JP3754221B2 - マルチチップ型半導体装置 - Google Patents

マルチチップ型半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3754221B2
JP3754221B2 JP05807899A JP5807899A JP3754221B2 JP 3754221 B2 JP3754221 B2 JP 3754221B2 JP 05807899 A JP05807899 A JP 05807899A JP 5807899 A JP5807899 A JP 5807899A JP 3754221 B2 JP3754221 B2 JP 3754221B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
circuit
semiconductor device
external connection
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP05807899A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000260961A (ja
Inventor
博雄 持田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP05807899A priority Critical patent/JP3754221B2/ja
Priority to US09/517,283 priority patent/US6337579B1/en
Publication of JP2000260961A publication Critical patent/JP2000260961A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3754221B2 publication Critical patent/JP3754221B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/18Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/05568Disposition the whole external layer protruding from the surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05573Single external layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • H01L2224/056Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16135Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/16145Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06513Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01046Palladium [Pd]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01077Iridium [Ir]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/10251Elemental semiconductors, i.e. Group IV
    • H01L2924/10253Silicon [Si]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、フィールドプログラマブルゲートアレイを有するマルチチップ型半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ユーザが所望の回路をプログラムすることができるFPGA(フィールドプログラマブルゲートアレイ)は、とくに、多品種少量生産品に利用されることが多い。
従来から用いられているFPGAは、図5に示すように、プログラマブルゲートアレイ101と、このプログラマブルゲートアレイ101のスイッチの状態を設定するためのSRAM(スタティックRAM)102とをCMOSプロセスで集積したFPGAチップ100からなる。そして、このFPGAチップ100を内蔵したICパッケージに、EPROM110が外付けされる。このEPROM110に、プログラマブルゲートアレイ101のスイッチの状態を設定するためのスイッチ設定情報を書き込むことにより、所望の回路が得られる。
【0003】
FPGAチップ100およびEPROM110は、それぞれ、別のICパッケージに収容され、これらの間の接続は、プリント配線基板を介して達成されるようになっているのが一般的である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述の構成では、FPGAチップ100には、EPROM110との接続のための接続パッドを設けなければならないから、その分、チップ面積が大きくなったり、プログラマブルゲートアレイ101への信号の入出力数が制限されたりするという問題がある。
【0005】
この問題は、FPGAとEPROMとを1チップに集積することによって解決されるであろうが、ゲートアレイとEPROMとを共通のチップ上に形成するプロセスは極めて複雑であり、コストの大幅な増加につながるため、好ましい解決方法とは言えない。
また、FPGAがEPROMとともに組み込まれた電子機器が市場に出回ると、EPROMの内容が、第三者によって容易に読み出されるおそれがあり、このEPROMの記憶データの秘密性が保持できないことも、問題となっていた。
【0006】
そこで、この発明の目的は、上述の技術的課題を解決し、外部接続端子数を少なくすることができる、フィールドプログラマブルゲートアレイを有するマルチチップ型半導体装置を提供することである。
また、この発明の他の目的は、設定情報の秘密性を良好に保持することができる、フィールドプログラマブルゲートアレイを有するマルチチップ型半導体装置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
上記の目的を達成するための請求項1記載の発明は、フィールドプログラマブルゲートアレイを有する第1の半導体チップと、上記フィールドプログラマブルゲートアレイの回路設定のための設定情報を記憶するための書き込み可能な不揮発性メモリを有する第2の半導体チップと、上記第1の半導体チップと上記第2の半導体チップとを接続するチップ間接続部材とを含み、上記第1の半導体チップは、上記不揮発性メモリのプログラム端子と、上記フィールドプログラマブルゲートアレイの入出力端子とに共通に用いられる外部接続端子と、この外部接続端子を上記不揮発性メモリまたは上記フィールドプログラマブルゲートアレイに選択的に接続する切り換え回路とを含むものであることを特徴とするマルチチップ型半導体装置である。
【0008】
上記の構成によれば、第1の半導体チップに形成されたフィールドプログラマブルゲートアレイの設定情報は、第2の半導体チップに形成された不揮発性メモリに記憶されるようになっていて、これらの第1および第2の半導体チップは、チップ間接続部材によって、互いに接続されるようになっている。そして、第1および第2の半導体チップは、たとえば、共通のパッケージ内に封止されるなどして、マルチチップ型半導体装置を構成している。
【0009】
これにより、フィールドプログラマブルゲートアレイの回路を設定するための外部接続端子を省くことができるから、外部接続端子数を少なくすることができ、フィールドプログラマブルゲートアレイの入出力数についての制限が少なくなる。
また、フィールドプログラマブルゲートアレイと不揮発性メモリとは、別のチップ上に形成されるので、製造プロセスが複雑になることもない。
【0012】
また、この発明では、第1の半導体チップは、不揮発性メモリのプログラムと、フィールドプログラマブルゲートアレイに対する入出力とに共通に用いられる外部接続端子を有している。そして、切り換え回路によってこの外部接続端子の接続を切り換える構成となっているので、外部接続端子を効果的に削減できる。これにより、第1半導体チップのチップ面積の削減に寄与することができ、また、フィールドプログラマブルゲートアレイの入出力数に対する制限も軽減できる。
なお、上記チップ間接続部材は、ボンディングワイヤであってもよい。また、請求項3に記載されているようなチップ・オン・チップ構造が採用される場合には、第1および/または第2の半導体チップの表面に形成された金属隆起電極であってもよい。この金属隆起電極は、厚膜状のバンプであってもよく、バンプほどは高さの高くない金属薄膜(たとえば、金属蒸着膜)であってもよい。
【0013】
請求項記載の発明は、上記外部接続端子と上記不揮発性メモリとの間の接続を永久的に遮断する設定情報保護機構をさらに含むことを特徴とする請求項記載のマルチチップ型半導体装置である。
この構成によれば、不揮発性メモリに設定情報を書き込んだ後に、設定情報保護機構により、不揮発性メモリと外部接続端子との間を永久的に遮断すれば、不揮発性メモリへの外部からのアクセスが不可能な状態となる。これにより、不揮発性メモリの設定情報の秘密性が保持される。
【0014】
請求項記載の発明は、上記第1の半導体チップの表面に上記第2の半導体チップが重ねて接合され、これらの第1および第2の半導体チップがチップ・オン・チップ構造で接合されていることを特徴とする請求項1または2に記載のマルチチップ型半導体装置である。
この構成によれば、第1および第2の半導体チップが重ねて接合されているので、マルチチップ型半導体装置は、実質的に1チップとして取り扱うことができ、マスク方式のASIC(Application Specific Integrated Circuit)とほぼ同一形状となる。したがって、別パッケージのEPROMが必要であった従来技術に比較して、格段に専有面積が減少するうえ、マスク式のASICとの置き換えをも容易に行うことができる。
【0015】
しかも、チップ・オン・チップ構造では、チップ間の配線長が極めて短くなるので、外部からのノイズの影響を受けにくく、また、高速な動作が可能であるという効果をも奏することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、この発明の第1の実施形態に係るマルチチップ型半導体装置の分解斜視図であり、図2は、当該半導体装置の断面図である。この半導体装置は、第1の半導体チップとしての親チップ1の表面11に、第2の半導体チップとしての子チップ2を重ね合わせて接合した、いわゆるチップ・オン・チップ(Chip-On-Chip)構造を有している。このチップ・オン・チップ構造のマルチチップ型半導体装置は、外部との接続のためのリードフレーム14が引き出された状態で樹脂モールドされ、パッケージ40に納められている。
【0017】
親チップ1は、たとえばシリコンチップからなっており、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)回路を内部に有している。この親チップ1の表面11は、親チップ1の基体をなす半導体基板においてトランジスタなどの機能素子が形成された活性表層領域側の表面であり、最表面は、絶縁物の保護膜で覆われている。この保護膜上には、所定の位置において、外部接続用の複数のパッド12が、ほぼ矩形の平面形状を有する親チップ1の表面11の周縁付近に露出して配置されている。この外部接続パッド12は、ボンディングワイヤ13によってリードフレーム14に接続されている。
【0018】
親チップ1の内方の領域には、子チップ2の接合領域15が設定されており、この接合領域15には、子チップ2とのチップ間接続のためのチップ接続パッドPMが、複数個(図1では8個のみ図示)形成されている。
子チップ2は、たとえばシリコンチップからなっており、EPROM(消去可能なプログラム可能読取り専用記憶装置)などからなる、FPGAのスイッチ状態を設定するための不揮発性のメモリ回路(以下、「不揮発性コンフィギュレーションメモリ回路」という。)を内部に有している。この子チップ2の表面21は、子チップ2の基体をなす半導体基板においてトランジスタなどの機能素子が形成された活性表層領域側の表面であり、最表面は、絶縁物の保護膜で覆われている。この保護膜上には、親チップ1とのチップ間接続のためのチップ接続パッドPDが、複数個(図1では8個のみ図示)形成されている。
【0019】
子チップ2のチップ接続パッドPD上には、耐酸化性の金属、たとえば、金、鉛、プラチナ、銀またはイリジウムからなるバンプBがそれぞれ形成されていて、チップ間接続部材をなす金属隆起電極を構成している。
子チップ2は、表面21を親チップ1の表面11に対向させた状態で親チップ1に接合されている。この接合は、バンプBを接合領域15のチップ接続パッドPMにそれぞれ当接させた状態で、親チップ1と子チップ2とを相互に圧着することにより達成される。この圧着の際、必要に応じて親チップ1および/または子チップ2に超音波振動を与えることにより、バンプBとチップ接続パッドPMとの確実な接合が達成される。
【0020】
図3は、上述のマルチチップ型半導体装置の電気的構成を示すブロック図である。親チップ1は、FPGA回路50(プログラマブルゲートアレイ)と切り換え回路51とを内部回路として有しており、FPGAチップを構成している。子チップ2は、不揮発性コンフィギュレーションメモリ回路60(以下「コンフィギュレーションメモリ回路60」という。)を内部回路として有しており、コンフィギュレーションメモリチップを構成している。
【0021】
親チップ1と子チップ2とを接合した状態では、コンフィギュレーションメモリ回路60は、所定のチップ接続パッドPM,PDおよびバンプBが形成するチップ間接続部C1を介して、FPGA回路50に接続される。FPGA回路50の内部のスイッチは、コンフィギュレーションメモリ回路60に記憶されている設定情報に従って切り換えられる。したがって、コンフィギュレーションメモリ回路60に、所望の回路に対応した設定情報を書き込んでおけば、FPGA回路50は、所望の構成の回路を形成する。
【0022】
FPGA回路50の入出力ライン65は、外部接続パッド12に接続されている。入出力ライン65の一部は、切り換え回路51を介して外部接続パッド12に接続されている。切り換え回路51は、入出力ライン65に接続されているとともに、所定のチップ接続パッドPM,PDおよびバンプBが形成するチップ間接続部C2を介して、コンフィギュレーションメモリ回路60に接続されている。
【0023】
切り換え回路51は、個々のチップ間接続部C2に対応するスイッチSW1,SW2,・・・・・・を有している。各スイッチSW1,SW2,・・・・・・は、外部接続パッド12と入出力ライン65を接続する状態と、外部接続パッド12とチップ間接続部C2とを接続する状態とに切り換えることができる。切り換えスイッチSW1,SW2,・・・・・・に接続された外部接続パッド12およびそれらに接続されるリードフレーム14は、コンフィギュレーションメモリ回路60のプログラムのためのプログラム端子と、FPGA回路50の入出力端子とに共通に用いられる外部接続端子を成している。切り換えスイッチSW1,SW2,・・・・・・は、所定の外部接続パッド12から入力される切り換え制御信号によって、上記2つの状態のいずれかをとる。
【0024】
この半導体装置の使用に際しては、まず、切り換え回路51のスイッチSW1,SW2,・・・・・・をコンフィギュレーションメモリ回路60側に接続するための切り換え制御信号が入力される。この状態で、切り換え回路51に接続されている外部接続パッド12から、コンフィギュレーションメモリ回路60に、FPGA回路50の回路設定のための設定情報が書き込まれる。この設定情報の書き込みの後には、切り換え制御信号は、スイッチSW1,SW2,・・・・・・をFPGA回路50の入出力ライン65側に接続する状態とされる(たとえば、切り換え制御信号を入力するための外部接続パッド12を開放状態とする。)。これにより、切り換え回路51に接続されている外部接続パッド12は、FPGA回路50の入出力のために使用可能な状態となる。
【0025】
コンフィギュレーションメモリ回路60への設定情報の書き込みが完了すれば、FPGA回路50は、その設定情報に従う回路を形成する。そして、コンフィギュレーションメモリ回路60は、当該設定情報を不揮発に記憶するので、この半導体装置への電源の供給が遮断されて、その後に、再びこの半導体装置を用いるときには、FPGA回路50は、当初から所望の回路を形成することになる。
【0026】
このように、この実施形態によれば、FPGA回路50を内蔵した親チップ1と、コンフィギュレーションメモリ回路60を内蔵した子チップ2とをチップ・オン・チップ接合することによって、実質的に1チップとして取り扱うことが可能なマルチチップ型半導体装置を構成している。これにより、設定情報を記憶するEPROMを外付けすることなく所望の回路を構成することができるから、外部接続端子数を少なくすることができる。別の観点から見れば、外部接続端子のほぼすべてをFPGA回路50への入出力のために用いることができるので、入出力数の制限を少なくすることができる。
【0027】
しかも、外付けのEPROMが不要であるから、マスク方式のASICとほぼ同形状のFPGAが実現できることになり、占有面積を格段に減少させることができるうえ、マスク方式のASICとの置き換えをも容易に行うことができる。さらに、この実施形態の構成では、外部接続パッド12の一部が、コンフィギュレーションメモリ回路60へのプログラムと、FPGA回路50への入出力とに共用されているので、これによっても、外部接続端子の削減が図られており、また、FPGA回路50への入出力数に対する制限の軽減が図られている。
【0028】
図4は、この発明の第2の実施形態に係るマルチチップ型半導体装置の電気的構成を示すブロック図である。この半導体装置は、上述の第1の実施形態に係る半導体装置と類似しているので、図4において、上述の図3に示された各部に対応する部分には、図4の場合と同一の参照符号を付すとともに、上述の図1および図2を再び参照することとする。
【0029】
この実施形態では、コンフィギュレーションメモリ回路60に書き込まれた設定情報に対する外部からのアクセスを禁止するための設定情報保護機構70が備えられている。この設定情報保護機構70は、この実施形態においては、排他的論理和ゲート71と、この排他的論理和ゲート71の両端子間に接続されたアンチヒューズ72とで構成されている。排他的論理和ゲート71の一対の入力端子は、それぞれ外部接続パッド12のうちの所定の一対のパッド121,122に接続されている。そして、排他的論理和ゲート71のパッド121側の入力端子には、抵抗73を介して電源電圧Vccが与えられ、排他的論理和ゲート71のパッド122側の入力端子には、抵抗74を介してグランド電位が与えられるようになっている。
【0030】
切り換え回路51を構成するスイッチSW1,SW2,・・・・・・は、それぞれ、正論理(ハイアクティブ)型ゲートGP(たとえば、NチャンネルMOSトランジスタのゲートにハイレベルが印加されることにより導通)と負論理(ローアクティブ)型ゲートGN(たとえば、正論理型ゲートGPのNチャンネルMOSトランジスタが非導通のときに導通)との対で構成されている。そして、正論理型ゲートGPの一方の出力端子は、チップ間接続部C2を介してコンフィギュレーションメモリ回路60に接続されており、負論理型ゲートGNの一方の出力端子は、入出力ライン65を介してFPGA50に接続されている。正論理型ゲートGPおよび負論理型ゲートGNの各他方の出力端子は、外部接続パッド12に共通に接続されている。
【0031】
正論理型ゲートGPおよび負論理型ゲートGNの各制御入力端子には、切り換え制御ライン78を介して、排他的論理和ゲート71の出力信号が切り換え制御信号として入力されるようになっている。
コンフィギュレーションメモリ回路60にFPGA回路50の回路設定のための設定情報をプログラムするときには、排他的論理和ゲート71の両端子に接続されたパッド121,121は、いずれも開放状態とされる。また、初期状態では、アンチヒューズ72は、遮断状態となっている。したがって、排他的論理和ゲート71には、一方の入力端子からは電源電圧Vccが入力され、他方の端子からはグランド電位が与えられる。そのため、排他的論理和ゲート71の出力信号は、ハイレベルとなる。したがって、正論理型ゲートGPは導通状態となり、負論理型ゲートGNは遮断状態となる。よって、この状態では、切り換え回路51に接続されている外部接続パッド12を介して、コンフィギュレーションメモリ回路60をプログラムすることができる。
【0032】
一方、コンフィギュレーションメモリ回路60のプログラムが終了した後には、パッド121,122間に適当な電圧が印加される。これにより、アンチヒューズ72は、排他的論理和ゲート71の両端子間を短絡した状態となり、この状態は、パッド121,122間への電圧の印加を停止した後も、永久的に保持される。したがって、以後は、排他的論理和ゲート71の出力信号は、パッド121,122への電圧印加状態に関わりなく、ローレベルとなる。これにより、負論理型ゲートGNは導通状態となり、正論理型ゲートGPは遮断状態となって、以後は、正論理型ゲートGPが導通することはない。
【0033】
したがって、切り換え回路51に接続された外部接続パッド12からは、専ら、FPGA回路50へのアクセスのみが可能であって、コンフィギュレーションメモリ回路60へのアクセスは不可能になる。これにより、コンフィギュレーションメモリ回路60の内容が読み出されたりすることがなくなるから、コンフィギュレーションメモリ回路60の設定情報の秘密性を保持することができる。
【0034】
以上、この発明の2つの実施形態について説明したが、この発明は他の形態でも実施することが可能である。たとえば、上述の実施形態では、コンフィギュレーションメモリ回路60に対するプログラムは、切り換え回路51に接続された外部接続パッド12のみを用いて行われるようになっているが、コンフィギュレーションメモリ回路60に対するプログラムのための配線の一部は、切り換え回路51を介さずに専用の外部接続パッド12に接続されていてもよい。
【0035】
また、上述の実施形態では、子チップ2にバンプBを設けているが、親チップ1側に同様のバンプを設けてもよく、親チップ1および子チップ2の両方にバンプを設けて、バンプ同士を接合することによって親チップ1および子チップ2のチップ・オン・チップ接合を達成してもよい。
また、親チップ1と子チップ2と接合する金属隆起電極は、さほどの高さを要しないので、一般に電解めっきまたは無電解めっきによって形成されるバンプのほかにも、金属蒸着膜のような金属薄膜で構成することもできる。
【0036】
さらに、上記の実施形態では、親チップ1および子チップ2がバンプBを介して接合されたチップ・オン・チップ構造のマルチチップ型半導体装置を例に挙げたが、親チップの表面に子チップ2の裏面(活性表層領域とは反対側の面)を対向させて接合し、チップ接続パッド間の接続をワイヤボンディングにより行う構成のチップ・オン・チップ構造の装置にも、この発明を適用することが可能である。また、ワイヤボンディングにより半導体チップ間が接続される場合には、必ずしもチップ・オン・チップ構造をとる必要はない。さらに、配線基板上に複数の半導体チップが接合され、この配線基板を介して半導体チップ間の接続が達成される構成の半導体装置に対しても、この発明を適用することが可能である。
【0037】
さらに、上記の実施形態では、親チップ1および子チップ2は、いずれもシリコンからなるチップであることとしたが、シリコンの他にも、化合物半導体(ガリウム砒素半導体等)やゲルマニウム半導体などの他の任意の半導体材料を用いた半導体チップをこの発明の半導体装置に適用することができる。この場合に、第1の半導体チップと第2の半導体チップとの半導体材料は、同じでもよいし異なっていてもよい。
【0038】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施形態に係るマルチチップ型半導体装置の分解斜視図である。
【図2】上記マルチチップ型半導体装置の断面図である。
【図3】上記マルチチップ型半導体装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図4】この発明の第2の実施形態に係るマルチチップ型半導体装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図5】従来のFPGAの構成を説明するためのブロック図である。
【符号の説明】
1 親チップ(第1の半導体チップ)
2 子チップ(第2の半導体チップ)
12,121,122 外部接続パッド
50 FPGA回路
51 切り換え回路
60 不揮発性コンフィギュレーションメモリ回路
65 入出力ライン
C1,C2 チップ間接続部
PM,PD チップ接続パッド
B バンプ
70 設定情報保護機構
71 排他的論理和ゲート
72 アンチヒューズ

Claims (3)

  1. フィールドプログラマブルゲートアレイを有する第1の半導体チップと、
    上記フィールドプログラマブルゲートアレイの回路設定のための設定情報を記憶するための書き込み可能な不揮発性メモリを有する第2の半導体チップと、
    上記第1の半導体チップと上記第2の半導体チップとを接続するチップ間接続部材とを含み、
    上記第1の半導体チップは、上記不揮発性メモリのプログラム端子と、上記フィールドプログラマブルゲートアレイの入出力端子とに共通に用いられる外部接続端子と、この外部接続端子を上記不揮発性メモリまたは上記フィールドプログラマブルゲートアレイに選択的に接続する切り換え回路とを含むものである
    ことを特徴とするマルチチップ型半導体装置。
  2. 上記外部接続端子と上記不揮発性メモリとの間の接続を永久的に遮断する設定情報保護機構をさらに含むことを特徴とする請求項記載のマルチチップ型半導体装置。
  3. 上記第1の半導体チップの表面に上記第2の半導体チップが重ねて接合され、これらの第1および第2の半導体チップがチップ・オン・チップ構造で接合されていることを特徴とする請求項1または2に記載のマルチチップ型半導体装置。
JP05807899A 1999-03-05 1999-03-05 マルチチップ型半導体装置 Expired - Fee Related JP3754221B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05807899A JP3754221B2 (ja) 1999-03-05 1999-03-05 マルチチップ型半導体装置
US09/517,283 US6337579B1 (en) 1999-03-05 2000-03-02 Multichip semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05807899A JP3754221B2 (ja) 1999-03-05 1999-03-05 マルチチップ型半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000260961A JP2000260961A (ja) 2000-09-22
JP3754221B2 true JP3754221B2 (ja) 2006-03-08

Family

ID=13073891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP05807899A Expired - Fee Related JP3754221B2 (ja) 1999-03-05 1999-03-05 マルチチップ型半導体装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6337579B1 (ja)
JP (1) JP3754221B2 (ja)

Families Citing this family (99)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8160864B1 (en) 2000-10-26 2012-04-17 Cypress Semiconductor Corporation In-circuit emulator and pod synchronized boot
US8149048B1 (en) 2000-10-26 2012-04-03 Cypress Semiconductor Corporation Apparatus and method for programmable power management in a programmable analog circuit block
US6892310B1 (en) * 2000-10-26 2005-05-10 Cypress Semiconductor Corporation Method for efficient supply of power to a microcontroller
US8176296B2 (en) 2000-10-26 2012-05-08 Cypress Semiconductor Corporation Programmable microcontroller architecture
US6724220B1 (en) 2000-10-26 2004-04-20 Cyress Semiconductor Corporation Programmable microcontroller architecture (mixed analog/digital)
US7765095B1 (en) 2000-10-26 2010-07-27 Cypress Semiconductor Corporation Conditional branching in an in-circuit emulation system
US8103496B1 (en) 2000-10-26 2012-01-24 Cypress Semicondutor Corporation Breakpoint control in an in-circuit emulation system
US6981090B1 (en) * 2000-10-26 2005-12-27 Cypress Semiconductor Corporation Multiple use of microcontroller pad
US7406674B1 (en) 2001-10-24 2008-07-29 Cypress Semiconductor Corporation Method and apparatus for generating microcontroller configuration information
US8078970B1 (en) 2001-11-09 2011-12-13 Cypress Semiconductor Corporation Graphical user interface with user-selectable list-box
US8042093B1 (en) 2001-11-15 2011-10-18 Cypress Semiconductor Corporation System providing automatic source code generation for personalization and parameterization of user modules
US8069405B1 (en) 2001-11-19 2011-11-29 Cypress Semiconductor Corporation User interface for efficiently browsing an electronic document using data-driven tabs
US7774190B1 (en) 2001-11-19 2010-08-10 Cypress Semiconductor Corporation Sleep and stall in an in-circuit emulation system
US6971004B1 (en) 2001-11-19 2005-11-29 Cypress Semiconductor Corp. System and method of dynamically reconfiguring a programmable integrated circuit
US7844437B1 (en) 2001-11-19 2010-11-30 Cypress Semiconductor Corporation System and method for performing next placements and pruning of disallowed placements for programming an integrated circuit
US7770113B1 (en) 2001-11-19 2010-08-03 Cypress Semiconductor Corporation System and method for dynamically generating a configuration datasheet
US7126214B2 (en) * 2001-12-05 2006-10-24 Arbor Company Llp Reconfigurable processor module comprising hybrid stacked integrated circuit die elements
US6627985B2 (en) 2001-12-05 2003-09-30 Arbor Company Llp Reconfigurable processor module comprising hybrid stacked integrated circuit die elements
WO2003065453A1 (de) * 2002-01-31 2003-08-07 Micronas Gmbh Aufnahmevorrichtung für eine programmierbare, elektronische verarbeitungseinrichtung
JP4054200B2 (ja) * 2002-02-19 2008-02-27 松下電器産業株式会社 半導体記憶装置
US8103497B1 (en) 2002-03-28 2012-01-24 Cypress Semiconductor Corporation External interface for event architecture
US7308608B1 (en) 2002-05-01 2007-12-11 Cypress Semiconductor Corporation Reconfigurable testing system and method
US7673273B2 (en) 2002-07-08 2010-03-02 Tier Logic, Inc. MPGA products based on a prototype FPGA
US7129744B2 (en) * 2003-10-23 2006-10-31 Viciciv Technology Programmable interconnect structures
US6747478B2 (en) * 2002-07-08 2004-06-08 Viciciv Field programmable gate array with convertibility to application specific integrated circuit
US6992503B2 (en) * 2002-07-08 2006-01-31 Viciciv Technology Programmable devices with convertibility to customizable devices
US7112994B2 (en) * 2002-07-08 2006-09-26 Viciciv Technology Three dimensional integrated circuits
US20040004251A1 (en) * 2002-07-08 2004-01-08 Madurawe Raminda U. Insulated-gate field-effect thin film transistors
US7064579B2 (en) * 2002-07-08 2006-06-20 Viciciv Technology Alterable application specific integrated circuit (ASIC)
JP3904493B2 (ja) * 2002-07-24 2007-04-11 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
US7761845B1 (en) 2002-09-09 2010-07-20 Cypress Semiconductor Corporation Method for parameterizing a user module
US8643162B2 (en) 2007-11-19 2014-02-04 Raminda Udaya Madurawe Pads and pin-outs in three dimensional integrated circuits
US7812458B2 (en) * 2007-11-19 2010-10-12 Tier Logic, Inc. Pad invariant FPGA and ASIC devices
US7071734B2 (en) * 2002-10-15 2006-07-04 Altera Corporation Programmable logic devices with silicon-germanium circuitry and associated methods
US6917219B2 (en) * 2003-03-12 2005-07-12 Xilinx, Inc. Multi-chip programmable logic device having configurable logic circuitry and configuration data storage on different dice
US7068072B2 (en) * 2003-06-30 2006-06-27 Xilinx, Inc. Integrated circuit with interface tile for coupling to a stacked-die second integrated circuit
DE60327527D1 (de) * 2003-09-23 2009-06-18 St Microelectronics Srl Ein verbessertes feldprogrammierbares Gate-Array
US7030651B2 (en) 2003-12-04 2006-04-18 Viciciv Technology Programmable structured arrays
US7304500B2 (en) * 2003-12-29 2007-12-04 Faraday Technology Corp. Programmable logic module and upgrade method thereof
US7190190B1 (en) * 2004-01-09 2007-03-13 Altera Corporation Programmable logic device with on-chip nonvolatile user memory
DE102004001669B4 (de) * 2004-01-12 2008-06-05 Infineon Technologies Ag Konfigurierbares Logikbauelement ohne lokalen Konfigurationsspeicher mit parallelem Konfigurationsbus
US7295049B1 (en) 2004-03-25 2007-11-13 Cypress Semiconductor Corporation Method and circuit for rapid alignment of signals
US7489164B2 (en) 2004-05-17 2009-02-10 Raminda Udaya Madurawe Multi-port memory devices
US8286125B2 (en) 2004-08-13 2012-10-09 Cypress Semiconductor Corporation Model for a hardware device-independent method of defining embedded firmware for programmable systems
US8069436B2 (en) 2004-08-13 2011-11-29 Cypress Semiconductor Corporation Providing hardware independence to automate code generation of processing device firmware
US7242218B2 (en) * 2004-12-02 2007-07-10 Altera Corporation Techniques for combining volatile and non-volatile programmable logic on an integrated circuit
JP2006179712A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Toshiba Corp 電子機器及びそれを用いた表示装置
US7112993B2 (en) * 2004-12-23 2006-09-26 Actel Corporation Non-volatile memory configuration scheme for volatile-memory-based programmable circuits in an FPGA
WO2006072142A1 (en) * 2005-01-06 2006-07-13 Justin Martin Spangaro A reprogrammable integrated circuit
US7332976B1 (en) 2005-02-04 2008-02-19 Cypress Semiconductor Corporation Poly-phase frequency synthesis oscillator
US7400183B1 (en) 2005-05-05 2008-07-15 Cypress Semiconductor Corporation Voltage controlled oscillator delay cell and method
US7358762B1 (en) * 2005-05-18 2008-04-15 Xilinx, Inc. Parallel interface for configuring programmable devices
US7301822B1 (en) 2005-05-18 2007-11-27 Xilinx, Inc. Multi-boot configuration of programmable devices
US8089461B2 (en) * 2005-06-23 2012-01-03 Cypress Semiconductor Corporation Touch wake for electronic devices
US7327159B1 (en) * 2005-11-28 2008-02-05 Lattice Semiconductor Corporation Interface block architectures
US8085067B1 (en) 2005-12-21 2011-12-27 Cypress Semiconductor Corporation Differential-to-single ended signal converter circuit and method
US8067948B2 (en) 2006-03-27 2011-11-29 Cypress Semiconductor Corporation Input/output multiplexer bus
US7671624B1 (en) * 2006-10-10 2010-03-02 Xilinx, Inc. Method to reduce configuration solution using masked-ROM
US8130025B2 (en) * 2007-04-17 2012-03-06 Cypress Semiconductor Corporation Numerical band gap
US8516025B2 (en) 2007-04-17 2013-08-20 Cypress Semiconductor Corporation Clock driven dynamic datapath chaining
US8026739B2 (en) 2007-04-17 2011-09-27 Cypress Semiconductor Corporation System level interconnect with programmable switching
US9564902B2 (en) 2007-04-17 2017-02-07 Cypress Semiconductor Corporation Dynamically configurable and re-configurable data path
US8040266B2 (en) 2007-04-17 2011-10-18 Cypress Semiconductor Corporation Programmable sigma-delta analog-to-digital converter
US8092083B2 (en) 2007-04-17 2012-01-10 Cypress Semiconductor Corporation Temperature sensor with digital bandgap
US7737724B2 (en) 2007-04-17 2010-06-15 Cypress Semiconductor Corporation Universal digital block interconnection and channel routing
US8266575B1 (en) 2007-04-25 2012-09-11 Cypress Semiconductor Corporation Systems and methods for dynamically reconfiguring a programmable system on a chip
US9720805B1 (en) 2007-04-25 2017-08-01 Cypress Semiconductor Corporation System and method for controlling a target device
US8065653B1 (en) 2007-04-25 2011-11-22 Cypress Semiconductor Corporation Configuration of programmable IC design elements
US8049569B1 (en) 2007-09-05 2011-11-01 Cypress Semiconductor Corporation Circuit and method for improving the accuracy of a crystal-less oscillator having dual-frequency modes
US8415783B1 (en) 2007-10-04 2013-04-09 Xilinx, Inc. Apparatus and methodology for testing stacked die
US7518398B1 (en) * 2007-10-04 2009-04-14 Xilinx, Inc. Integrated circuit with through-die via interface for die stacking
US7576561B1 (en) 2007-11-13 2009-08-18 Xilinx, Inc. Device and method of configuring a device having programmable logic
US7635988B2 (en) * 2007-11-19 2009-12-22 Tier Logic, Inc. Multi-port thin-film memory devices
US20090128189A1 (en) * 2007-11-19 2009-05-21 Raminda Udaya Madurawe Three dimensional programmable devices
US7795913B2 (en) * 2007-12-26 2010-09-14 Tier Logic Programmable latch based multiplier
US7602213B2 (en) * 2007-12-26 2009-10-13 Tier Logic, Inc. Using programmable latch to implement logic
US7573294B2 (en) * 2007-12-26 2009-08-11 Tier Logic, Inc. Programmable logic based latches and shift registers
US7573293B2 (en) * 2007-12-26 2009-08-11 Tier Logic, Inc. Programmable logic based latches and shift registers
US7973555B1 (en) 2008-05-28 2011-07-05 Xilinx, Inc. Configuration interface to stacked FPGA
US8230375B2 (en) 2008-09-14 2012-07-24 Raminda Udaya Madurawe Automated metal pattern generation for integrated circuits
US9448964B2 (en) 2009-05-04 2016-09-20 Cypress Semiconductor Corporation Autonomous control in a programmable system
US8063654B2 (en) * 2009-07-17 2011-11-22 Xilinx, Inc. Apparatus and method for testing of stacked die structure
US8296578B1 (en) 2009-08-03 2012-10-23 Xilinx, Inc. Method and apparatus for communicating data between stacked integrated circuits
WO2011155333A1 (ja) * 2010-06-11 2011-12-15 株式会社日立製作所 半導体集積回路装置
US8648615B2 (en) * 2010-06-28 2014-02-11 Xilinx, Inc. Testing die-to-die bonding and rework
JP5558269B2 (ja) * 2010-09-02 2014-07-23 敏則 末吉 プログラマブル論理回路のエラー訂正回路
JP2012084220A (ja) * 2011-10-25 2012-04-26 Fujitsu Semiconductor Ltd メモリシステム
US8716876B1 (en) * 2011-11-11 2014-05-06 Altera Corporation Systems and methods for stacking a memory chip above an integrated circuit chip
KR102190382B1 (ko) 2012-12-20 2020-12-11 삼성전자주식회사 반도체 패키지
CN103280236A (zh) * 2013-05-14 2013-09-04 上海集成电路研发中心有限公司 非易失性fpga芯片
JP2015231205A (ja) * 2014-06-06 2015-12-21 国立大学法人静岡大学 フィールドプログラマブルゲートアレイ、フィールドプログラマブルゲートアレイ開発ツール、及び、フィールドプログラマブルゲートアレイ開発方法
US9859896B1 (en) 2015-09-11 2018-01-02 Xilinx, Inc. Distributed multi-die routing in a multi-chip module
US10141938B2 (en) * 2016-09-21 2018-11-27 Xilinx, Inc. Stacked columnar integrated circuits
KR20240045345A (ko) * 2019-04-15 2024-04-05 양쯔 메모리 테크놀로지스 씨오., 엘티디. 프로세서 및 동적 랜덤 액세스 메모리를 갖는 본디드 반도체 장치 및 이를 형성하는 방법
CN111033728A (zh) 2019-04-15 2020-04-17 长江存储科技有限责任公司 具有可编程逻辑器件和动态随机存取存储器的键合半导体器件及其形成方法
CN110870062A (zh) 2019-04-30 2020-03-06 长江存储科技有限责任公司 具有可编程逻辑器件和nand闪存的键合半导体器件及其形成方法
KR20210114016A (ko) * 2019-04-30 2021-09-17 양쯔 메모리 테크놀로지스 씨오., 엘티디. 프로세서 및 낸드 플래시 메모리를 갖는 접합된 반도체 소자 및 이를 형성하는 방법
JP7311615B2 (ja) * 2019-04-30 2023-07-19 長江存儲科技有限責任公司 プロセッサおよびnandフラッシュメモリを有する接合半導体デバイスならびにそれを形成する方法
CN111611013B (zh) * 2020-04-30 2023-12-22 京微齐力(北京)科技有限公司 一种支持多镜像的fpga硬启动方法及装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6188538A (ja) * 1984-10-05 1986-05-06 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH0513663A (ja) * 1991-07-09 1993-01-22 Fujitsu Ltd 半導体装置と半導体チツプの実装方法
JPH05167004A (ja) * 1991-12-12 1993-07-02 Fujitsu Ltd 半導体装置
JP2655465B2 (ja) * 1993-01-20 1997-09-17 日本電気株式会社 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置
US5640107A (en) * 1995-10-24 1997-06-17 Northrop Grumman Corporation Method for in-circuit programming of a field-programmable gate array configuration memory
GB9604496D0 (en) * 1996-03-01 1996-05-01 Xilinx Inc Embedded memory for field programmable gate array
US6049222A (en) * 1997-12-30 2000-04-11 Xilinx, Inc Configuring an FPGA using embedded memory
US5977640A (en) * 1998-06-26 1999-11-02 International Business Machines Corporation Highly integrated chip-on-chip packaging

Also Published As

Publication number Publication date
US6337579B1 (en) 2002-01-08
JP2000260961A (ja) 2000-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3754221B2 (ja) マルチチップ型半導体装置
JP3876088B2 (ja) 半導体チップおよびマルチチップ型半導体装置
US6777801B2 (en) Semiconductor device and method of manufacturing same
US6713855B2 (en) Dual die memory
US6452259B2 (en) Stacked substrate and semiconductor device
US6445064B1 (en) Semiconductor device
JP3643706B2 (ja) 半導体装置
US5539250A (en) Plastic-molded-type semiconductor device
US20040038512A1 (en) Method for implementing selected functionality on an integrated circuit device
JP2000232200A (ja) 半導体チップおよびチップ・オン・チップ構造の半導体装置
US20010013643A1 (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2004363458A (ja) 半導体装置
JP2560805B2 (ja) 半導体装置
KR100422450B1 (ko) 반도체 메모리장치의 플립칩 인터페이스회로 및 그 방법
JP2000227457A (ja) 半導体装置
JP2766920B2 (ja) Icパッケージ及びその実装方法
US5991185A (en) Semiconductor memory
JP2000114452A (ja) 半導体装置
JP2780355B2 (ja) 半導体集積回路装置
JP3718370B2 (ja) マルチチップ型半導体装置
JPH0382066A (ja) 半導体装置
KR0163308B1 (ko) 테이프 패드가 형성되어 있는 박막 테이프 및 이를 이용한 반도체 장치
JPH05160333A (ja) 半導体集積回路装置
JP2000091490A (ja) 半導体装置
JP2000164807A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050802

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050926

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051213

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051215

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081222

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees