KR960029910A - 반사굴절 축소 투영 광학계 및 그를 사용하는 노광 장치 - Google Patents
반사굴절 축소 투영 광학계 및 그를 사용하는 노광 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960029910A KR960029910A KR1019960001951A KR19960001951A KR960029910A KR 960029910 A KR960029910 A KR 960029910A KR 1019960001951 A KR1019960001951 A KR 1019960001951A KR 19960001951 A KR19960001951 A KR 19960001951A KR 960029910 A KR960029910 A KR 960029910A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- lens group
- optical system
- beam splitter
- lens
- intermediate image
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
본 발명은 광속 스플리터의 크기를 증가시키기 않고 개구수를 증가시킬 수 있는 구조를 갖는 반사굴절 축소 투영 광학계를 실현하며 반도체 제조 장치의 뛰어난 성능을 달성한다. 본 발명의 반사굴절 축소 투영 광학계는 제1물체의 중간 영상을 형성하도록 제1렌즈 그룹, 광속 스플리터, 제2렌즈 그룹 및 오목 반사 거울을 갖는 제1부분 광학계, 제2물체 위에 중간 영상의 축소상을 형성하고, 정의 굴절력을 갖는 제3렌즈 그룹을 가지며 중간 영상이 형성되는 표면과 제2물체 사이의 광로에 배열된 제2부분 광학계, 및 광속 스플리터와 제3렌즈 그룹 사이의 광로에 배열된 제4렌즈 그룹으로 이루어진다. 제1물체로부터의 광은 명명된 순서로 제1렌즈 그룹, 광속 스플리터, 및 제2렌즈 그룹을 통해 오목 반사거울로 유도된다. 오목 반사 거울에 의해 반사된 광은 명명된 순서로 제2렌즈 그룹 및 광속 스플리터를 통과하여 중간 영상이 형성된 표면으로 유도된다. 제4렌즈 그룹의 적어도 일부는 광속 스플리터와 표면 사이의 광로에 배열된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따르는 반사굴절 축소 투영 광학계를 사용할 수 있는 노광 장치의 개략적인 배열을 도시한 도면.
Claims (22)
- 제1물체의 축소상을 제2물체 위로 투영하는 반사굴절 축소 투영 광학계에 있어서, 제1물체의 중간 영상을 형성하고, 제1렌즈 그룹, 광속 스플리터, 젠2렌즈 그룹 및 오목 반사 거울을 가져서 제1물체로부터의 광을 명명된 순서로 상기 제1렌즈 그룹, 상기 광속 스플리터, 및 상기 제2렌즈 그룹을 통해 오목 반사 거울로 차례로 유도하도록 하고, 상기 오목 반사 거울에 의해 반사된 광이 명면된 순서로 순서 제2렌즈 그룹 및 상기 광속 스플리터를 통과함으로써 중간 영상을 형성하는 제1부분 광학계; 제2물체 위에 중간 영상의 축소상을 형성하고, 정의 굴절력을 갖는 제3렌즈 그룹을 가지며 중간 영상이 상기 제1부분 광학계에 의해 형성되는 평면과 제2물체 사이의 광로에 배열된 제2부분 광학계; 및 상기 제1부분 광학계의 상기 광속 스플리터와 상기 제2부분 광학계의 상기 제3렌즈 그룹 사이의 광로에 배열된 제4렌즈 그룹으로 이루어짐을 특징으로 하는 반사굴절 축소 투영 광학계.
- 제1항에 있어서, 상기 제1렌즈 그룹이 제1물체와 상기 광속 스플리터 사이의 광로에 배열되며, 제2렌즈 그룹이 상기 광속 스플리터를 향하는 오목면을 갖는 부의 렌즈 성분을 가짐을 특징으로 하는 광학계.
- 제1항에 있어서, 상기 제1렌즈 그룹이 제1물체와 상기 광속 스플리터 사이의 광로에 배열되며, 여기에서, 상기 광속 스플리터에 가장 근접한 제1렌즈 그룹이 렌즈면이 상기 광속 스플리터에 대해 오목 형상을 가짐을 특징으로 하는 광학계.
- 제1항에 있어서, 상기 제4렌즈 그룹의 적어도 일부가 상기 광속 스플리터와 중간 영상이 상기 제1부분 광학계에 의해 형성되는 표면 사이의 광로에 배열됨을 특징으로 하는 광학계.
- 제4항에 있어서, 상기 전체 제4렌즈 그룹이 상기 광속 스플리터와 중간 영상이 형성되는 표면 사이의 광로에 배열됨을 특징으로 하는 광학계.
- 제4항에 있어서, 중간 영상이 형성되는 표면이 상기 광속 스플리터에 가장 근접한 상기 제4렌즈 그룹의 렌즈면과 상기 제2부분 광학계에 가장 근접한 상기 제4렌즈 그붑의 렌즈면 사이에 형성됨을 특징으로 하는 광학계.
- 제1항에 있어서, 상기 반사굴절 축소 투영 광학계가 다음 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 광학계 :-4.0<βPI/β<-2.5상기 식에서, β는 전체 축소 배율이며, βPI는 중간 영상의 횡배율이다.
- 제1항에 있어서, 상기 반사굴절 축소 투영 광학계가 다음 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 광학계 :-4.1<βMI/β<-2.8상기 식에서, β는 전체 축소 배율이며, βMI는 상기 오목 반사 거울의 횡배율이다.
- 제1항에 있어서, 상기 제4렌즈 그룹이 정의 굴절력을 가짐을 특징으로 하는 광학계.
- 제1항에 있어서, 상기 제1렌즈 그룹이 정의 굴절력을 가짐을 특징으로 하는 광학계.
- 제1항에 있어서, 상기 제3렌즈 그룹이 개구 스톱을 가짐을 특징으로 하는 광학계.
- 제1항에 있어서, 상기 제1, 2, 3 및 4렌즈 그룹 각각을 구성하는 각 광학 부재가 필수적으로 석영 유리 및 불화물 중의 하나로부터 선택된 물질로 구성됨을 특징으로 하는 광학계.
- 제12항에 있어서, 상기 제1, 2, 3 및 4렌즈 그룹 각각이 불화물로 구성된 적어도 하나의 광학 부재로 이루어짐을 특징으로 하는 광학계.
- 감광성 기판을 그 주 표면위에 고정되게 하는 제1스테이지; 소정의 패턴을 갖는 마스크를 고정시키는 제2스테이지; 소정의 파장을 갖는 노광광을 방출시키고 상기 마스크 위의 패턴을 상기 기판위에 전송시키는 조명 광학계; 상기 마스크의 패턴의 축소상을 상기 기판 위로 투영하기 위해 상기 제1 및 제2스테이지 사이에 배열된 반사굴절 축소 광학계로서, 제1물체의 중간 영상을 형성하고, 제1렌즈 그룹, 광속 스플리터, 제2렌즈 그룹 및 오목 반사 거울을 가져서 제1물체로부터의 광을 명명된 순서로 상기 제1렌즈 그룹, 상기 광속 스플리터, 및 상기 제2렌즈 그룹을 통해 오목 반사 거울로 차례로 유도하도록 하고, 상기 오목 반사 거울에 의해 반사된 광이 명명된 순서로 상기 제2렌즈 그룹 및 상기 광속 스플리터를 통과함으로써 중간 영상을 형성하는 제1부분 광학계; 기판 위에 중간 영상의 축소상을 형성하고, 정의 굴절력을 갖는 제3렌즈 그룹을 가지며 중간 영상이 상기 제1부분 광학계에 의해 형성되는 표면과 기판 사이의 광로에 배열된 제2부분 광학계; 및 상기 제1부분 광학계의 상기 광속 스플리터와 상기 제2부분 광학계의 상기 제3렌즈 그룹 사이의 광로에 배열된 제4렌즈 그룹으로 이루어진 반사굴절 축소 투영 광학계로 이루어짐을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 반사굴절 축소 투영 광학계에서 상기 제1렌즈 그룹이 마스크와 상기 광속 스플리터 사이의 광로에 배열되며, 제2렌즈 그룹이 상기 광속 스플리터를 향하는 오목면을 갖는 부의 렌즈 성분을 가짐을 특징으로 하는 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 반사굴절 축소 투영 광학계에서 상기 제1렌즈 그룹이 마스크와 상기 광속 스플리터 사이의 광로에 배열되며, 여기에서, 상기 광속 스플린터에 가장 근접한 제1렌즈 그룹이 렌즈면이 상기 광속 스플리터에 대해 오목 형상을 가짐을 특징으로 하는 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 반사굴절 축소 투영 광학계에서 상기 제4렌즈 그룹의 적어도 일부가 상기 광속 스플리터와 중간 영상이 상기 제1부분 광학계에 의해 형성되는 표면 사이의 광로에 배열됨을 특징으로 하는 장치.
- 제17항에 있어서, 상기 반사굴절 축소 투영 광학계에서 상기 전체 제4렌즈 그룹이 상기 광속 스플리터와 중간 영상이 형성되는 표면 사이의 광로에 배열됨을 특징으로 하는 장치.
- 제17항에 있어서, 중간 영상이 형성되는 표면이 상기 광속 스플리터에 가장 근접한 상기 제4렌즈 그룹의 렌즈면과 상기 제2부분 광학계에 가장 근접한 상기 제4렌즈 그룹의 렌즈면 사이에 형성됨을 특징으로 하는 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 반사굴절 축소 투영 광학계가 다음 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 장치 :-4.0<βPI/β<-2.5상기 식에서, β는 전체 축소 배율이며, βPI는 중간 영상의 횡배율이다.
- 제14항에 있어서, 상기 반사굴절 축소 투영 광학계가 다음 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 장치 :-4.1<βMI/β<-2.8상기 식에서, β는 전체 축소 배율이며, BMI는 상기 오목 반사 거울의 횡배율이다.
- 제14항에 있어서, 상기 조명 광학계가 엑시머 레이져를 포함함을 특징으로 하는 장치,※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP012502/1995 | 1995-01-30 | ||
JP7012502A JPH08203812A (ja) | 1995-01-30 | 1995-01-30 | 反射屈折縮小投影光学系及び露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960029910A true KR960029910A (ko) | 1996-08-17 |
Family
ID=11807146
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960001951A KR960029910A (ko) | 1995-01-30 | 1996-01-29 | 반사굴절 축소 투영 광학계 및 그를 사용하는 노광 장치 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5694241A (ko) |
JP (1) | JPH08203812A (ko) |
KR (1) | KR960029910A (ko) |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09311278A (ja) * | 1996-05-20 | 1997-12-02 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JP3395801B2 (ja) | 1994-04-28 | 2003-04-14 | 株式会社ニコン | 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法 |
USRE38438E1 (en) | 1994-08-23 | 2004-02-24 | Nikon Corporation | Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same |
JPH08179204A (ja) | 1994-11-10 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 投影光学系及び投影露光装置 |
JP3454390B2 (ja) | 1995-01-06 | 2003-10-06 | 株式会社ニコン | 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法 |
JPH103041A (ja) * | 1996-06-14 | 1998-01-06 | Nikon Corp | 反射屈折縮小光学系 |
JPH103040A (ja) * | 1996-06-14 | 1998-01-06 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
US6157498A (en) | 1996-06-19 | 2000-12-05 | Nikon Corporation | Dual-imaging optical system |
JP3823436B2 (ja) * | 1997-04-03 | 2006-09-20 | 株式会社ニコン | 投影光学系 |
JPH1184248A (ja) * | 1997-09-12 | 1999-03-26 | Nikon Corp | 反射屈折縮小光学系 |
EP1079253A4 (en) | 1998-04-07 | 2004-09-01 | Nikon Corp | DEVICE AND PROCESS FOR PROJECTION EXPOSURE, AND OPTICAL SYSTEM WITH REFLECTION AND REFRACTION |
JPH11326767A (ja) * | 1998-05-07 | 1999-11-26 | Nikon Corp | 反射屈折縮小光学系 |
DE69933973T2 (de) | 1998-07-29 | 2007-06-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Katadioptrisches optisches system und damit ausgestattete belichtungsvorrichtung |
US6451507B1 (en) * | 1998-08-18 | 2002-09-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method |
JP4717974B2 (ja) | 1999-07-13 | 2011-07-06 | 株式会社ニコン | 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置 |
EP1094350A3 (en) * | 1999-10-21 | 2001-08-16 | Carl Zeiss | Optical projection lens system |
EP1102100A3 (de) * | 1999-11-12 | 2003-12-10 | Carl Zeiss | Katadioptrisches Objektiv mit physikalischem Strahlteiler |
EP1115019A3 (en) * | 1999-12-29 | 2004-07-28 | Carl Zeiss | Projection exposure lens with aspheric elements |
US6995930B2 (en) * | 1999-12-29 | 2006-02-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective with geometric beam splitting |
TW538256B (en) | 2000-01-14 | 2003-06-21 | Zeiss Stiftung | Microlithographic reduction projection catadioptric objective |
US6480330B1 (en) * | 2000-02-24 | 2002-11-12 | Silicon Valley Group, Inc. | Ultraviolet polarization beam splitter for microlithography |
US7414785B2 (en) * | 2000-02-24 | 2008-08-19 | Asml Holding N.V. | Ultraviolet polarization beam splitter with minimum apodization |
US7301605B2 (en) * | 2000-03-03 | 2007-11-27 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices |
JP2004514943A (ja) * | 2000-11-28 | 2004-05-20 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | 157nmリソグラフィ用の反射屈折投影系 |
DE10104177A1 (de) * | 2001-01-24 | 2002-08-01 | Zeiss Carl | Katadioptrisches Reduktionsobjektiv |
DE10127227A1 (de) * | 2001-05-22 | 2002-12-05 | Zeiss Carl | Katadioptrisches Reduktionsobjektiv |
US7136220B2 (en) * | 2001-08-21 | 2006-11-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric reduction lens |
TW575904B (en) * | 2001-08-21 | 2004-02-11 | Asml Us Inc | Optical projection for microlithography |
US20050190446A1 (en) * | 2002-06-25 | 2005-09-01 | Carl Zeiss Amt Ag | Catadioptric reduction objective |
WO2004019105A1 (en) * | 2002-08-19 | 2004-03-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric reduction lens having a polarization beamsplitter |
DE10316428A1 (de) * | 2003-04-08 | 2004-10-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Katadioptrisches Reduktionsobjektiv |
US7348575B2 (en) * | 2003-05-06 | 2008-03-25 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
US8208198B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-06-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US20050185269A1 (en) * | 2003-12-19 | 2005-08-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective with geometric beam splitting |
US20080151365A1 (en) | 2004-01-14 | 2008-06-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective |
KR101213831B1 (ko) | 2004-05-17 | 2012-12-24 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈 |
CN103278913B (zh) * | 2013-05-15 | 2015-07-01 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种非球面光刻耦合物镜 |
JP6595405B2 (ja) * | 2016-05-25 | 2019-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 結像光学系、投写型表示装置、および、撮像装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4747678A (en) * | 1986-12-17 | 1988-05-31 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical relay system with magnification |
US4953960A (en) * | 1988-07-15 | 1990-09-04 | Williamson David M | Optical reduction system |
US5052763A (en) * | 1990-08-28 | 1991-10-01 | International Business Machines Corporation | Optical system with two subsystems separately correcting odd aberrations and together correcting even aberrations |
JP3085481B2 (ja) * | 1991-09-28 | 2000-09-11 | 株式会社ニコン | 反射屈折縮小投影光学系、及び該光学系を備えた露光装置 |
US5212593A (en) * | 1992-02-06 | 1993-05-18 | Svg Lithography Systems, Inc. | Broad band optical reduction system using matched multiple refractive element materials |
US5323263A (en) * | 1993-02-01 | 1994-06-21 | Nikon Precision Inc. | Off-axis catadioptric projection system |
-
1995
- 1995-01-30 JP JP7012502A patent/JPH08203812A/ja active Pending
- 1995-12-22 US US08/577,280 patent/US5694241A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-01-29 KR KR1019960001951A patent/KR960029910A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08203812A (ja) | 1996-08-09 |
US5694241A (en) | 1997-12-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960029910A (ko) | 반사굴절 축소 투영 광학계 및 그를 사용하는 노광 장치 | |
KR960024506A (ko) | 반사굴절 광학계 | |
US5650877A (en) | Imaging system for deep ultraviolet lithography | |
KR100305657B1 (ko) | 조명장치및이조명장치를가진노광장치 | |
JP2655465B2 (ja) | 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置 | |
KR980005325A (ko) | 반사굴절 광학계 | |
KR0137348B1 (ko) | 반사 및 굴절광학 시스템 및 이를 이용한 투사노광장치 | |
US5052763A (en) | Optical system with two subsystems separately correcting odd aberrations and together correcting even aberrations | |
KR960018644A (ko) | 반사굴절 광학계 및 노광 장치 | |
KR960042228A (ko) | 포토리도그래피 기법에서 사용하는 혼성(hybrid) 조명 장치 | |
US5638218A (en) | Catadioptric projection apparatus | |
KR970076080A (ko) | 투영 석판 인쇄 시스템 및 전반사용 광학 소자 이용방법 | |
KR100485376B1 (ko) | 투영광학계와이를구비하는노광장치,및디바이스제조방법 | |
KR980005330A (ko) | 반사굴절 광학계 | |
KR960024489A (ko) | 반사굴절 광학계 | |
KR940010218A (ko) | 사진석판술용 노광 장치의 조명 시스템 | |
US6424471B1 (en) | Catadioptric objective with physical beam splitter | |
KR980005327A (ko) | 반사굴절 축소 광학계 | |
KR980005328A (ko) | 반사굴절 광학계 | |
KR100575499B1 (ko) | 반사굴절 리소그래피 시스템용 플립(미러링)되지 않은이미지를 유지하는 빔 스플리터 광학계 설계 | |
US6122107A (en) | Angular integrator | |
US6857764B2 (en) | Illumination optical system and exposure apparatus having the same | |
JP2000039557A5 (ko) | ||
KR920016867A (ko) | 빛의 반사와 굴절 축소렌즈 | |
KR970022571A (ko) | 투영노광장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |