Spiegelsubstrats (21) des vorletzten Spiegels (M5) angeordnet ist, die einer Reflexionsflächenseite des Spiegelsubstrats (21) des vorletzten Spiegels (M5) gegenüberliegt.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 4 bis 6, gekennzeichnet durch eine Ausführung des Piezo-Aktors derart, dass über den Piezo-Aktor als Reaktion auf die Einleitung eines elektrischen Feldes mit Feldrichtungskomponente senkrecht zur Reflexionsfläche (22) des vorletzten Spiegels (M5) eine Deformations-Krafteinleitung mit Kraftvektorkomponente parallel zur Reflexionsfläche (22) des vorletzten Spiegels (M5) folgt.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 5 bis 7, gekennzeichnet durch eine Größe der Durchtrittsöffnung (18) im vorletzten Spiegel (M5) derart, dass für alle Feldpunkte eine Pupillenobskuration der abbildenden Optik (7) resultiert, deren Flächenanteil an einer gesamten Pupillenfläche der abbildenden Optik (7) kleiner ist als 9 %.
Abbildende Optik (7) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch einen Arbeitsabstand des vorletzten Spiegels (M5) zur Bildebene (9), der kleiner ist als 50 mm.
Optisches System - mit einer abbildenden Optik (7) nach einem der Ansprüche 1 bis 9 - mit einer Beleuchtungsoptik (6) zur Beleuchtung des Objektfeldes (4) mit Beleuchtungs- und Abbildungslicht (3).
Belichtungssystem mit einem optischen System nach Anspruch 10 und mit einer Lichtquelle (2) für das Beleuchtungslicht (3).
Projektionsbelichtungsanlage - mit einem Beleuchtungssystem nach Anspruch 11 - mit einem Retikelhalter (10a) zur Halterung eines Abschnitts eines abzubildenden Retikels (10) im Objektfeld (4) - mit einem Waferhalter (12) zur Halterung eines Abschnitts eines Wafers (11) im Bildfeld (8).
Verfahren zum Herstellen eines mikro- bzw. nanostrukturierten Bauteils mit folgenden Verfahrensschritten: - Bereitstellen eines Retikels (10) und eines Wafers (11), - Projizieren einer Struktur auf den Retikel (10) auf eine lichtempfindliche Schicht des Wafers (11) mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 12, - Erzeugen einer Mikro- und/oder Nanostruktur auf dem Wafer (11).
Bauteil, hergestellt nach einem Verfahren nach Anspruch 13.