JP2004158786A5 - - Google Patents
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- ＥＵＶ光を用いてレチクルのパターンを縮小投影する投影光学系において、
凹面形状の第１ミラー、凹面形状の第２ミラー、凸面形状の第３ミラー、凹面形状の第４ミラー、凸面形状の第５ミラー、凹面形状の第６ミラーの順に光を反射するように配置された６枚のミラーを有しており、
前記６枚のミラーのそれぞれの曲率半径の絶対値が１５００ｍｍ以下であることを特徴とする投影光学系。 - 前記投影光学系は、前記レチクルのパターンの中間像を前記第４ミラーと前記第５ミラーとの間に形成することを特徴とする請求項１記載の投影光学系。
- ＥＵＶ光を用いてレチクルのパターンを縮小投影する投影光学系において、
凹面形状の第１ミラー、第２ミラー、凸面形状の第３ミラー、凹面形状の第４ミラー、凸面形状の第５ミラー、凹面形状の第６ミラーの順に光を反射するように配置された６枚のミラーを有しており、
前記６枚のミラーのそれぞれの曲率半径の絶対値が１５００ｍｍ以下であって、
前記投影光学系は、前記レチクルのパターンの中間像を前記第４ミラーと前記第５ミラーとの間に形成することを特徴とする投影光学系。 - レチクル上に形成されたパターンを被投影面上に縮小投影する投影光学系は、前記パターン側から順に、凹形状の反射面を持つ第１ミラー、反射面を持つ第２ミラー、凸形状の反射面を持つ第３ミラー、凹形状の反射面を持つ第４ミラー、凸形状の反射面を持つ第５ミラー、凹形状の反射面を持つ第６ミラーを有しており、
前記第４ミラーの曲率半径の絶対値は４００ｍｍ以上８００ｍｍ以下であることを特徴とする投影光学系。 - レチクル上に形成されたパターンを被投影面上に縮小投影する投影光学系は、前記パターン側から順に、凹形状の反射面を持つ第１ミラー、反射面を持つ第２ミラー、凸形状の反射面を持つ第３ミラー、凹形状の反射面を持つ第４ミラー、凸形状の反射面を持つ第５ミラー、凹形状の反射面を持つ第６ミラーを有しており、
前記第６ミラーの反射面の曲率半径の絶対値は４００ｍｍ以上６００ｍｍ以下であることを特徴とする投影光学系。 - 前記第１ミラーの反射面の曲率半径、前記第２ミラーの反射面の曲率半径、前記第３ミラーの反射面の曲率半径、前記第４ミラーの反射面の曲率半径、前記第５ミラーの反射面の曲率半径、前記第６ミラーの反射面の曲率半径の絶対値は、いずれも１５００ｍｍ以下であることを特徴とする請求項４又は５記載の投影光学系。
- レチクル上に形成されたパターンを被投影面上に縮小投影する投影光学系は、前記パターン側から順に、凹形状の反射面を持つ第１ミラー、反射面を持つ第２ミラー、凸形状の反射面を持つ第３ミラー、凹形状の反射面を持つ第４ミラー、凸形状の反射面を持つ第５ミラー、凹形状の反射面を持つ第６ミラーを有しており、
前記第４ミラーの曲率半径の絶対値は４００ｍｍ以上８００ｍｍ以下であり、
前記第６ミラーの反射面の曲率半径の絶対値は４００ｍｍ以上６００ｍｍ以下であり、
前記第１ミラーの反射面の曲率半径、前記第２ミラーの反射面の曲率半径、前記第３ミラーの反射面の曲率半径、前記第４ミラーの反射面の曲率半径、前記第５ミラーの反射面の曲率半径、前記第６ミラーの反射面の曲率半径の絶対値は、いずれも１５００ｍｍ以下であることを特徴とする投影光学系。 - 前記レチクルを前記ＥＵＶ光により照明する照明光学系と、
前記レチクルからの光を前記被投影面に導く、請求項１乃至７いずれかに記載の投影光学系と有することを特徴とする露光装置。 - 請求項８に記載の露光装置によりデバイスパターンでウエハを露光する段階と、該露光したウエハを現像する段階とを含むデバイス製造方法。
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