KR960029907A - 노광 장치 - Google Patents

노광 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR960029907A
KR960029907A KR1019960000847A KR19960000847A KR960029907A KR 960029907 A KR960029907 A KR 960029907A KR 1019960000847 A KR1019960000847 A KR 1019960000847A KR 19960000847 A KR19960000847 A KR 19960000847A KR 960029907 A KR960029907 A KR 960029907A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
lens group
optical system
reflection mirror
concave
positive lens
Prior art date
Application number
KR1019960000847A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100385813B1 (ko
Inventor
마사토 쿠마자와
Original Assignee
오노 시게오
가부시끼가이샤 니콘
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오노 시게오, 가부시끼가이샤 니콘 filed Critical 오노 시게오
Publication of KR960029907A publication Critical patent/KR960029907A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100385813B1 publication Critical patent/KR100385813B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/22—Telecentric objectives or lens systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/002—Arrays of reflective systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/008—Systems specially adapted to form image relays or chained systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명의 목적은 노광 영역이 큰 경우라도, 생산량을 저하시키지 않고, 각각 충분한 작업 거리를 확보하고 양호한 결상 성능을 가질 수 있는 복수의 조밀한 투영 광학계를 사용함으로써 만족스러운 광학 성능을 갖는 투영 광학계 성능을 가질 수 있는 고성능 고밀도 노광 장치를 제공하는 데에 있다. 마스크 및 플레이트를 이동시키면서 마스크의 영상을 플레이트로 투영 및 노광시키는 본 발명의 노광 장치는 각각 실제－크기 및 양측 텔레센트릭하고 마스크 상의 직립상을 플레이트 위에 형성시키는 제1투영 광학계 및 제2투영 광하계를 갖는다. 제1 또는 제2투영 광학계는 정의 굴절력을 갖는 굴절 광하계 및 굴절 광학계로부터 굴절 광학계로 향하는 광속을 반사시키는 오목 반사 거울을 갖는다.

Description

노광 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예에 따르는 투영 광학계의 배열을 도시한 도면.

Claims (12)

  1. 제1물체와 제2물체를 이동시키면서 상기 제1물체의 상을 상기 제2물체에 투영 및 전이하는 노광 장치에 있어서, 상기 제1물체의 정의 수평 및 수직 횡배율의 실제－크기 정립상을 상기 제2물체 위에 형성시키는 제1의 양측 텔레센트릭한 투영 광학계; 및 상기 제1물체의 정의 수평 및 수직 횡배율의 실제－크기 정립상을 상기 제2물체 위에 형성시키는 제2투영 광학계로 이루어지며, 상기 제1 및 제2투영 광학계가 각각 상기 제1물체상으로부터의 광속을 1차 영상을 형성하도록 집광시키는 제1결상 광학계; 및 상기 1차 영상으로부터의 광속을 2차 영상을 형성하도록 집광시키는 제2결상 광학계로 이루어지며, 상기 제1결상 광학계는 정의 굴절력을 갖는 제1정의 렌즈 그룹; 부의 굴절력을 갖는 제1부의 렌즈 그룹; 및 제1오목 반사 거울로 이루어지고, 상기 제1물체로부터의 광속이 상기 제1정의 렌즈 그룹 및 상기 제1부의 렌즈 그룹을 통과하여 상기 제1오목 거울에 의해 반사되어 상기 제1부의 렌즈 그룹 및 상기 제1정의 렌즈 그룹을 다시 통과함으로써 상기 1차 영상을 형성하며, 상기 제2결상 광학계는, 정의 굴절력을 갖는 제2정의 렌즈 그룹; 부의 굴절력을 갖는 제2부의 렌즈 그룹; 및 제2오목 반사 거울로 이루어지고, 상기 제1물체로부터의 광속이 상기 제2정의 렌즈 그룹 및 상기 제2부의 렌즈 그룹을 통과하여 상기 제2오목 거울에 의해 반사되어 상기 제2부의 렌즈 그룹 및 상기 제2정의 렌즈 그룹을 다시 통과함으로써 상기 2차 영상을 형성함을 특징으로 하는 노광 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1결상 광학계의 상기 제1의 렌즈 그룹의 촛점 길이를 fGP, 상기 제1결상 광학계에서 상기 제1부의 렌즈 그룹의 촛점을 길이를 fGN라 할때 다음의 관계가 만족됨을 특징으로 하는 노광 장치.
    3＜｜fGN／fGP｜
  3. 제1항에 있어서, 상기 제2결상 광학계의 상기 제2정의 렌즈 그룹의 촛점 길이를 fGP, 상기 제2결상 광학계에서 상기 제2부의 렌즈 그룹의 촛점 길이를 fGN라 할때 다음의 관계가 만족됨을 특징으로 하는 노광 장치.
    3＜｜fGN／fGP｜
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1부의 렌즈 그룹이 제1정의 그룹측을 향하는 볼록면을 갖는 부의 메니스쿠스 렌즈를 포함하고, 상기 제1정의 렌즈 그룹측 위의 상기 부의 메니스쿠스 렌즈의 렌즈 표면의 곡률 반경을 r1N, 제1오목 반사 거울측 위의 상기부의 메니스쿠스 렌지의 렌즈 표면의 곡률 반경을 r2N, 상기 부의 메니스쿠스 렌즈의 상기 제1오목 반사 거울측에 해당하는 영상측 주점으로부터 상기 제1오목 반사 거울까지의 광축상 거리를 LNM, 및 상기 제1물체로부터 상기 오목 반사 거울까지의 광축상 거리가 TL이라 할 때 다음 관계를 만족시킴을 특징으로 하는 노광 장치.
    －30＜q＜－3
    －4＜LNM／TL＜0.2
    상기 식에서, q＝(r2N＋r1N)／(r2N－r／1N)
  5. 제1항에 있어서, 상기 제2부의 렌즈 그룹이 제2정의 렌즈 그룹측을 향하는 볼록면을 갖는 부의 메니스쿠스 렌즈를 포함하고, 상기 제2정의 렌즈 그룹측 위의 상기 부의 메니스쿠스 렌즈의 렌즈 표면의 곡률 반경을 r1N, 제2오목 반사 거울측 위의 상기부의 메니스쿠스 렌지의 렌즈 표면의 곡률 반경을 r2N, 상기 부의 메니스쿠스 렌즈의 상기 제2오목 반사 거울측에 해당하는 영상측 주점으로부터 상기 제2오목 반사 거울까지의 광축상 거리를 LNM, 및 상기 제2물체로부터 상기 오목 반사 거울까지의 광축상 거리가 TL이라 할 때 다음 관계를 만족시킴을 특징으로 하는 노광 장치.
    －30＜q＜－3
    －4＜LNM／TL＜0.2
    상기 식에서, q＝(r2N＋r1N)／(r2N－r／1N).
  6. 제1항에 있어서, 상기 제1정의 그룹의 제1오목 반사 거울측을 해당하는 영상측 주점으로부터 상기 제1부의 렌즈 그룹의 제1오목 반사 거울측에 해당하는 영상측 주점까지의 거리를 LGP－GN, 상기 제1물체로부터 상기 제1오목 반사 거울까지의 광축상의 거리를 TL이라 할 때, 다음 관계를 만족시킴을 특징으로 하는 노광 장치.
    0.35＜LGP－GN／TL
  7. 제1항에 있어서, 상기 제2정의 그룹의 제2오목 반사 거울측에 해당하는 영상측 주점으로부터 상기 제2부의 렌즈 그룹의 제2오목 반사 거울측에 해당하는 영상측 주점까지의 거리를 LGP－GN, 상기 제1물체로부터 상기 제2오목 반사 거울까지의 광축상의 거리를 TL이라 할 때, 다음 관계를 만족시킴을 특징으로 하는 노광 장치.
    0.35＜LGP－GN／TL
  8. 제1항에 있어서, 상기 제1결상 광학계에서 상기 제1오목반사 거울의 곡률 반경을 rM, 상기 제1정의 렌즈 그룹의 촛점 길이를 fGP, 상기 제1물체로부터상기 제1오목 반사 거울까지의 광축상 거리를 TL이라 할 때, 다음 관계가 만족됨을 특징으로 하는 노광 장치.
    0.95＜｜rM／TL｜＜1.08
    0.3＜fGP／TL＜1.0
  9. 제1항에 있어서, 상기 제2결상 광학계에서 상기 제2오목 반사 거울의 곡률 반경을 rM, 상기 제2정의 렌즈 그룹의 촛점 길이 fGP, 상기 이차 영상으로부터 상기 제2오목 반사 거울까지의 거리를 TL이라 할 때, 다음 관계를 만족시킴을 특징으로 하는 노광 장치.
    0.95＜｜rM／TL｜＜1.08
    0.3＜fGP／TL＜1.0
  10. 제1항에 있어서, 상기 제1부의 렌즈 그룹이 상기 제1정의 렌즈그룹으로부터 차례로 상기 제1정의 렌즈 그룹측을 향하는 오목 표면을 갖는 정의 렌즈 및 부의 메니스쿠스 렌즈를 가지며, 상기 제2부의 렌즈 그룹이 상기 제2정의 렌즈 그룹으로부터 차례로 상기 제2정의 렌즈 그룹측을 향하는 오목 표면을 갖는 정의 렌즈 및 부의 메니스쿠스 렌즈를 가짐을 특징으로 하는 노광 장치.
  11. 제1항에 있어서, 상기 제1부의 렌즈 그룹이 상기 제1오목 반사 거울에 결합된 부의 메니스쿠스 렌즈를 가지며, 상기 제2부의 렌즈가 상기 제2오목 반사 거울에 결합된 부의 메니스쿠스 렌지를 가짐을 특징으로 하는 노광 장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 제1결상 광학계가 상기 제1물체로부터 상기 제1정의 렌즈 그룹을 향하여 편향되며 상기 제1정의 렌즈 그룹으로부터 상기 제2결상 광학계를 향하여 편향되는 제1반사 부재를 가지며, 상기 제2결상 광학계가 상기 제1결상 광학계로부터 상기 제2정의 렌즈 그룹을 향하여 편향되며 상기 제2정의 렌즈 그룹으로부터 상기 제2물체를 향하여 편향되는 제2반사 부재를 가짐을 특징으로 하는 노광 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960000847A 1995-01-18 1996-01-17 노광장치 KR100385813B1 (ko)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP005835/95 1995-01-18
JP583595 1995-01-18
JP005835/1995 1995-01-18
JP136779/1995 1995-06-02
JP13677995A JP3724517B2 (ja) 1995-01-18 1995-06-02 露光装置
JP136779/95 1995-06-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960029907A true KR960029907A (ko) 1996-08-17
KR100385813B1 KR100385813B1 (ko) 2004-06-14

Family

ID=26339846

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960000847A KR100385813B1 (ko) 1995-01-18 1996-01-17 노광장치

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0723173B1 (ko)
JP (1) JP3724517B2 (ko)
KR (1) KR100385813B1 (ko)
DE (1) DE69630548T2 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100485376B1 (ko) * 1996-10-01 2005-09-12 가부시키가이샤 니콘 투영광학계와이를구비하는노광장치,및디바이스제조방법

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5585972A (en) * 1995-02-15 1996-12-17 Ultratech Stepper, Inc. Arbitrarily wide lens array with an image field to span the width of a substrate
JPH09293676A (ja) * 1996-04-24 1997-11-11 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
DE19757074A1 (de) 1997-12-20 1999-06-24 Zeiss Carl Fa Projektionsbelichtungsanlage und Belichtungsverfahren
JP3708845B2 (ja) * 2001-06-19 2005-10-19 株式会社ミツトヨ 両テレセントリック対物レンズ
JP2004354909A (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Orc Mfg Co Ltd 投影露光装置および投影露光方法
CN100388056C (zh) * 2006-06-02 2008-05-14 上海微电子装备有限公司 一种投影物镜光学系统
JP5782336B2 (ja) 2011-08-24 2015-09-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
KR101924309B1 (ko) * 2011-12-20 2018-11-30 가부시키가이샤 니콘 기판 처리 장치, 디바이스 제조 시스템 및 디바이스 제조 방법
CN110045580B (zh) * 2013-06-14 2021-07-23 株式会社尼康 扫描曝光装置
JP2016080870A (ja) * 2014-10-17 2016-05-16 財団法人國家實驗研究院 共役共通光路リソグラフィレンズ
JP2022022911A (ja) 2020-07-10 2022-02-07 キヤノン株式会社 結像光学系、露光装置、および物品製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4171871A (en) * 1977-06-30 1979-10-23 International Business Machines Corporation Achromatic unit magnification optical system
US4769680A (en) * 1987-10-22 1988-09-06 Mrs Technology, Inc. Apparatus and method for making large area electronic devices, such as flat panel displays and the like, using correlated, aligned dual optical systems
US5298939A (en) * 1991-11-04 1994-03-29 Swanson Paul A Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning
JPH06118341A (ja) * 1991-11-11 1994-04-28 Topcon Corp 走査型投影装置
JP3385718B2 (ja) * 1994-05-30 2003-03-10 株式会社ニコン 露光装置及び方法
US5585972A (en) * 1995-02-15 1996-12-17 Ultratech Stepper, Inc. Arbitrarily wide lens array with an image field to span the width of a substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100485376B1 (ko) * 1996-10-01 2005-09-12 가부시키가이샤 니콘 투영광학계와이를구비하는노광장치,및디바이스제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
DE69630548D1 (de) 2003-12-11
JPH08255746A (ja) 1996-10-01
EP0723173A3 (en) 1997-10-08
EP0723173B1 (en) 2003-11-05
DE69630548T2 (de) 2004-09-23
KR100385813B1 (ko) 2004-06-14
JP3724517B2 (ja) 2005-12-07
EP0723173A2 (en) 1996-07-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1059550A4 (en) REFRACTION REFLECTION IMAGE FORMING SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS INCLUDING THE OPTICAL SYSTEM
KR960032097A (ko) 투영 노광 장치
JP2001027727A5 (ko)
US6012816A (en) Optical projection apparatus and method
KR960024506A (ko) 반사굴절 광학계
EP1091230A3 (en) Projection optical system that projects an image of a pattern formed on a reticle onto a substrate
KR960029910A (ko) 반사굴절 축소 투영 광학계 및 그를 사용하는 노광 장치
DE69834837D1 (de) Dezentrierte linsengruppe für die verwendung in einem ausseraxialen projektor
EP0989434A3 (en) Catadioptric optical system and exposure apparatus having the same
JP2002277742A5 (ko)
KR960029907A (ko) 노광 장치
JPH06214318A (ja) 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置
KR950014993A (ko) 투영광학계 및 투영 조정기
KR950014906A (ko) 투영광학계 및 투영조정기
KR970071147A (ko) 투영 광학계 및 노광 장치
EP0859258A3 (en) Optical system and image taking apparatus
US3364816A (en) High intensity reflection copying system
KR950024024A (ko) 투영노광장치 및 이를 이용한 디바이스 제조방법
JPS633288B2 (ko)
JPS56165111A (en) Telecentric illuminating system
KR960001904A (ko) 노광 장치
JPS6142644A (ja) 像形成装置
KR910008066B1 (ko) 피조사면의 주변부의 조도를 증가시키는 광학계
KR970002389A (ko) 줌(zoom)렌즈 광학계
US5781281A (en) Distance measuring infrared projection system

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130502

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140418

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee