JP5982429B2 - 絞りを有する投影対物系 - Google Patents
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Description
SAR=sign h(r/(|h|+|r|))
rは、周縁光線高さを表し、hは、主光線高さを表し、符号関数sign xは、xの符号を表し、慣習的にsign 0=1が成り立つ。主光線高さは、絶対値で最大視野高さを有する物体視野の視野点の主光線の光線高さとして理解される。この場合、光線高さは、符号を有するとして理解される。周縁光線高さは、光軸と物体平面の交差点から発する最大開口を有する光線の光線高さとして理解される。この視野点は、特に軸外像視野の場合に、物体平面に配置されたパターンの伝達に寄与する必要はない。
IMI1、IMI2 実中間像
IS 像平面
OS 物体平面
Claims (9)
- 多数の透過光学要素と、投影対物系の結像ビーム経路に沿って該光学要素を規定可能な位置に保持するための保持デバイス(HD)とを有し、1つの光学要素が、該結像ビーム経路に位置する光学有用領域(OPT)と該光学有用領域の外側に位置する縁部領域(ER)とを有し、
該保持デバイスの少なくとも1つの保持要素(HE)が、接触ゾーン(CZ)の領域における該縁部領域で該光学要素に割り当てられ、
投影対物系の物体平面に配置された物体を投影対物系の像平面に位置する該物体の像内に結像するための投影対物系であって、
光学要素(L2−1、L2−2、L3−6)の少なくとも1つには、該光学要素の直ぐ上流に配置された偽光絞り(SLS1)と該光学要素の直ぐ下流に配置された第2の偽光絞り(SLS2)とを有する絞り配列(SA1、SA2、SA3)が割り当てられ、該偽光絞りの各々は、該偽光絞りが該縁部領域の少なくとも一部を結像ビーム経路の外側を進む放射線に対して遮蔽するように形成され
前記偽光絞り(SLS1、SLS2)の少なくとも1つは、外周方向にセグメント化された偽光絞りとして、該偽光絞りが前記縁部領域(ER)の一部のみを前記結像ビーム経路の外側を進む放射線に対して遮蔽し、該縁部領域の別の部分が該結像ビーム経路の外側を進む放射線に露光されるように形成される、
ことを特徴とする投影対物系。 - 前記光学要素(L2−1)は、前記光学有用領域の内側に非回転対称放射線負荷を有する領域に配置され、
外周方向にセグメント化された少なくとも1つの偽光絞り(SLS1、SLS2)は、該光学要素の該放射線負荷の非対称性が、前記結像ビーム経路の外側の前記縁部領域上に入射する前記放射線によって低減されるように、配置されることを特徴とする請求項1に記載の投影対物系。 - 1つの偽光絞りが、平坦な外縁区画(OP)を有し、該外縁区画には、前記光学要素に対して傾斜して延びて前記絞り縁部(SE1)を定める内側区画(IP)が、該絞り縁部の方向に接続され、該内側区画は、円錐形であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の投影対物系。
- 前記偽光絞り(SLS1、SLS2)は、前記遮蔽された光学要素の場合に前記接触ゾーンの一部のみ及び該接触ゾーンに割り当てられた前記保持要素の一部のみが結像ビーム縁部の外側を進む放射線に対して遮蔽されるように形成かつ配置されることを特徴とする請求項1、請求項2、又は請求項3のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 絞り配列(SA1)が設けられた前記光学要素(L2−1)は、部分口径比SARの絶対値が該光学要素の全ての光学面に対して0.3よりも小さい位置に配置されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系(200)が、物体視野を第1の実中間像(IMI1)に結像するための第1の対物系部分(OP1)と、該第1の対物系部分から到着する放射線を用いて第2の実中間像(IMI2)を生成するための第2の対物系部分(OP2)と、該第2の実中間像を前記像平面(IS)に結像するための第3の対物系部分(OP3)とを有し、
前記第2の対物系部分は、凹ミラー(CM)を有する反射屈折対物系部分であり、第1の折り返しミラー(FM1)が、前記物体平面から到着する前記放射線を該凹ミラーの方向に反射するために設けられ、第2の折り返しミラー(FM2)が、該凹ミラーから到着する該放射線を前記像平面の方向に反射するために設けられ、割り当てられた絞り配列(SA1、SA2)を有する少なくとも1つの光学要素(L2−1、L2−2)が、該凹ミラー(CM)と該折り返しミラー(FM1、FM2)の間の2回通過領域に配置される、
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の投影対物系。 - 正の屈折力の視野レンズ(L2−1)が、前記第1の実中間像(IMI1)と前記凹ミラー(CM)の間の該第1の実中間像の近視野領域に配置され、該視野レンズには、絞り配列(SA1)が割り当てられることを特徴とする請求項6に記載の投影対物系。
- 第1の絞り配列(SA1)及び少なくとも1つの第2の絞り配列(SA2、SA3)が設けられることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系の像面の領域に配置され、かつ該投影対物系の物体平面の領域に配置されたマスクのパターンの少なくとも1つの像を有する放射線感応基板を露光するための投影露光機械であって、
紫外線を出力するための光源(LS)と、
前記光源の光を受光し、かつマスクのパターン上に向けられる照明放射線を形成するための照明系(ILL)と、
前記マスクの構造を感光基板上に結像するための投影対物系(PO)と、
を有し、
前記投影対物系は、請求項1から請求項8のうちの1つに従って構成される、
ことを特徴とする機械。
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