JP2655465B2 - 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置 - Google Patents

反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置

Info

Publication number
JP2655465B2
JP2655465B2 JP5007122A JP712293A JP2655465B2 JP 2655465 B2 JP2655465 B2 JP 2655465B2 JP 5007122 A JP5007122 A JP 5007122A JP 712293 A JP712293 A JP 712293A JP 2655465 B2 JP2655465 B2 JP 2655465B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
homogenizer
reflection type
light
light source
illumination optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP5007122A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06214318A (ja
Inventor
行夫 小椋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP5007122A priority Critical patent/JP2655465B2/ja
Priority to US08/179,156 priority patent/US5440423A/en
Publication of JPH06214318A publication Critical patent/JPH06214318A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2655465B2 publication Critical patent/JP2655465B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/0977Reflective elements
    • G02B27/0983Reflective elements being curved
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/067Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0004Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
    • G02B19/0028Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed refractive and reflective surfaces, e.g. non-imaging catadioptric systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0905Dividing and/or superposing multiple light beams
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0215Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having a regular structure
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0273Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0284Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in reflection
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/08Mirrors
    • G02B5/10Mirrors with curved faces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/702Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はLSI等の半導体素子を
製造する際に用いられるマスクパターンの投影露光装置
の光学素子照明光学装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体素子製造に用いられるマス
クパターンの投影露光装置における照明光学装置は、図
4に示すように水銀ランプあるいはエキシマレーザを光
源とし、光源41よりの光束ビーム変換器42で適当な
大きさの光束にコリメートし、微小レンズアレイより構
成されるホモジナイザー43で光量分布を均一にすると
共に複数の点光源を2次光源44として照明レンズ45
で被照射物体であるレチクル46を照明する。このよう
な例として特公平4−13686号公報や特開昭58−
147708号公報がある。さらに光源からの光束を均
一にするための手段としては特開平1−319727号
公報や特開平2−166783号公報のように反射プリ
ズムにより光束を分割回転して合成する方法、あるいは
実開昭63−124212号公報のように光ファイバー
を用いる方法がある。
【0003】図4において均一に照明されたレチクル4
6は結像レンズ47によりウェハー48の面上に縮小投
影される。ホモジナイザー43の焦点位置にできた二次
光源44の像は結像レンズ47の絞り位置付近に結像す
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の照明光学装置は
照明光を均一にするためにレンズ厚さの厚いホモジナイ
ザーあるいはプリズム、光ファイバーなどを使用してお
りいずれもガラス材料の光路長が長くなっている。高解
像度を得るために光源に波長の短い光源例えばArFエ
キシマレーザなどを使用すると、ガラス内部の吸収が大
きく光量損失が多くかつ損傷が発生するという問題点が
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、光源からの光
束を複数の分割し二次光源を形成する照明光学系用ホモ
ジナイザーにおいて、前記ホモジナイザーは放物面鏡ア
レイであることを特徴とする反射型ホモジナイザーであ
る。
【0006】さらに光源からの光束を所望の形状に変換
するビーム変換器と前記ビーム変換器からの光を二次光
源へ変換するホモジナイザーを有する照明光学装置にお
いて、光源からの光束を所望の形状に変換する前記ビー
ム変換器が放物面反射型ビーム変換器であり、前記ホモ
ジナイザーが放物面鏡アレイからなる反射型ホモジナイ
ザーであることを特徴とする反射型照明光学装置であ
る。
【0007】
【作用】本発明は半導体露光装置の照明光学系に置い
て、二次光源を形成するホモジナイザーを放物反射鏡ア
レイで形成し、ビーム変換器を反射型ビーム変換器にす
ることにより硝子材の損傷と光量損失のない光学系を得
る。
【0008】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
【0009】図1は本発明の実施例を示す図である。光
源11からでた光は2枚の放物面鏡12、13より構成
されるビーム変換器14により所望の大きさを持った光
束に変換される。ビーム変換された光束は平面反射鏡1
5、16を介して反射型ホモジナイザー17に入射す
る。反射型ホモジナイザーに入射した光束は図2にその
原理を示すように、放物面反射鏡アレイ21のそれぞれ
の焦点面22に集光し二次光源を形成する。図1におい
て反射型ホモジナイザー17の焦点面に二次光源アレイ
を形成した光束は照明レンズ18に入射し被照射物体で
あるレチクル19を均一に照明する。照明されたレチク
ル19の像は図4の従来の光学系と同様に結像素子によ
りウェハー面上に縮小投影される。
【0010】図3は放物面鏡の原理を説明する図であ
る。放物面鏡31に入射した平行光束はその焦点32に
集束する。図1におけるビーム変換器14は焦点距離の
異なる二つの放物面鏡12、13が互いに焦点を共有し
た構成になっており、一方の放物面鏡に入射した平行光
束は共有焦点を通ってもう一方の放物面反射鏡より入射
光束と平行に射出する。
【0011】本実施例ではガラス内部での光量損失がな
いので、波長の短い光源を用いて高解像度を得ることが
でき、しかもガラス材の損傷がない。
【0012】
【発明の効果】以上のごとく本発明によれば、ホモジナ
イザーおよびビーム変換器を反射鏡で構成しているた
め、硝子材の損傷と吸収による光量の損失がなく効率の
良い照明光学系を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】反射ホモジナイザーおよび反射型ビーム変換器
を用いた本発明の実施例を説明するための図である。
【図2】反射型ホモジナイザーの原理を説明する図であ
る。
【図3】放物面鏡の原理を示す図である。
【図4】従来の照明光学系の図である。
【符号の説明】
11 光源 12、13 放物面鏡 14 反射型ビーム変換器 15、16 平面鏡 17 反射型ホモジナイザー 18 照明レンズ 19 レチクル 21 放物面鏡アレイ 22 焦点面 31 放物面鏡 32 焦点 41 光源 42 ビーム変換器 43 ホモジナイザー 44 2次光源 45 照明レンズ 46 レチクル 47 結像レンズ 48 ウェハー

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源からの光束を複数の分割し二次光源
    を形成する照明光学系用ホモジナイザーにおいて、前記
    ホモジナイザーは放物面鏡アレイであることを特徴とす
    る反射型ホモジナイザー。
  2. 【請求項2】 光源からの光束を所望の形状に変換する
    ビーム変換器と前記ビーム変換器からの光を二次光源へ
    変換するホモジナイザーを有する照明光学装置におい
    て、光源からの光束を所望の形状に変換する前記ビーム
    変換器が放物面反射型ビーム変換器であり、前記ホモジ
    ナイザーが放物面鏡アレイからなる反射型ホモジナイザ
    ーであることを特徴とする反射型照明光学装置。
JP5007122A 1993-01-20 1993-01-20 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置 Expired - Lifetime JP2655465B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5007122A JP2655465B2 (ja) 1993-01-20 1993-01-20 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置
US08/179,156 US5440423A (en) 1993-01-20 1994-01-10 Optical illumination instrument

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5007122A JP2655465B2 (ja) 1993-01-20 1993-01-20 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06214318A JPH06214318A (ja) 1994-08-05
JP2655465B2 true JP2655465B2 (ja) 1997-09-17

Family

ID=11657275

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5007122A Expired - Lifetime JP2655465B2 (ja) 1993-01-20 1993-01-20 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5440423A (ja)
JP (1) JP2655465B2 (ja)

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5674414A (en) * 1994-11-11 1997-10-07 Carl-Zeiss Stiftung Method and apparatus of irradiating a surface of a workpiece with a plurality of beams
US5871266A (en) * 1995-06-26 1999-02-16 Nissho Giken Kabushiki Kaisha Projection-type display device
US6080965A (en) * 1997-09-18 2000-06-27 Tokyo Electron Limited Single-substrate-heat-treatment apparatus in semiconductor processing system
JP4238390B2 (ja) * 1998-02-27 2009-03-18 株式会社ニコン 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法
US6833904B1 (en) 1998-02-27 2004-12-21 Nikon Corporation Exposure apparatus and method of fabricating a micro-device using the exposure apparatus
US6022114A (en) * 1998-05-01 2000-02-08 Nikon Corporation Anamorphic afocal beam shaping assembly
USRE41667E1 (en) * 1998-05-05 2010-09-14 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
DE19935404A1 (de) 1999-07-30 2001-02-01 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem mit mehreren Lichtquellen
US6858853B2 (en) * 1998-05-05 2005-02-22 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US6947124B2 (en) 1998-05-05 2005-09-20 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US6859515B2 (en) 1998-05-05 2005-02-22 Carl-Zeiss-Stiftung Trading Illumination system, particularly for EUV lithography
DE19903807A1 (de) * 1998-05-05 1999-11-11 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem insbesondere für die EUV-Lithographie
US7006595B2 (en) * 1998-05-05 2006-02-28 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag Illumination system particularly for microlithography
US20050002090A1 (en) * 1998-05-05 2005-01-06 Carl Zeiss Smt Ag EUV illumination system having a folding geometry
US6438199B1 (en) 1998-05-05 2002-08-20 Carl-Zeiss-Stiftung Illumination system particularly for microlithography
US7186983B2 (en) * 1998-05-05 2007-03-06 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US7142285B2 (en) * 1998-05-05 2006-11-28 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US20070030948A1 (en) * 1998-05-05 2007-02-08 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system with field mirrors for producing uniform scanning energy
US7126137B2 (en) 1998-05-05 2006-10-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system with field mirrors for producing uniform scanning energy
US7109497B2 (en) * 1998-05-05 2006-09-19 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US6859328B2 (en) * 1998-05-05 2005-02-22 Carl Zeiss Semiconductor Illumination system particularly for microlithography
US6947120B2 (en) * 1998-05-05 2005-09-20 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US7329886B2 (en) * 1998-05-05 2008-02-12 Carl Zeiss Smt Ag EUV illumination system having a plurality of light sources for illuminating an optical element
USRE42065E1 (en) 1998-05-05 2011-01-25 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
JP3754221B2 (ja) * 1999-03-05 2006-03-08 ローム株式会社 マルチチップ型半導体装置
US7248667B2 (en) * 1999-05-04 2007-07-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system with a grating element
US6856630B2 (en) * 2000-02-02 2005-02-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Beam homogenizer, laser irradiation apparatus, semiconductor device, and method of fabricating the semiconductor device
US7109435B2 (en) * 2001-12-07 2006-09-19 Sony Corporation Beam irradiator and laser anneal device
US20050180013A1 (en) * 2002-03-21 2005-08-18 Carl Zeiss Smt Ag Grating element for filtering wavelengths < 100 nm
CA2386952A1 (en) * 2002-05-17 2003-11-17 Exfo Photonic Solutions Inc. Radiation power demultiplexer
DE10229816A1 (de) * 2002-06-28 2004-01-15 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur Erzeugung einer konvergenten Lichtwellenfront und System zur interferometrischen Linsenflächenvermessung
DE102004034966A1 (de) * 2004-07-16 2006-02-02 Carl Zeiss Jena Gmbh Beleuchtungsvorrichtung für ein Lichtrastermikroskop mit linienförmiger Abtastung und Verwendung
DE102004034967A1 (de) * 2004-07-16 2006-02-02 Carl Zeiss Jena Gmbh Beleuchtungsvorrichtung für ein Lichtrastermikroskop mit punktförmiger Lichtquellenverteilung
US7511798B2 (en) * 2004-07-30 2009-03-31 Asml Holding N.V. Off-axis catadioptric projection optical system for lithography
KR100674959B1 (ko) * 2005-02-23 2007-01-26 삼성전자주식회사 비축상 프로젝션 광학계 및 이를 적용한 극자외선 리소그래피 장치
DE102012017049A1 (de) 2012-08-29 2014-03-06 Khs Gmbh Vorrichtung zum Inspizieren von Gegenständen
US9971159B2 (en) * 2016-10-19 2018-05-15 Coherent, Inc. Reflective laser line-beam generator
US10161720B2 (en) * 2016-12-12 2018-12-25 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Apparatuses and methods for making an object appear transparent
US10754133B2 (en) * 2017-07-26 2020-08-25 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Cloaking devices with curved mirrors
CN107797296A (zh) * 2017-11-14 2018-03-13 海信集团有限公司 一种缩束装置、激光光源及激光投影设备
CN107797295A (zh) * 2017-11-14 2018-03-13 海信集团有限公司 一种光源缩束系统、激光光源装置以及激光投影系统
DE102018216940A1 (de) 2018-10-02 2020-04-02 3D-Micromac Ag Laserbearbeitungssystem

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1987357A (en) * 1932-01-08 1935-01-08 William V Bergen Reflector
US2036146A (en) * 1933-10-09 1936-03-31 Kampfer Adolf Reflecting sign
US4389115A (en) * 1981-08-06 1983-06-21 Richter Thomas A Optical system
US4484334A (en) * 1981-11-17 1984-11-20 Allied Corporation Optical beam concentrator
JPS6042703A (ja) * 1983-08-18 1985-03-07 Akira Arai 照明器具用反射鏡
US4518232A (en) * 1983-08-24 1985-05-21 Avco Everett Research Laboratory, Inc. Method and apparatus for optical beam shaping
JPS6237350A (ja) * 1985-08-12 1987-02-18 Toshiba Corp 表面熱処理装置
JPS636540A (ja) * 1986-06-27 1988-01-12 Komatsu Ltd インテグレ−タ
US4806724A (en) * 1986-08-15 1989-02-21 Kawasaki Steel Corp. Laser beam machining device
US5285320A (en) * 1989-04-14 1994-02-08 Carl-Zeiss-Stiftung Mirror for changing the geometrical form of a light beam
DE4023904A1 (de) * 1990-07-27 1992-01-30 Zeiss Carl Fa Spiegel zur veraenderung der geometrischen gestalt eines lichtbuendels
US5245454A (en) * 1991-12-31 1993-09-14 At&T Bell Laboratories Lcd display with microtextured back reflector and method for making same

Also Published As

Publication number Publication date
US5440423A (en) 1995-08-08
JPH06214318A (ja) 1994-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2655465B2 (ja) 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置
KR100305657B1 (ko) 조명장치및이조명장치를가진노광장치
JP3264224B2 (ja) 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
US5636003A (en) Illumination optical apparatus and scanning exposure apparatus
JP3275575B2 (ja) 投影露光装置及び該投影露光装置を用いたデバイスの製造方法
KR960042228A (ko) 포토리도그래피 기법에서 사용하는 혼성(hybrid) 조명 장치
JP2012174936A (ja) 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法
JP2997351B2 (ja) 照明光学装置
JP2002198309A (ja) 熱的な負荷の少ない照明系
JP3067491B2 (ja) 投影露光装置
JPH01114035A (ja) 露光装置
JPH0774086A (ja) 投影露光装置
JPS622539A (ja) 照明光学系
JPS63114186A (ja) 照明装置
JP2914035B2 (ja) 輪帯光束形成方法および照明光学装置
JPH0744141B2 (ja) 照明光学装置
JPH0769576B2 (ja) 照明光学装置
JP3415571B2 (ja) 走査露光装置、露光方法及び半導体製造方法
JPH07135145A (ja) 露光装置
JPH04250455A (ja) 円弧照明装置
JPH07104563B2 (ja) 露光装置用照明光学装置
JPH0567557A (ja) 円弧状暗視野照明装置
JP3111476B2 (ja) 照明光学装置
JPS6381420A (ja) 照明装置
JPH05215922A (ja) 照明光学装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19970422