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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面の中間像を形成するための反射屈折型の第１結像光学系と、前記中間像からの光に基づいて前記第１面の最終像を第２面上にテレセントリックに形成するための屈折型の第２結像光学系とを備えた反射屈折光学系であって、
前記第１結像光学系は、少なくとも１つの正レンズ成分を含むレンズ群と、前記レンズ群を透過した光を反射する第１の反射面と、前記第１の反射面で反射した光を前記第２結像光学系へ導くための第２の反射面とを有し、
前記第１及び第２の反射面の少なくともいずれか一方は凹面反射面であり、前記第２結像光学系は開口絞りを有し、前記反射屈折光学系が有する全ての光学素子成分は単一の直線状の光軸上に設けられ、前記第１面と前記第２面とは相互にほぼ平行な平面であり、
前記反射屈折光学系の射出瞳はほぼ円形であることを特徴とする反射屈折光学系。
【請求項２】
前記第１結像光学系を進行する光線は、前記第１結像光学系における前記光軸に垂直な平面を少なくとも３回通過することを特徴とする請求項１に記載の反射屈折光学系。
【請求項３】
前記第１結像光学系中の前記レンズ群を通過した前記光は、前記平面を通過して前記第１の反射面に達し、前記第１の反射面で反射された前記レンズ群からの光は、前記平面を通過して前記第２の反射面に達し、前記第２の反射面で反射された前記第１の反射面からの光は、前記平面を通過した後、前記第１面の中間像を形成することを特徴とする請求項１又は２に記載の反射屈折光学系。
【請求項４】
前記第１及び第２の反射面のうちの前記凹面反射面の焦点距離をｆＭ１、前記第１面から前記第２面までの光軸に沿った距離をＬとそれぞれしたとき、
０．０４＜｜ｆＭ１｜＜／Ｌ＜０．４
の条件を満足することを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の反射屈折光学系。
【請求項５】
前記第１及び第２の反射面のうちの前記凹面反射面の倍率をβＭ１としたとき、
０．６＜｜βＭ１｜＜２０
の条件を満足することを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の反射屈折光学系。
【請求項６】
前記第１結像光学系の倍率をβ１としたとき、
０．３＜｜β１｜＜１．８
の条件を満足することを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の反射屈折光学系。
【請求項７】
前記反射屈折光学系を構成する全ての屈折部材は、単一種類の硝材からなることを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載の反射屈折光学系。
【請求項８】
前記反射屈折光学系を構成する全ての屈折部材は、蛍石を含む複数種類の硝材からなることを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載の反射屈折光学系。
【請求項９】
前記第１面側に対してテレセントリックであることを特徴とする請求項１から８の何れか１項に記載の反射屈折光学系。
【請求項１０】
前記第２面側に投影される有効領域は、円弧形状であることを特徴とする請求項１から９の何れか１項に記載の反射屈折光学系。
【請求項１１】
所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、
前記第１面上に配置された前記マスクの前記所定のパターンの像を前記第２面上に配置された感光性基板上に投影するための請求項１から１０の何れか１項に記載の反射屈折光学系とを備えていることを特徴とする投影露光装置。
【請求項１２】
前記マスクと前記感光性基板とを前記反射屈折光学系の倍率を速度比として同期走査することを特徴とする請求項１１に記載の反射屈折光学系。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、第１面の中間像を形成するための反射屈折型の第１結像光学系と、前記中間像からの光に基づいて前記第１面の最終像を第２面上にテレセントリックに形成するための屈折型の第２結像光学系とを備えた反射屈折光学系であって、前記第１結像光学系は、少なくとも１つの正レンズ成分を含むレンズ群と、前記レンズ群を透過した光を反射する第１の反射面と、前記第１の反射面で反射した光を前記第２結像光学系へ導くための第２の反射面とを有し、前記第１及び第２の反射面の少なくともいずれか一方は凹面反射面であり、前記第２結像光学系は開口絞りを有し、前記反射屈折光学系が有する全ての光学素子成分は単一の直線状の光軸上に設けられ、前記第１面と前記第２面とは相互にほぼ平行な平面であり、前記反射屈折光学系の射出瞳はほぼ円形であることを特徴とする反射屈折光学系を提供する。ここで、第２の反射面は第１面からの光を第１の反射面の方向へ通過又は透過させるために軸外に開口部（孔）を有し、第１の反射面も前記第２の反射面で反射した光を第２結像光学系の方向へ通過又は透過させるための開口部（孔）を有している。射出瞳はほぼ円形であるとは、光軸の中心近傍に遮蔽物が存在しないことを意味している。
また、本発明では、前記第１結像光学系を進行する光線は、前記第１結像光学系における前記光軸に垂直な平面を少なくとも３回通過することが望ましい。
また、本発明では、前記第１結像光学系中の前記レンズ群を通過した前記光は、前記平面を通過して前記第１の反射面に達し、前記第１の反射面で反射された前記レンズ群からの光は、前記平面を通過して前記第２の反射面に達し、前記第２の反射面で反射された前記第１の反射面からの光は、前記平面を通過した後、前記第１面の中間像を形成することが望ましい。
また、本発明では、前記反射屈折光学系を構成する全ての屈折部材は、単一種類の硝材からなることが望ましい。
また、本発明では、前記反射屈折光学系を構成する全ての屈折部材は、蛍石を含む複数種類の硝材からなることが望ましい。
また、本発明では、前記第１面側に対してテレセントリックであることが望ましい。
また、本発明では、前記第２面側に投影される有効領域は、円弧形状であることが望ましい。
また、本発明は、所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、前記第１面上に配置された前記マスクの前記所定のパターンの像を前記第２面上に配置された感光性基板上に投影するための請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射屈折光学系とを備えていることを特徴とする投影露光装置を提供する。
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