JPH05215922A - 照明光学装置 - Google Patents
照明光学装置Info
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- JPH05215922A JPH05215922A JP4021495A JP2149592A JPH05215922A JP H05215922 A JPH05215922 A JP H05215922A JP 4021495 A JP4021495 A JP 4021495A JP 2149592 A JP2149592 A JP 2149592A JP H05215922 A JPH05215922 A JP H05215922A
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- Japan
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- optical
- optical waveguide
- light
- light source
- waveguide
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Abstract
おいて、均一な輝度分布を持った二次光源を得る。 【構成】 光源発生装置1と多数回反射してオプティカ
ルインテグレータの役目をする光導波管4と、光導波管
4に光を入射させるための集光レンズ3と、被照射面7
に設置されマスクを照明するための集光レンズ6より構
成された半導体露光装置の照明光学装置である。オプテ
ィカルインテグレータを中空の光導波管で実現すること
によりガラスによる紫外光の吸収をなくすることができ
る。
Description
外光を光源として、LSI等の半導体デバイスを製造す
る際に用いられるマスクパターンの投影露光装置の照明
光学装置に関するものである。
プより発せられる波長436nmのg線、365nmの
i線あるいは波長248nmのエキシマレーザを用いて
おり、照明用光学素子の材料として石英ガラスを用いて
いる。すなわち図6の従来例に示すように、光源11お
よび集光ミラー12から構成される光源部より供給され
る光束2をレンズ12で平行光束として、複数のレンズ
素子より構成されるオプティカルインテグレータ14に
より複数の集光点を形成し、集光レンズ6により被照射
面7に設置されたマスクを照明している。
22号公報,特開昭63−73221号公報,特開昭6
4−76720号公報,特開平2−166783号公報
に記載の技術がある。特開昭61−267722号公報
に記載の技術は図6にあるように、ガラス部材よりなる
光路長の長いオプティカルインテグレータを使用してい
る。特開昭63−73221号公報に記載の技術では、
光ファイバー束でインテグレータの効果とともにスペッ
クル除去を行っている。特開昭64−76720号公報
記載の技術においては台形プリズムのイメージローテー
タ効果を利用して照度分布を均一にしている。特開平2
−166783号公報記載の技術では、ビームスプリッ
タ,直角プリズム,ルーフプリズムを組み合わせて、ビ
ームの一部を上下左右に反転させて重ね合わせることに
より照度分布の均一化をはかっている。
部材はガラスを材料としたレンズあるいはプリズムより
構成されているため、例えばArFエキシマレーザなど
のように短い波長に対しては、ガラス部材による吸収が
多く効率的でなく光学損傷などの問題が発生し実用的で
ない。
明光学装置の光源は、248nmより長い波長の光源で
あるため、照明光学系に石英ガラス等を硝材とした屈折
型のレンズあるいはプリズムで構成することが可能であ
った。結像系の解像度は波長に比例するため、より微細
なパターンを露光するための手段として波長を短くする
方法がある。しかし波長を200nm以下のように短く
すると、透過率の良い硝材がないという問題がある。特
に照明装置は照度分布を均一にするために特開昭61−
267722号公報に記載の実施例にあるような肉厚の
厚いレンズ、あるいは特開昭64−76720号公報に
記載の実施例にあるような光路長の長いプリズムを使用
している。
Fエキシマレーザを光源として用いた照明光学装置にお
いては、従来の技術のように肉厚の厚い光学部品では、
硝材による透過率の低下、また硝材の光学損傷による性
能劣化等の問題が生じ従来の技術では実現困難である。
路長の長いオプティカルインテグレータを中空の光導波
管で構成することにより、光学素子の光学損傷等の問題
がなく効率の良い照明光学装置を提供することにある。
る光源と、前記光束の光強度分布を均一にするための第
1の光学素子と、前記第1の光学素子に光束を集光して
入射させる集光素子と、被照射物体を照明する第2の光
学素子を有する照明光学装置において、前記第1の光学
素子が、入射端面形状に比べて十分に長い導波路を有す
る中空の光導波管で構成されていることを特徴とする。
面形状がゆるやかな凹凸形状の反射面を有する光導波管
であることを特徴とする。
物面反射鏡で構成されていることを特徴とする。
において、最も光路長の長い光学素子であるオプティカ
ルインテグレータに中空の光導波管を用いることによ
り、波長の短い極紫外線に対して透過性を良くして効率
よく照明することができる。
照明光学装置は、光束を供給する光源発生装置1と、光
束の光強度分布を均一にするための光導波管4と、この
光導波管4に光束を集光して入射させる集光レンズ3
と、被照射面7を照明する集光レンズ6とを備えてい
る。光導波管4は、入射端面形状に比べて十分に長い導
波路を有する中空の光導波管で構成されている。
光レンズ3で集光され、被照射面7の輝度分布をより均
一にするための光学素子であるオプティカルインテグレ
ータの機能を持つ光導波管4に入射する。光導波管4は
石英ガラスなどのガラス材料でできており、内側面に反
射ミラーがコーティングされている。コーティングはA
rFエキシマレーザ用反射ミラーの作製と同様にして作
られるが、基板材料が管状であるため管は長さ方向に二
分割あるいは複数に分割してコーティングした後、管状
に再製して作られる。光導波管4は、内面で多数回反射
するように十分長い導波管で構成されている。多数回反
射した光束は入射角度によって反射回数が異なり、射出
端面5の位置まで到達する光路長も異なるため、射出端
面5では輝度分布が一様な二次光源とみなすことができ
るようになる。管の長さは入射面の直径の10倍程度あ
るいはそれ以上が効果が大きい。
ある。集光レンズ3で集光され光導波管4に導かれた光
束は、光導波管4の内側面で多数回反射し射出端面5よ
り二次光源として射出する。内側面での反射角度は大き
いため高反射率で反射することができ、反射回数が増え
ても光量損失は少ない。光導波管4の射出端面5で二次
光源となった光束は、次に設置された集光レンズ6でマ
スクが設置されている被照射面7を均一に照明する。
光装置に用いた応用例を示す図である。図中、参照番号
1〜7は、図1と同じ部材を示している。装置の解像度
を上げるために、光源発生装置1には極紫外光を発生す
るArFエキシマレーザが用いられている。また被照射
面7には半導体露光に用いられるマスクが設置されてい
る。被照射面7の次にはマスクのパターンを露光面9に
設置されたウェハーに結像するための結像光学系8が設
置されている。結像光学系8は本発明における実施例の
波長の硝材の透過性に合わせて、図3のように反射光学
系あるいは反射光学系にレンズを追加したカタディオプ
チックな光学系であることが望ましい。
としての機能をより高めるための方法として、管の内面
に緩やかな凹凸をつける方法がある。図4はその実施例
の図である。管の内面に凹凸をつけることにより入射し
てきた光束をランダムに反射させることができ、射出光
束の輝度分布をより均一にすることができる。
として、集光レンズ3の代わりに放物面反射鏡10によ
り光束2を集光させる方法がある。図5のように光源発
生装置1から発せられた光束2は平行光束に近いため、
放物面反射鏡10で集光することが可能である。光束2
を放物面反射鏡10の光軸と平行に設置し、放物面反射
鏡10の焦点面を中空の光導波管4の入射端面付近に設
置しておけば良い。
い光源に対して光量の損失が少なく均一な輝度分布の二
次光源をもった照明光学系を構成することができる。
た本発明の一実施例を示す図である。
図である。
の応用例を示す概略図である。
内側面に緩やかな凹凸をつけて効率を良くした例を示す
図である。
反射鏡で構成した実施例を示す図である。
Claims (3)
- 【請求項1】光束を供給する光源と、前記光束の光強度
分布を均一にするための第1の光学素子と、前記第1の
光学素子に光束を集光して入射させる集光素子と、被照
射物体を照明する第2の光学素子を有する照明光学装置
において、前記第1の光学素子が、入射端面形状に比べ
て十分に長い導波路を有する中空の光導波管で構成され
ていることを特徴とする照明光学装置。 - 【請求項2】前記光導波管は、内面形状がゆるやかな凹
凸形状の反射面を有する光導波管であることを特徴とす
る請求項1記載の照明光学装置。 - 【請求項3】前記集光素子が放物面反射鏡で構成されて
いることを特徴とする請求項1記載の照明光学装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4021495A JPH05215922A (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 照明光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4021495A JPH05215922A (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 照明光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05215922A true JPH05215922A (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=12056553
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4021495A Pending JPH05215922A (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 照明光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05215922A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007088384A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Univ Of Miyazaki | 真空紫外レーザー光源、真空紫外レーザー発生方法 |
-
1992
- 1992-02-07 JP JP4021495A patent/JPH05215922A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007088384A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Univ Of Miyazaki | 真空紫外レーザー光源、真空紫外レーザー発生方法 |
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