JP2011248366A - 絞りを有する投影対物系 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】投影対物系(200)は、複数の透過光学要素、及び結像ビーム経路に沿って規定可能な位置に光学要素を保持するための保持デバイスを有し、光学要素の各々は、結像ビーム経路内に位置する光学有用領域と、光学有用領域の外側に位置する縁部領域とを有し、光学要素に割り当てられた保持デバイスの少なくとも1つの保持要素は、縁部領域における接触ゾーンの領域内で作用し、光学要素(L2−1、L2−2、L3−6)の少なくとも1つには、光学要素の直ぐ上流に配置された偽光絞りと、光学要素の直ぐ下流に配置された第2の偽光絞りとを有する絞り配列(SA1、SA2、SA3)が割り当てられ、偽光絞りの各々は、偽光絞りが縁部領域の少なくとも一部を結像ビーム経路の外側を進む放射線に対して遮蔽するように形成される。
【選択図】図2
Description
SAR=sign h(r/(|h|+|r|))
rは、周辺光線高さを表し、hは、主光線高さを表し、符号関数sign xは、xの符号を表し、慣習的にsign 0=1が成り立つ。主光線高さは、絶対値で最大視野高さを有する物体視野の視野点の主光線の光線高さとして理解される。この場合、光線高さは、符号を有するとして理解される。周辺光線高さは、光軸と物体平面の交差点から発する最大開口を有する光線の光線高さとして理解される。この視野点は、特に軸外像視野の場合に、物体平面に配置されたパターンの伝達に寄与する必要はない。
IMI1、IMI2 実中間像
IS 像平面
OS 物体平面
Claims (15)
- 多数の透過光学要素と、投影対物系の結像ビーム経路に沿って該光学要素を規定可能な位置に保持するための保持デバイス(HD)とを有し、1つの光学要素が、該結像ビーム経路に位置する光学有用領域(OPT)と該光学有用領域の外側に位置する縁部領域(ER)とを有し、該縁部領域が、接触ゾーン(CZ)の領域における該縁部領域で該光学要素に割り当てられた該保持デバイスの少なくとも1つの保持要素(HE)に対して作用する、投影対物系の物体平面に配置された物体を投影対物系の像平面に位置する該物体の像内に結像するための投影対物系であって、
光学要素(L2−1、L2−2、L3−6)の少なくとも1つには、該光学要素の直ぐ上流に配置された偽光絞り(SLS1)と該光学要素の直ぐ下流に配置された第2の偽光絞り(SLS2)とを有する絞り配列(SA1、SA2、SA3)が割り当てられ、該偽光絞りの各々は、該偽光絞りが該縁部領域の少なくとも一部を結像ビーム経路の外側を進む放射線に対して遮蔽するように形成される、
ことを特徴とする投影対物系。 - 1つの偽光絞りが、絞り開口部を定める内側絞り縁部(SE)を有し、該絞り縁部と前記光学要素の関連の光学面との間の有限の間隔が、該絞り縁部の外周全体にわたって2mmよりも小さく、特に、1mmよりも小さく、該絞り縁部と該光学面の間の最小間隔が、好ましくは、1/10mm又はそれよりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の投影対物系。
- 1つの偽光絞りが、好ましくは、平坦な外縁区画(OP)を有し、該外縁区画には、前記光学要素に対して傾斜して延びて前記絞り縁部(SE1)を定める内側区画(IP)が、該絞り縁部の方向に接続され、該内側区画は、好ましくは、円錐形であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の投影対物系。
- 前記偽光絞りは、前記光学要素の場合に全ての接触ゾーン(CZ)及び該接触ゾーンに割り当てられた保持要素(HE)が前記結像ビーム経路の外側を進む放射線に対して遮蔽されるように形成かつ配置されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記偽光絞り(SLS1、SLS2)は、前記遮蔽された光学要素の場合に前記接触ゾーンの一部のみ及び該接触ゾーンに割り当てられた前記保持要素の一部のみが結像ビーム縁部の外側を進む放射線に対して遮蔽されるように形成かつ配置されることを特徴とする請求項1、請求項2、又は請求項3のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記偽光絞りは、円形の絞り開口部を有し、該偽光絞りが前記結像ビーム経路を制限しないように該結像ビーム経路の縁部を進む結像ビームの光線と前記内側絞り縁部(SE)の間に間隔が存在し、前記割り当てられた光学要素(L2−2)は、好ましくは、投影対物系の瞳に又はその近くに位置することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 絞り配列の前記偽光絞りは、絞り開口部を有し、その形状は、前記絞り縁部とビームの間の間隔が、該絞り開口部の外周の少なくとも80%にわたって最大で2mm、特に、1mm又はそれ未満であり、少なくとも1/10mmの横方向最小間隔が、好ましくは、絞り縁部全体にわたって前記結像ビームと該絞り縁部の間に残るように前記結像ビーム経路における該結像ビームの断面形状に適合されることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 少なくとも1つの凹ミラー(CM)を有し、
前記結像ビーム経路は、前記物体平面(OS)と該凹ミラーの間に延びる第1の部分ビーム経路(RB1)と、該凹ミラーと前記像平面(IS)の間に延びる第2の部分ビーム経路(RB2)とを有し、前記光学要素(L2−1、L2−2)及び割り当てられた偽光絞り(SLS1、SLS2)は、該第1及び該第2の部分ビーム経路が該光学要素の前記有用領域を通りかつ該偽光絞りを通って延びるように2回通過領域に配置されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の投影対物系。 - 前記偽光絞り(SLS1、SLS2)の少なくとも1つは、外周方向にセグメント化された偽光絞りとして、該偽光絞りが前記縁部領域(ER)の一部のみを前記結像ビーム経路の外側を進む放射線に対して遮蔽し、該縁部領域の別の部分が該結像ビーム経路の外側を進む放射線に露光されるように形成されることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記光学要素(L2−1)は、前記光学有用領域の内側に非回転対称放射線負荷を有する領域に配置され、外周方向にセグメント化された少なくとも1つの偽光絞り(SLS1、SLS2)は、該光学要素の該放射線負荷の非対称性が前記結像ビーム経路の外側の前記縁部領域上に入射する前記放射線によって低減されるように、該光学有用領域における該放射線負荷の空間分布に適合されることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 絞り配列(SA1)が設けられた前記光学要素(L2−1)は、光学的に視野平面の近くに、特に、部分口径比SARの絶対値が該光学要素の前記光学面の全てに対して0.3よりも小さい位置に配置されることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系(200)が、物体視野を第1の実中間像(IMI1)に結像するための第1の対物系部分(OP1)と、該第1の対物系部分から到着する放射線を用いて第2の実中間像(IMI2)を生成するための第2の対物系部分(OP2)と、該第2の実中間像を前記像平面(IS)に結像するための第3の対物系部分(OP3)とを有し、
前記第2の対物系部分は、凹ミラー(CM)を有する反射屈折対物系部分であり、第1の折り返しミラー(FM1)が、前記物体平面から到着する前記放射線を該凹ミラーの方向に反射するために設けられ、第2の折り返しミラー(FM2)が、該凹ミラーから到着する該放射線を前記像平面の方向に反射するために設けられ、割り当てられた絞り配列(SA1、SA2)を有する少なくとも1つの光学要素(L2−1、L2−2)が、該凹ミラー(CM)と該折り返しミラー(FM1、FM2)の間の2回通過領域に配置される、
ことを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の投影対物系。 - 正の屈折力の視野レンズ(L2−1)が、前記第1の中間像(IMI1)と前記凹ミラー(CM)の間の該第1の中間像の近視野領域に配置され、該視野レンズには、絞り配列(SA1)が割り当てられることを特徴とする請求項12に記載の投影対物系。
- 第1の絞り配列(SA1)及び少なくとも1つの第2の絞り配列(SA2、SA3)が設けられることを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系の像面の領域に配置され、かつ該投影対物系の物体平面の領域に配置されたマスクのパターンの少なくとも1つの像を有する放射線感応基板を露光するための投影露光機械であって、
紫外線を出力するための光源(LS)と、
前記光源の光を受光し、かつマスクのパターン上に向けられる照明放射線を形成するための照明系(ILL)と、
前記マスクの構造を感光基板上に結像するための投影対物系(PO)と、
を有し、
前記投影対物系は、請求項1から請求項14のうちの1つに従って構成される、
ことを特徴とする機械。
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