JP2008525831A5

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Publication number: JP2008525831A5
Application number: JP2007547354A
Authority: JP
Filing date: 2005-12-22
Publication date: 2009-02-19
Anticipated expiration: 2025-12-22

Claims

対象物面からの放射を結像面に結像するよう構成されたマイクロリソグラフィー投影対物光学系であって、
前記対象物面からの放射を前記結像面へ向かわせるよう構成された複数の要素を含み、
前記マイクロリソグラフィー投影対物光学系は、像側開口数が０．５５よりも大きく、かつ、像側フィールド寸法の最大寸法が１ｍｍよりも大きく、
前記マイクロリソグラフィー投影対物光学系は反射光学系であり、
前記複数の要素には、開口部を有さない要素を少なくとも１つ含んでおり、
前記複数の要素には第１グループの要素と第２グループの要素が含まれ、第１グループの要素は、対象物面からの放射を中間像の面に結像するよう構成され、第２グループの要素は、前記中間像の面からの放射を結像面へ結像するよう構成されていることを特徴とするマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記第１グループの要素はいずれも、開口部を含まない、請求項１に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記第２グループの要素のうちの少なくとも１つは、対象物面からの放射を結像面へ通過させる開口部を含んでいる、請求項１又は２に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記第２グループの要素は、それぞれが凹面を有する２つの要素からなり、放射が各要素の凹面に接するよう構成されている、請求項１乃至３のうちいずれか一項に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記２つの要素は、第１凹面要素及び第２凹面要素であり、第１凹面要素は第１グループの要素からの光を受けるよう構成され、第２凹面要素は第１凹面要素からの放射を受けるよう構成され、前記結像面は第２凹面要素からの光を受けるようにされている、請求項４に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記第１凹面要素は、前記結像面まで光学軸に沿った距離を有し、その距離は１２ｍｍよりも大きい、請求項５に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記距離は１５ｍｍよりも大きい、請求項６に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記マイクロリソグラフィー投影対物光学系は光学軸を有し、少なくとも１つの要素が前記光学軸に対し回転対称である、請求項１乃至７のうちいずれか一項に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
第２グループの要素の２つの要素が、対象物面からの放射を結像面へ通過させる開口部を有している、請求項４乃至８のうちいずれか一項に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
第１グループの要素の数は６個以下である、請求項１乃至９のうちいずれか一項に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記６個の要素は、第１鏡、第２鏡、第３鏡、第４鏡、第５鏡、第６鏡であり、これらが対象物面から結像面への放射の経路に順に配置されている、請求項１０に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記第１鏡、第２鏡、第３鏡、第４鏡、第５鏡、第６鏡は、
凹面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡
という順列で配置されている、請求項１１に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記第１鏡、第２鏡、第３鏡、第４鏡、第５鏡、第６鏡は、
凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凸面鏡−凹面鏡
という順列で配置されている、請求項１１に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記第２鏡上又はその近傍に開口絞りが配置されている、請求項１０乃至１３のうちいずれか一項に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記第１鏡上又はその近傍に開口絞りが配置されている、請求項１０乃至１３のうちいずれか一項に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
第１凹面要素と第２凹面要素の間に開口絞りが配置されている、請求項５乃至１３のうちいずれか一項に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
主光線が前記対象物面のフィールドの中間フィールド点に入射する入射角が、すべての要素において２４°よりも小さい、請求項１乃至１６のうちいずれか一項に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
前記放射の波長λは、３０ｎｍよりも小さい、請求項１乃至１７のうちいずれか一項に記載のマイクロリソグラフィー投影対物光学系。