JP2008286888A5 - - Google Patents

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Claims (7)

  1. 物体面から像面に至る光路において、反射光学部材として第一凹反射面、凸反射面、第二凹反射面が順に配列された投影光学系において、
    前記投影光学系は、前記物体面と前記第一凹反射面との間、前記第一凹反射面と前記凸反射面との間、前記凸反射面と前記第二凹反射面との間、及び、前記第二凹反射面と前記像面との間のそれぞれにパワーを有する屈折光学部材を含み、かつ、前記投影光学系の軸外に輪帯状良像域を有し、
    前記反射光学部材のパワーの総和をφ１とし、前記屈折光学部材のパワーの総和をφ２としたとき、φ１及びφ２が、
    ０．００１≦｜φ２／φ１｜≦０．１
    を満たすことを特徴とする投影光学系。
  2. 前記第一凹反射面の近軸曲率半径をRとし、前記第一凹反射面の近軸曲率中心と前記凸反射面の近軸曲率中心との差をΔSとしたとき、ΔSは、
    ０．００２＜｜ΔS／R｜≦０．２
    を満たすことを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
  3. 前記第一凹反射面と前記第二凹反射面とは、単一の光学部材の各一部であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影光学系。
  4. 前記第一凹反射面と前記第二凹反射面とは、同一光学特性を有する別の光学部材であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影光学系。
  5. 前記第一凹反射面と前記第二凹反射面とは、互いに異なる倍率を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影光学系。
  6. 前記物体はパターンが形成されたマスクであり、前記像面はレジストが塗布された基板の表面であり、
    前記マスクに形成されたパターンを前記基板上に投影露光する、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の投影光学系を有することを特徴とする露光装置。
  7. 請求項６に記載の露光装置を用いて基板を投影露光する工程と、
    前記投影露光された基板を現像する工程と
    を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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