JP3368654B2 - 照明光学装置及び転写方法 - Google Patents

照明光学装置及び転写方法

Info

Publication number
JP3368654B2
JP3368654B2 JP05149094A JP5149094A JP3368654B2 JP 3368654 B2 JP3368654 B2 JP 3368654B2 JP 05149094 A JP05149094 A JP 05149094A JP 5149094 A JP5149094 A JP 5149094A JP 3368654 B2 JP3368654 B2 JP 3368654B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light source
optical
source image
forming means
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP05149094A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH07263312A (ja
Inventor
規彰 山元
孝司 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP05149094A priority Critical patent/JP3368654B2/ja
Priority to US08/365,532 priority patent/US5636003A/en
Publication of JPH07263312A publication Critical patent/JPH07263312A/ja
Priority to US09/326,214 priority patent/USRE39846E1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3368654B2 publication Critical patent/JP3368654B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被照射面上の例えば長
方形状又は円弧状の照明領域を照明するための照明光学
装置に関し、特に、半導体素子又は液晶表示素子等を製
造するための露光装置の照明系に適用して好適なもので
ある。
【0002】
【従来の技術】半導体素子又は液晶表示素子等を製造す
るためのフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置
用の照明系では、高い解像度でレチクル(又はフォトマ
スク等)のパターンを被露光基板(ウエハ、ガラスプレ
ート等)上に露光するため、レチクル上の照明領域での
照度分布均一性を高めることが要求されている。更に、
露光用光源の寿命を延ばすため、露光用光源からの照明
光を高い効率で照明領域に導く必要がある。また、従来
の露光装置としては、被露光基板の各ショット領域にそ
れぞれレチクルのパターンを一括露光する投影露光装置
(ステッパー等)が多用されていた。
【0003】図5(a)は、従来の一括露光方式の露光
装置に使用される照明系を示し、この図5(a)におい
て、水銀ランプ等の光源11は楕円鏡12の第1焦点に
配置されている。その光源1から射出された光束は、楕
円鏡12によりその第2焦点に集光された後、コリメー
タレンズ13により平行光束に変換される。この平行光
束は、断面が四角形のレンズ素子63aの集合体からな
るフライアイレンズ63に入射し、フライアイレンズ6
4の射出側に複数の光源像が形成される。この光源像位
置には円形状の開口部を有する開口絞り91が配置さ
れ、開口絞り91内の光源像からの光束は、コンデンサ
ーレンズ92によって集光されて、被照射物体としての
レチクルRを重畳的に均一な照度で照明する。
【0004】その照明光のもとで、レチクルR上の回路
パターンは、レンズ93a及び93bよりなる投影光学
系93を介してウエハW上に転写される。ウエハWは、
投影光学系93の光軸に垂直な2次元平面内でウエハW
を位置決めするウエハステージWS上に載置され、ウエ
ハW上での1つのショット領域への露光が完了すると、
ウエハステージWSによりウエハW上の別の露光対象の
ショット領域が投影光学系93の露光フィールドに移動
するという、所謂ステップ・アンド・リピート方式で露
光が行われる。
【0005】この場合、コンデンサーレンズ92によ
り、レチクルR上の照明領域とフライアイレンズ63を
構成する個々のレンズ素子93aの入射面とがそれぞれ
共役に設定されている。そして、レチクルR上の照明領
域はほぼ正方形状であり、照明効率を高めるためフライ
アイレンズ93の個々のレンズ素子93aの断面形状
(即ち、入射面の断面形状)もほぼ正方形状である。ま
た、楕円鏡12により集光された後、コリメータレンズ
13を介した光束の断面形状はほぼ円形であり、その光
束の利用効率を高めるため、図5(b)に示すように、
フライアイレンズ63の断面の外形はほぼ円形状とされ
ていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述のようにレチクル
上の照明領域がほぼ正方形状である場合には、1段のフ
ライアイレンズを用いることにより、比較的高い照度分
布均一性で且つ照明光の利用効率を高めてその照明領域
を照明できる。ところで、最近、照明系によりレチクル
上の長方形状又は円弧状等の照明領域を照明し、この照
明領域に対してレチクルを走査し、その照明領域と共役
な露光領域に対して同期して被露光基板を走査しながら
露光を行うスリットスキャン方式、又はステップ・アン
ド・スキャン方式等の走査露光方式の露光装置が注目さ
れている。このような走査露光方式によれば、例えば大
型のレチクルのパターンを高いスループットで露光でき
ると共に、被露光基板上で投影光学系の露光フィールド
より広い領域にレチクルのパターンを露光できる。
【0007】この場合、例えば図5(a)において、レ
チクルR上の照明領域の形状が長方形状であるとする
と、その照明光の利用効率を高めるためには、その照明
領域とフライアイレンズ63の各レンズ素子63aの断
面形状とを共役(相似)にするのが望ましい。そのた
め、そのフライアイレンズ63の代わりに、図5(c)
に示すように断面形状が長方形のレンズ素子94aを束
ねた構成のフライアイレンズ94を使用することが望ま
しい。
【0008】しかしながら、図5(c)に示す如き断面
形状を有するフライアイレンズ94を使用した場合に
は、縦方向と横方向とで配置されるレンズ素子の数が大
きく異なるため、照明領域における縦方向と横方向とで
は重畳される光源像からの光束の個数が大きく異なるよ
うになる。そのため、レチクルR上の長方形状の照明領
域では、長手方向と短辺方向とで照度分布均一性が大き
く異なり、結果として照度むらが生ずるという不都合が
ある。
【0009】これに関して、本出願人は特願平5−19
098号において、オプティカル・インテグレータを2
段配置して、縦方向及び横方向の照度分布を均一化した
照明光学装置を提案した。ところが、この照明光学装置
では、初段のオプティカル・インテグレータとして外形
が長方形状になる場合がある。このように外形が長方形
状の初段のオプティカル・インテグレータに、図5
(a)のコリメータレンズ13から射出される断面形状
がほぼ円形の光束を供給する場合には、その光束をビー
ムエクスパンダを介して断面形状が楕円状の光束に変換
することが考えられるが、このように断面形状を楕円状
としてもその初段のオプティカル・インテグレータにお
ける光量損失が大きいという不都合がある。
【0010】本発明は斯かる点に鑑み、断面形状が例え
ば円形状等の光束を供給する光源を用いて被照射面上の
長方形状又は円弧状等の照明領域を照明する場合に、高
い照度分布均一性で、且つ高い照明効率でその照明領域
を照明できるようにすることを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明による照明光学装
置は、例えば図1に示す如く、所定形状(円形状等)の
光束断面を有する光を供給する光源系(1)と、この光
源系からの光束よりほぼ正方形状又はほぼ円形状に配列
される複数の光源像を形成する第1多光源像形成手段
(2)と、この第1多光源像形成手段からの光束より、
ほぼ長方形状又はほぼ直線状に配列される複数の光源像
を形成する第2多光源像形成手段(4)と、この第2多
光源像形成手段からの光束よりほぼ正方形状又はほぼ円
形状に配列される複数の光源像を形成する第3多光源像
形成手段(6)と、この第3多光源像形成手段複数から
の光束を集光して被照射面(R)を照明するコンデンサ
ー光学系(7)と、それら第1及び第2多光源像形成手
段の間に配置されて第1多光源像形成手段(2)により
形成される光源像の位置と第2多光源像形成手段(4)
により形成される光源像の位置とを共役にするための第
1リレー光学系(3)と、それら第2及び第3多光源像
形成手段の間に配置されて第2多光源像形成手段(4)
により形成される光源像の位置と第3多光源像形成手段
(6)により形成される光源像の位置とを共役にするた
めの第2リレー光学系(5)と、を有するものである。
【0012】この場合、第1多光源像形成手段(2)の
一例は、長方形状の断面を有する複数のレンズ素子(2
a)よりなるものである。また、第2多光源像形成手段
(4)の一例は、少なくとも1列に配列された複数のレ
ンズ素子(4a)からなるものである。また、第3多光
源像形成手段(6)の一例は、長方形状の断面を有する
複数のレンズ素子(6a)からなるものである。
【0013】更に、それら第1、第2及び第3多光源像
形成手段の内の少なくとも1つを、例えば図3に示すよ
うに内面反射型の光学部材(21,41,61)で構成
してもよい。次に、本発明による転写方法は、レチクル
を照明する工程と、そのレチクルのパターンをウエハに
投影する工程と、そのレチクルとそのウエハとを走査す
る工程とを有し、その照明する工程は、光源系から供給
される光を3つのオプティカル・インテグレータ(2,
4,6、又は21,41,61)を介してそのレチクル
に導き、長方形状の照明領域(8a)をそのレチクルに
形成する工程を有し、その走査する工程は、その照明領
域の短手方向に沿ってそのレチクルとそのウエハとを走
査する。そして、一例としてその3つのオプティカル・
インテグレータ(2,4,6)中の最終段の第3オプテ
ィカル・インテグレータ(6)は、その照明領域と相似
な断面形状を有する多数のレンズ素子を有するものであ
り、別の例としてその3つのオプティカル・インテグレ
ータ(21,41,61)中の最終段の第3オプティカ
ル・インテグレータ(61)は、その照明領域と相似な
断面形状を有するものである。
【0014】
【作用】斯かる本発明によれば、第1多光源像形成手段
(2)は、光源系(1)から供給される光束よりほぼ正
方形状又は円形状に配列された複数の光源像を形成す
る。即ち、その第1多光源像形成手段(2)がフライア
イレンズである場合、その外形はほぼ正方形状又は円形
状となる。従って、光源系(1)から供給される光束の
断面形状が例えば円形状であっても、その光束は大部分
が第1多光源像形成手段(2)に入射するため、光量損
失が少なく、照明効率が高い。
【0015】更に、第1多光源像形成手段(2)による
複数の光源像からの光束より、第2多光源像形成手段
(4)によりほぼ長方形状又は直線状に配列された複数
の光源像が形成される。この際、第2多光源像形成手段
(4)による光源像の縦横の配列ピッチを調整すること
により、第2多光源像形成手段(4)の入射面での光量
損失を少なくできる。同様に、第3多光源像形成手段
(6)による光源像の縦横の配列ピッチを調整すること
により、第3多光源像形成手段(6)の入射面での光量
損失を少なくできる。また、第2多光源像形成手段
(4)による多数の光源像がほぼ長方形状又は直線状に
配列されているため、被照射面(R)上の長方形状又は
円弧状の照明領域を含む領域を均一な照度分布で、且つ
高い照明効率で照明できる。
【0016】次に、第1及び第2多光源像形成手段
(2,4)がそれぞれフライアイレンズよりなる場合、
第1のフライアイレンズ(2)を構成する個々のレンズ
素子(2a)の入射面がそれぞれ第2のフライアイレン
ズ(4)の入射面(外形がほぼ長方形状又は直線状)と
共役となる。従って、第1のフライアイレンズ(2)の
レンズ素子(2a)の断面形状を長方形状(又は直線
状)とすることにより、照明効率が高まる。
【0017】この場合、第2のフライアイレンズ(4)
の外形はほぼ長方形状又は直線状であるが、このような
第2のフライアイレンズ(4)はレンズ素子(4a)を
1列又は複数列に配列することにより構成できる。次
に、第3多光源像形成手段(6)がフライアイレンズよ
りなる場合、このフライアイレンズ(6)を構成する個
々のレンズ素子(6a)の入射面がそれぞれ被照射面
(R)上の照明領域と共役となる。従って、第3のフラ
イアイレンズ(6)のレンズ素子(6a)の断面形状を
長方形状とすることにより、被照射面(R)上の長方形
状の照明領域を高い照明効率で照明できる。
【0018】更に、それら第1、第2及び第3多光源像
形成手段の内の少なくとも1つを、例えば図3に示すよ
うにロッドインテグレータ等の内面反射型の光学部材
(21,41,61)で構成した場合には、それら内面
反射型の光学部材(21,41,61)の入射面側に複
数の光源像(虚像も含む)が形成される。従って、フラ
イアイレンズを使用した場合と同様に、被照射面(R)
上の照明領域を高い照度分布均一性で照明できる。
【0019】
【実施例】以下、本発明による照明光学装置の第1実施
例につき図1を参照して説明する。本実施例は、本発明
の照明光学装置を半導体製造用の露光装置の照明系に適
用したものである。図1(a)は本実施例の照明光学装
置を示し、この図1(a)において、光源系1は、楕円
鏡12、この楕円鏡12の第1焦点位置に配置されg線
(436nm)、i線(365nm)又はh線(407
nm)等の光束(露光光)を出力する水銀ランプ等の光
源11、及びコリメータレンズ13より構成されてい
る。光源11から出力された光束は、楕円鏡12の集光
作用により楕円鏡12の第2焦点位置に光源像を形成
し、この光源像からの光束がコリメータレンズ13によ
って平行光束に変換される。この平行光束は、ほぼ正方
形状に配列された複数の光源像を形成する第1多光源形
成手段としてのフライアイレンズ型のオプティカル・イ
ンテグレータ2に入射する。この照明光学装置の光軸に
平行にY軸を取り、Y軸に垂直で且つ図1(a)の紙面
に平行にX軸を取り、Y軸に垂直で且つ図1(a)の紙
面に垂直にZ軸を取る。
【0020】図1(b)に示すように、オプティカル・
インテグレータ2は、長方形状の断面形状を有する複数
のレンズ素子2aを、X方向に6行、且つZ方向に2列
で外形が正方形状になるように束ねて構成されている。
レンズ素子2aの断面形状は、後述の第2多光源形成手
段としてのオプティカル・インテグレータ4(図1
(c))の全体の断面形状と相似になるように形成され
ている。オプティカル・インテグレータ2を構成する各
レンズ素子2aに入射した光束は集光され、各レンズ素
子2aの射出側にそれぞれ光源像が形成される。従っ
て、図1(a)において、オプティカル・インテグレー
タ2の射出面(射出側焦点面)A1には、レンズ素子2
aの数に相当する複数の光源像がほぼ正方形状に配列さ
れて形成され、ここには実質的に2次光源が形成され
る。
【0021】その射出面A1近傍に円形開口を有する光
量調整用の開口絞り31が配置され、オプティカル・イ
ンテグレータ2によって形成された複数の2次光源の
内、開口絞り31内の2次光源からの光束は、レンズ3
2及び33よりなるリレー光学系3によって集光され、
長方形状に配列された複数の光源像を形成する第2多光
源形成手段としてのフライアイレンズ型のオプティカル
・インテグレータ4に入射する。図1(c)に示すよう
に、オプティカル・インテグレータ4はほぼ正方形状の
断面を有するレンズ素子4aを、X方向に3行、且つZ
方向に9列で全体として長方形状になるように束ねて構
成されている。この各レンズ素子7aの断面形状は、後
述の第3多光源像形成手段としてのオプティカル・イン
テグレータ6(図1(d))の全体の断面形状と相似と
なるように構成されている。これにより、オプティカル
・インテグレータ4を構成する各レンズ素子4aを通過
する光束は、それぞれ集光されて各レンズ素子4aの射
出側に光源像が形成される。従って、図1(a)におい
て、オプティカル・インテグレータ4の射出面A2に
は、長方形状に配列された複数の光源像が形成され、こ
こには実質的に3次光源が形成される。
【0022】オプティカル・インテグレータ4によって
形成された3次光源からの光束は、レンズ51及び52
よりなるリレー光学系5によって集光されて、ほぼ正方
形状に配列された複数の光源像を形成する第3多光源像
形成手段としてのフライアイレンズ型のオプティカル・
インテグレータ6に入射する。図1(d)に示すよう
に、オプティカル・インテグレータ6は、長方形状の断
面を有するレンズ素子6aを、X方向に9行、且つZ方
向に3列で全体としてほぼ正方形状になるように束ねて
構成されている。このオプティカル・インテグレータ6
を構成する各レンズ素子6aを通過する光束は、それぞ
れ集光されて各レンズ素子6aの射出側には光源像が形
成される。従って、オプティカル・インテグレータ6の
射出面A3には正方形状に配列された複数の光源像が形
成され、ここには実質的に4次光源が形成される。
【0023】図1(a)において、オプティカル・イン
テグレータ6の射出面A3に形成される正方形状に配列
された複数の光源像の数は、オプティカル・インテグレ
ータ2を構成するレンズ素子2aの数をL個、オプティ
カル・インテグレータ4を構成するレンズ素子4aの数
をM個、オプティカル・インテグレータ6を構成するレ
ンズ素子6aの数をN個としたとき、L×M×N個とな
る。
【0024】なお、リレー光学系3はオプティカル・イ
ンテグレータ2の入射面B1とオプティカル・インテグ
レータ4の入射面B2とを光学的に共役にすると共に、
オプティカル・インテグレータ2の射出面A1とオプテ
ィカル・インテグレータ4の射出面A2とを光学的に共
役にしている。また、リレー光学系5も、オプティカル
・インテグレータ4の入射面B2とオプティカル・イン
テグレータ6の入射面B3とを光学的に共役にすると共
に、オプティカル・インテグレータ4の射出面A2とオ
プティカル・インテグレータ6の射出面A3とを光学的
に共役にしている。
【0025】オプティカル・インテグレータ6によって
形成されたほぼ正方形状に分布する4次光源からの光束
は、オプティカル・インテグレータ6の射出面A3の直
後に配置されている開口絞り71の円形状の開口を通過
して、断面形状が円形状の光束に変換される。開口絞り
71を通過した光束は、レンズ72及び73よりなるコ
ンデンサー光学系7を介して、被照射面R1上に設置さ
れているレチクルRのパターン形成面上の長方形状の照
明領域8aを照明する。コンデンサー光学系7は、その
前側焦点位置がオプティカル・インテグレータ6の射出
面(射出側焦点面)A3と一致し、且つその後側焦点位
置が被照射面R1に一致するように構成されている。従
って、オプティカル・インテグレータ6により形成され
る複数の光源像からの光束はコンデンサー光学系7の集
光作用により被照射面R1を重畳的に均一な照度分布で
照明する。この際に、初段のオプティカル・インテグレ
ータ2の直後の開口絞り31の交換、又は開口絞り31
の開口径の制御により、被照射面R1上での光量が制御
される。
【0026】次に、本実施例の3段のオプティカル・イ
ンテグレータ2,4及び6の作用につき説明する。先
ず、被照射面R1上の照明領域8aは、図1(e)に示
すようにZ方向に長い長方形であり、その照明領域8a
内のパターンが不図示の投影光学系を介して不図示のウ
エハ上に投影露光される。この際に、照明領域8aに対
して短辺方向であるX方向にレチクルRを走査し、それ
と共役な方向にウエハを走査することにより、レチクル
Rの全パターンがウエハのショット領域に転写される。
【0027】また、コンデンサー光学系7によりその長
方形状の照明領域8aと、オプティカル・インテグレー
タ6の各レンズ素子6aの入射面B3とが共役になって
いる。そこで、各レンズ素子6aに入射した光束の大部
分が照明領域8aを照明するためには、各レンズ素子6
aの断面形状を照明領域8aと相似(共役)な長方形と
する必要があるが、既に説明したように本実施例ではこ
の条件が満たされている。具体的に各レンズ素子6aの
形状は、図1(h)に示すように直方体状となってい
る。これにより、オプティカル・インテグレータ6に入
射した光束が効率的に照明領域8a上に照射される。
【0028】更に、オプティカル・インテグレータ6の
全体の断面形状は正方形状であるが、これは開口絞り7
1の開口としては通常円形の開口、輪体状の開口、又は
円周に内接する複数個の小円開口等が使用されるため、
その円形の開口又は円周に外接する図形として正方形状
の図形を選んだものである。以上をまとめると、図1に
おいて、長方形の照明領域8aの長手方向(Z方向)の
幅をt、短辺方向(X方向)の幅をsとして、オプティ
カル・インテグレータ6の各レンズ素子6aのZ方向
(長手方向)の幅をm3、X方向(短手方向)の幅をn
3とすると、次の関係を満たすことが望ましい。
【0029】n3/m3=s/t (1) 次に、リレーレンズ系5により、オプティカル・インテ
グレータ6の入射面B3とオプティカル・インテグレー
タ4の各レンズ素子4aの入射面B2とが共役になって
いる。そのため、各レンズ素子4aに入射した光束の大
部分がオプティカル・インテグレータ6の入射側端面に
入射するためには、各レンズ素子4aの断面形状をオプ
ティカル・インテグレータ6の断面形状と相似(共役)
な正方形状とする必要があるが、既に説明したように本
実施例ではこの条件が満たされている。具体的に、各レ
ンズ素子4aは、図1(g)に示すように正四角柱状と
なっている。これにより、オプティカル・インテグレー
タ4に入射した光束が効率的にオプティカル・インテグ
レータ6に入射する。
【0030】更に、オプティカル・インテグレータ4の
全体の断面形状は長方形状であるが、これはコリメータ
レンズ13から射出される断面形状が円形状の光束を効
率的に照明領域8aに導くために定められたものであ
る。以上をまとめると、3段目のオプティカル・インテ
グレータ6の全体のZ方向の幅をM3、X方向の幅をN
3として、オプティカル・インテグレータ4の各レンズ
素子4aのZ方向の幅をm2、X方向の幅をn2とする
と、次の関係を満たすことが望ましい。
【0031】m2/n2=M3/N3 (2) なお、開口絞り71の開口は円形であるため、最終段の
オプティカル・インテグレータ6の断面形状を従来例の
図5(b)に示すように、ほぼ円形状又はほぼ正6角形
状とすることも可能であるが、この場合には、2段目の
オプティカル・インテグレータ4の各レンズ素子4aの
断面形状を正6角形として、全体の断面形状をほぼ長方
形状としてもよい。
【0032】更に、リレーレンズ系3により、オプティ
カル・インテグレータ4の入射面B2とオプティカル・
インテグレータ2の各レンズ素子2aの入射面B1とが
共役になっている。そのため、各レンズ素子2aに入射
した光束の大部分がオプティカル・インテグレータ4の
入射側端面に入射するためには、各レンズ素子2aの断
面形状をオプティカル・インテグレータ4の断面形状と
相似(共役)な長方形状とする必要があるが、既に説明
したように本実施例ではこの条件が満たされている。具
体的に、各レンズ素子2aは、図1(f)に示すように
直方体状となっている。これにより、オプティカル・イ
ンテグレータ2に入射した光束が効率的にオプティカル
・インテグレータ4に入射する。
【0033】更に、オプティカル・インテグレータ2の
全体の断面形状は正方形状であるが、これは光源系1か
ら射出される光束の断面形状がほぼ円形状であるため、
その光束を効率的に受光するために定められたものであ
る。以上をまとめると、2段目のオプティカル・インテ
グレータ4の全体のZ方向(長手方向)の幅をM2、X
方向(短手方向)の幅をN2として、オプティカル・イ
ンテグレータ2の各レンズ素子2aのZ方向(長手方
向)の幅をm1、X方向(短手方向)の幅をn1とする
と、次の関係を満たすことが望ましい。
【0034】 m1/n1=M2/N2 (3) これら(1)式〜(3)式を満たす範囲内で各オプティ
カル・インテグレータ2,4及び6の全体の外形、及び
各レンズ素子の断面形状が設定できる。また、照度分布
均一性に関しては、最終段のオプティカル・インテグレ
ータ6の射出面A3に多数の光源像が形成されるため、
照明領域8a上では重畳効果により極めて高い照度分布
均一性が得られる。以上のように本実施例によれば、オ
プティカル・インテグレータを3段重ねたことにより、
光源系1から射出される断面形状がほぼ円形の光束によ
り、長方形の照明領域8aが均一な照度分布(ケーラ照
明)で、且つ高い照明効率で照明される。
【0035】なお、既に述べたように本出願人は特願平
5−19098号において、2段のオプティカル・イン
テグレータを用いた照明光学装置を提案している。そこ
で、その2段のオプティカル・インテグレータを用いた
場合と、本実施例のように3段のオプティカル・インテ
グレータを用いた場合との比較を行う。図4は、そのよ
うに2段のオプティカル・インテグレータを用いた照明
光学装置中で、光源としてエキシマレーザ光源を使用
し、オプティカル・インテグレータとしてフライアイレ
ンズ型を使用した場合を示す。この図4の光源系1Bに
おいて、エキシマレーザ光源14から出力される断面形
状が矩形(図4(b)参照)の平行光束LBは、シリン
ドリカルレンズ15及び16よりなるビーム整形光学系
を通過して所定のビーム断面の光束に変換される。
【0036】光源系1Bから射出される光束は、図4
(c)に示す正方形状のレンズ断面を有する複数のレン
ズ素子42aが図4(a)の紙面に垂直な方向に1列状
に配列されたオプティカル・インテグレータ42に入射
する。このオプティカル・インテグレータ42の射出面
E2における図4(a)の紙面と垂直な方向には1列状
に配列された光源像が形成される。射出面E2近傍には
円形開口を有する開口絞り55が配置され、開口絞り5
5内の複数個の光源像からの光束は、レンズ56及び5
7よりなるリレー光学系5Bを通過した後、図4(d)
に示すように長方形状のレンズ断面を有する複数のレン
ズ素子62aが正方形状に配列されてオプティカル・イ
ンテグレータ62に入射する。
【0037】オプティカル・インテグレータ62の集光
作用によりその射出面E3には、正方形状に配列された
複数の光源像が形成される。この光源像位置には円形状
の開口部を有する開口絞り77が設けてあり、この開口
絞り77により円形状となった複数の光源像からの光束
は、レンズ78及び79よりなるコンデンサー光学系7
Bを介してレチクルRの被照射面R2上の長方形状の照
明領域8aを照明する。このコンデンサー光学系7B
は、この前側焦点位置がオプティカル・インテグレータ
62の射出面E3と一致し、この後側焦点位置がレチク
ルRの被照射面R2に一致するように構成されている。
これにより、オプティカル・インテグレータ62により
形成される複数の光源像からの光束は、コンデンサー光
学系7Bの集光作用を受けてレチクルR上の照明領域8
aを重畳的に均一照明する。
【0038】また、オプティカル・インテグレータ22
の直後の開口絞り55の交換や、開口絞り55の開口径
の変化により、レチクルRの照明領域8aでの光量が制
御されていた。しかしながら、この図4において、光源
系1Bの代わりに図1の光源系1を用いると、光源系1
からの光束の断面形状が円形であるため、オプティカル
・インテグレータ42の入射面で光量損失が生じてしま
う。これに対して、図1の本実施例では初段のオプティ
カル・インテグレータ2の断面形状が正方形状であるた
め、その初段のオプティカル・インテグレータ2での光
量損失が少なくなっている。
【0039】次に、被照射面上での光量制御について比
較すると、図4の例ではオプティカル・インテグレータ
42の直後の開口絞り55により光量を制御している。
この場合、オプティカル・インテグレータ42が長方形
状をしているため、ここからの光束を開口絞り55の円
形開口で制限すると、オプティカル・インテグレータ6
2の各レンズ素子62aの射出面にそれぞれ形成される
オプティカル・インテグレータ42の射出面の複数の光
源像の像の大きさが変化する。また、図4の照明光学装
置を投影露光装置に適用した場合、その開口絞り55の
配置面は投影光学系の瞳面と共役である。
【0040】従って、開口絞り55の開口径の変化によ
り、投影光学系の瞳面に形成される光源像が局所的に変
化して、結像性能が劣化する恐れがある。オプティカル
・インテグレータ62のレンズ素子62aの配列数をN
1(X方向)×N2(Z方向)とすると、投影光学系の
瞳面に形成される光源像の局所的な変化のX方向及びZ
方向への空間的周期は(N1,N2)となる。
【0041】これに対して、図1に示す本実施例におい
ては、オプティカル・インテグレータを3段直列に配置
し、且つ光量制御のための開口絞り31を初段のオプテ
ィカル・インテグレータ2の射出面の直後に置いてい
る。従って、オプティカル・インテグレータ4の各レン
ズ素子の配列数をM1(X方向)×M2(Z方向)、オ
プティカル・インテグレータ6の配列をN1×N2とし
たとき、投影光学系の瞳面に形成される光源像の局所的
変化のX方向及びZ方向への空間的周期は(M1×N
2,M1×N2)となり、投影光学系の瞳面に形成され
る光源像の輝度変化をより小さく局所化でき、投影光学
系の結像性能の劣化を防ぐことが出来るという利点があ
る。
【0042】次に、本発明の第2実施例につき図2を参
照して説明する。本実施例は、図1の実施例を用いて円
弧状の照明領域を照明するものであり、この図2におい
て図1に対応する部分には同一符号を付してその詳細説
明を省略する。図2(a)は本実施例の照明光学装置の
平面図、図2(b)はその照明光学装置の正面図であ
り、これら図2(a)及び(b)において被照射面R1
上の長方形の照明領域が均一な照度分布で照明されてい
る。本実施例では、その被照射面R1上に視野絞り81
が設置されている。視野絞り81の開口はその長方形の
照明領域より小さい長方形であり、視野絞り81の開口
形状により最終的な円弧状の照明領域の形状(大きさ)
が決定される。
【0043】その視野絞り81の開口を通過した光束
が、リレーレンズ82を介してトーリック型反射鏡83
に入射する。この際に、リレーレンズ82の前側焦点位
置は視野絞り81の配置面と一致し、リレーレンズ82
の後側焦点位置を面A4とすると、面A4はオプティカ
ル・インテグレータ6の射出面A3と共役であり、この
面A4には多数の光源像が形成される。
【0044】この場合、その光源像が形成される面A4
に垂直に、且つ図2(a)及び(b)の紙面内にオプテ
ィカル・インテグレータ6の光軸AX4があるものとす
る。また、所定の定数αを用いて、面A4に垂直で且つ
光軸AX4からの距離が1/(2α)になる位置に面A
5を設定し、面A5内で図2(b)の紙面に平行な方向
にY軸、面A5内でY軸に垂直(即ち、図2(b)の紙
面に垂直)にZ軸を取る。そして、Y軸上で面A4から
の距離が3/(4α)の位置に原点Oを取り、原点Oを
通りYZ平面に垂直にX軸を取る。
【0045】次に、図2(b)に示すように、XY平面
内に、上述の定数αを用いて、Y=αX2 で定義される
放物線PAを想定する。この放物線PAの対称軸AX1
はY軸そのものである。この放物線PAを、面A4内で
光軸AX4を通り且つY軸に垂直な基準軸AX3を中心
として回転させて放物トーリック状の回転面を形成し、
この放物トーリック状の回転面と光軸AX4との交点を
中心として、この放物トーリック状の回転面上で2つの
緯線と、2つの経線とで囲まれた領域をトーリック型反
射鏡83の反射面とする。トーリック型反射鏡83の反
射面には、光源系1から供給される波長帯の光束に対す
る反射率を高めるための誘電体多層膜が形成されてい
る。
【0046】この場合、面A4上の光源像の1点からの
光束は、実線で示すようにトーリック型反射鏡83によ
り平行光束に変換され、面A5上にはテレセントリック
性が維持された状態で円弧状の照明領域84が形成され
る。一方、光軸AX4に平行な光は、トーリック型反射
鏡83で反射された後、面A5上のY軸上で原点Oから
1/(4α)だけ離れた位置、即ち面A4から1/(2
α)だけ離れた位置を通過するため、照明領域83もそ
の位置を中心として形成されている。
【0047】図2において、トーリック型反射鏡83の
焦点距離fは1/(2α)であり、トーリック型反射鏡
83の入射瞳(光源側焦点位置)は、光源像形成面であ
る面A4上にあり、面A5上にトーリック型反射鏡83
の被照明物体側の焦点位置がある。その円弧状の照明領
域84が形成される面A5には、レチクルRのパターン
形成面が配置されている。レチクルRは、不図示のレチ
クルステージを介して円弧状の照明領域84に対してY
軸に平行な方向(短辺方向)に一定速度で走査される。
このレチクルRの下方には、例えば等倍で両側テレセン
トリックなミラープロジェクション方式の投影光学系
(不図示)が設けられている。ミラープロジェクション
方式の投影光学系では、良像範囲が円弧状であるため、
レチクルR上の照明領域を円弧状とすることが望まし
い。照明領域84内のレチクルRのパターン像がその投
影光学系を介して、レチクルRと同期して走査されるウ
エハW上に結像投影される。これにより、走査露光方式
でレチクルRのパターンがウエハ上に逐次転写露光され
る。
【0048】上述のように本実施例によれば、リレー光
学系7の次にトーリック型反射鏡83が設置されている
ため、最終的にレチクルR上の円弧状の照明領域84を
高い照度分布均一性が且つ高い照明効率で照明できる。
なお、本実施例でのトーリック型反射鏡83によりレチ
クルR上には、図2(c)に示す如き円弧状の照明領域
84が形成されるが、ここで、円弧状の照明領域84の
中心部の幅をs、円弧状の照明領域84の円弧(弦)の
長さをt、オプティカル・インテグレータ6の各レンズ
素子6aのZ方向(長手方向)の幅をm3、オプティカ
ル・インテグレータ6の各レンズ素子6aのX方向(短
手方向)の幅をn3とするとき、オプティカル・インテ
グレータ6は上述の(1)式を満足するように構成され
ることが望ましい。また、オプティカル・インテグレー
タ6とオプティカル・インテグレータ4との相対的な関
係は上述の(2)式を満足することが好ましく、更にオ
プティカル・インテグレータ4とオプティカル・インテ
グレータ2との相対的な関係は上述の(3)式を満足す
ることがより好ましい。次に、本発明の第3実施例につ
き図3を参照して説明する。本実施例はオプティカル・
インテグレータとしてガラスロッド等の内面反射型のイ
ンテグレータを使用して、長方形状の照明領域を照明す
る例であり、図3において図1に対応する部分には同一
符号を付してその詳細説明を省略する。
【0049】図3(a)は本実施例の照明光学装置の平
面図、図3(b)はその照明光学装置の正面図であり、
これら図3(a)及び(b)において被照射面R1上の
長方形状の照明領域8aの長手方向をZ軸、短辺方向を
X軸として、光軸に平行にY軸を取る。図3(a)及び
(b)に示す如く、光源系1Aは、楕円鏡12と、楕円
鏡12の第1焦点位置に配置され、g線(436n
m)、i線(365nm)又はh線(407nm)等の
光束を出力する水銀ランプ等の光源11から構成されて
いる。光源系1Aにおいて、光源11からの光を楕円鏡
12の集光作用により集光し、楕円鏡12の第2焦点位
置に光源像を形成する。
【0050】楕円鏡12の第2焦点は、第1多光源形成
手段としての内部反射型の長方形断面を有する光学部材
21(図3(c)参照)の入射側端面C1上に位置する
様に配置され、光学部材21の入射側端面C1上には光
源像が形成される。光学部材21は例えばガラスロッド
から構成されている。その光源像からの光束は光学部材
21で内部反射を繰り返し、光学部材21の射出側端面
D1から射出する。このとき、光学部材21の入射側端
面C1には正方形状に配列された複数の光源像(虚像)
が形成され、光学部材21の入射側端面C1上にあたか
も複数の光源像があるかの如く、光学部材21の射出側
端面D1から光束が射出される。
【0051】内面反射型の光学部材21から射出された
光束は、レンズ34及び35よりなるリレー光学系3A
を通過した後、第2多光源像形成手段としての正方形状
断面を有する内部反射型の光学部材41(図3(d)参
照)に入射する。このリレー光学系3Aは、光学部材2
1の入射側端面C1と光学部材41の入射側端面C2と
を光学的に共役にすると共に、光学部材21の射出側端
面D1と光学部材41の射出側端面D2とを光学的に共
役にしている。
【0052】これにより、光学部材21の入射側端面C
1に形成された正方形状に分布するる複数の光源像から
の光束は、光学部材41の入射側端面C2上に正方形状
に分布する複数の光源像を形成する。この光源像からの
光束は、光学部材41で内面反射を繰り返し、光学部材
41の射出側端面D2から射出する。このとき光学部材
41の入射側端面C2には長方形状に分布する複数の光
源像(虚像)が形成され、あたかも光学部材41の入射
側端面C2に複数の光源像があるかのように、光学部材
41の射出側端面D2より光束が射出される。
【0053】光学部材41の射出側端面D2より射出さ
れた光束は、レンズ53及び54よりなるリレー光学系
5Aを経て、第3多光源像形成手段としての長方形状断
面を持つ内部反射型の光学部材61(図3(e)参照)
に入射する。このリレー光学系5Aは、光学部材41の
入射側端面C2と光学部材61の入射側端面C3を光学
的に共役にすると共に、光学部材41の射出側端面D2
と光学部材61の射出側端面D3とを光学的に共役にし
ている。このため、光学部材41の入射側端面C2上に
形成されている複数の光源像からの光束は、光学部材6
1の入射側端面C3上に長方形状に分布する複数の光源
像(実像)を形成する。
【0054】この光学部材61の入射側端面C3上に形
成された複数の光源像からの光束は、光学部材61で内
部反射を繰り返し、光学部材61の射出側端面D3より
射出される。このとき、光学部材61の入射側端面C3
には複数の光源像(虚像)が形成され、光学部材41か
らの光束により直接形成される複数の光源像(実像)と
合わせて、全体で正方形状に分布する複数の光源像が形
成される。光学部材61の射出側端面D3からは、あた
かも光学部材61の入射側端面C3上に複数の光源像が
あるかの様に光束が射出される。
【0055】光学部材61から射出された光束は、コン
デンサー光学系7A内で集光レンズ74を通過したの
ち、円形開口を有する開口絞り75に入射する。集光レ
ンズ74は、その前側焦点位置が光学部材61の射出側
端面D3と一致する様に配置されていると共に、集光レ
ンズ74により光学部材61の入射側端面C3と開口絞
り75の配置面C4とが共役になっている。これによ
り、開口絞り75の配置面C4には正方形状に分布する
光源像が形成され、開口絞り75の例えば円形の開口に
より、円形状に分布する複数の光源像に変換される。
【0056】開口絞り75の開口内の光源像からの光束
は、コンデンサーレンズ76により集光作用を受け、レ
チクルRの被照射面R1上の照明領域8aを照明する。
コンデンサーレンズ76の前側焦点位置は開口絞り75
の配置面C4と一致し、且つその後側焦点位置は、被照
射面R1と一致するように構成されている。これによ
り、開口絞り75の配置面C4上に形成された光源像か
らの光束は、被照射面R1上で、長方形状の照明領域8
aを重畳的に均一な照度で照明する。
【0057】本実施例においては、長方形状の照明領域
8aと共役な光学部材61の射出側端面D3は、その照
明領域8aと相似(共役)な長方形状であるため、光学
部材61から射出された光束は効率的に照明領域8aを
照明する。また、2段の光学部材41及び61により照
明領域8aにおけるX方向及びZ方向の照度分布の均一
性が高められている。しかも、初段の光学部材21の入
射側端面C1の中央部には、光源11の像が形成される
ため、光源系1Aから供給される光束の断面形状が円形
状であっても、光量損失が生じない利点がある。ここ
で、本実施例で使用される光学部材21,41,61の
最適な構成例につき説明する。先ず、照明領域8aの長
辺方向(Z方向)の幅をt、短辺方向(X方向)の幅を
sとして、3段目の光学部材61のZ方向(長手方向)
の幅をv3、X方向(短手方向)の幅をu3とすると、
照明領域8aと光学部材61の射出側端面とが共役であ
るため、次の関係が成立することが望ましい。
【0058】s/t=u3/v3 (4) また、リレー光学系5Aの結像倍率をβ5Aとして、2段
目の光学部材41のZ方向の幅をv2、X方向の幅をu
2とすると、次の関係が成立することが望ましい。但
し、本実施例ではv2=u2が成立している。 u2=β5A・u3 (5) また、リレー光学系3Aの結像倍率をβ3Aとして、初段
の光学部材21のZ方向(長手方向)の幅をv1、X方
向(短手方向)の幅をu1とすると、次の関係が成立す
ることが望ましい。但し、本実施例ではv2=u2が成
立している。
【0059】u1=β3A・u2 (6) これらの関係が成立することにより、照明領域8aが高
い照明効率で、且つ高い照度分布均一性(ケーラー照
明)で照明される。なお、光学部材21,41,61と
してはロッドガラスの他に、中空の角柱状の内面反射型
の光学部材を使用してもよい。
【0060】また、本発明において、第1多光源像形成
手段〜第3多光源像形成手段として、フライアイレンズ
型のオプティカル・インテグレータと、内面反射型の光
学部材とを混ぜて使用してもよいことは言うまでもな
い。更に、上述実施例では、光源系として水銀ランプ等
の光源からの光束を楕円鏡で集光する系が使用されてい
るが、例えばレーザ光源を使用するような場合でもその
レーザ光源から射出される光束の断面形状がほぼ円形状
であるときには、本発明を適用して3段のオプティカル
・インテグレータを用いることにより、照度分布均一性
の条件と照明効率の条件とを満たすことができる。
【0061】このように本発明は上述実施例に限定され
ず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り
得る。
【0062】
【発明の効果】本発明によれば、3段の多光源像形成手
段を配置しているため、光源系から供給される光束の断
面形状が例えば円形状であっても、その光源系からの光
束を効率的に取り込むことができる。従って、高い照度
分布均一性で、且つ高い照明効率で被照射面上の長方形
状又は円弧状等の照明領域を照明できる利点がある。
【0063】従って、本発明を投影光学系を有する投影
露光装置の照明系として適用した場合には、光源像が形
成される投影光学系の瞳面での照度分布が均一に出来る
ため、投影光学系の十分な解像力及び焦点深度の性能を
引き出すことが出来る。また、第1多光源像形成手段
が、長方形状の断面を有する複数のレンズ素子よりなる
場合には、そのレンズ素子の入射面と被照射面とを共役
にすることにより、その被照射面上の長方形状の照明領
域を効率的に照明できる。
【0064】次に、第2多光源像形成手段が、少なくと
も1列に配列された複数のレンズ素子からなる場合に
は、全体としての照明効率を高めることができる。ま
た、第3多光源像形成手段が、長方形状の断面を有する
複数のレンズ素子からなる場合には、特に第2多光源像
形成手段がフライアイレンズ型のオプティカル・インテ
グレータで、且つ断面形状が長方形状のときの照明効率
を高めることができる。
【0065】更に、第1、第2及び第3多光源像形成手
段の内の少なくとも1つを、内面反射型の光学部材で構
成した場合には、光学系の構成が簡略化できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による照明光学装置の第1実施例を示す
図であり、(a)はその実施例をZ方向から見た正面
図、(b)はオプティカル・インテグレータ2の入射面
を示す図、(c)はオプティカル・インテグレータ4の
入射面を示す図、(d)はオプティカル・インテグレー
タ6の入射面を示す図、(e)は照明領域を示す図、
(f)はレンズ素子2aを示す拡大斜視図、(g)はレ
ンズ素子4aを示す拡大斜視図、(h)はレンズ素子6
aを示す拡大斜視図である。
【図2】本発明による照明光学装置の第2実施例を半導
体製造用の露光装置に適用したときの構成を示す図であ
り、(a)はその実施例を示す平面図、(b)はその実
施例の正面図である。
【図3】本発明による照明光学装置の第3実施例を半導
体製造用の露光装置に適用したときの構成を示す図であ
り、(a)はその実施例を示す平面図、(b)はその実
施例を示す正面図、(c)は光学部材21を示す拡大斜
視図、(d)は光学部材41を示す拡大斜視図、(e)
は光学部材61を示す拡大斜視図である。
【図4】本出願人の先願に係る照明光学装置の一例の構
成を示す図である。
【図5】従来の照明光学装置を半導体製造用の露光装置
に適用したときの構成を示す図である。
【符号の説明】
1 光源系 2,4,6 オプティカル・インテグレータ 3,5 リレー光学系 3A,5A リレー光学系 7 コンデンサー光学系 7A コンデンサー光学系 R1 被照射面 R レチクル 8a 照明領域 11 水銀ランプ等の光源 12 楕円鏡 13 コリメータレンズ 21,41,61 内面反射型の光学部材 31 開口絞り 71 開口絞り 83 トーリック型反射鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 G03F 7/20 521

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定形状の光束断面を有する光を供給す
    る光源系と、 該光源系からの光束よりほぼ正方形状又はほぼ円形状に
    配列される複数の光源像を形成する第1多光源像形成手
    段と、 該第1多光源像形成手段からの光束より、ほぼ長方形状
    又はほぼ直線状に配列される複数の光源像を形成する第
    2多光源像形成手段と、 前記第2多光源像形成手段からの光束よりほぼ正方形状
    又はほぼ円形状に配列される複数の光源像を形成する第
    3多光源像形成手段と、 該第3多光源像形成手段からの光束を集光して被照射面
    を照明するコンデンサー光学系と、 前記第1及び第2多光源像形成手段の間に配置されて前
    記第1多光源像形成手段により形成される光源像の位置
    と前記第2多光源像形成手段により形成される光源像の
    位置とを共役にするための第1リレー光学系と、 前記第2及び第3多光源像形成手段の間に配置されて前
    記第2多光源像形成手段により形成される光源像の位置
    と前記第3多光源像形成手段により形成される光源像の
    位置とを共役にするための第2リレー光学系と、 を有することを特徴とする照明光学装置。
  2. 【請求項2】 前記第1多光源像形成手段は、長方形状
    の断面を有する複数のレンズ素子よりなることを特徴と
    する請求項1記載の照明光学装置。
  3. 【請求項3】 前記第2多光源像形成手段は、少なくと
    も1列に配列された複数のレンズ素子からなることを特
    徴とする請求項1又は2記載の照明光学装置。
  4. 【請求項4】 前記第3多光源像形成手段は、長方形状
    の断面を有する複数のレンズ素子からなることを特徴と
    する請求項1、2又は3記載の照明光学装置。
  5. 【請求項5】 前記第1、第2及び第3多光源像形成手
    段の内の少なくとも1つは、内面反射型の光学部材で構
    成されることを特徴とする請求項1記載の照明光学装
    置。
  6. 【請求項6】 レチクルを照明する工程と、 前記レチクルのパターンをウエハに投影する工程と、 前記レチクルと前記ウエハとを走査する工程とを有し、 前記照明する工程は、光源系から供給される光を3つの
    オプティカル・インテグレータを介して前記レチクルに
    導き、長方形状の照明領域を前記レチクルに形成する工
    程を有し、 前記走査する工程は、前記照明領域の短手方向に沿って
    前記レチクルと前記ウエハとを走査し、 前記3つのオプティカル・インテグレータ中の最終段の
    第3オプティカル・インテグレータは、前記照明領域と
    相似な断面形状を有する多数のレンズ素子を有すること
    を特徴とする転写方法。
  7. 【請求項7】 前記照明領域の長手方向の幅をt、前記
    照明領域の短手方向の幅をs、前記第3オプティカル・
    インテグレータの各レンズ素子の長手方向の幅をm3、
    前記第3オプティカル・インテグレータの各レンズ素子
    の短手方向の幅をn3とするとき、 n3/m3=s/t の関係を満たすことを特徴とする請求項6に記載の転写
    方法。
  8. 【請求項8】 レチクルを照明する工程と、 前記レチクルのパターンをウエハに投影する工程と、 前記レチクルと前記ウエハとを走査する工程とを有し、 前記照明する工程は、光源系から供給される光を3つの
    オプティカル・インテグレータを介して前記レチクルに
    導き、長方形状の照明領域を前記レチクルに形成する工
    程を有し、 前記走査する工程は、前記照明領域の短手方向に沿って
    前記レチクルと前記ウエハとを走査し、 前記3つのオプティカル・インテグレータ中の最終段の
    第3オプティカル・インテグレータは、前記照明領域と
    相似な断面形状を有することを特徴とする転写方法。
  9. 【請求項9】 前記照明領域の長手方向の幅をt、前記
    照明領域の短手方向の幅をs、前記第3オプティカル・
    インテグレータの長手方向の幅をv3、前記第3オプテ
    ィカル・インテグレータの短手方向の幅をu3とすると
    き、 u3/v3=s/t の関係を満たすことを特徴とする請求項8に記載の転写
    方法。
JP05149094A 1992-11-05 1994-03-23 照明光学装置及び転写方法 Expired - Fee Related JP3368654B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05149094A JP3368654B2 (ja) 1994-03-23 1994-03-23 照明光学装置及び転写方法
US08/365,532 US5636003A (en) 1992-11-05 1994-12-28 Illumination optical apparatus and scanning exposure apparatus
US09/326,214 USRE39846E1 (en) 1992-11-05 1999-06-03 Illumination optical apparatus and scanning exposure apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05149094A JP3368654B2 (ja) 1994-03-23 1994-03-23 照明光学装置及び転写方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07263312A JPH07263312A (ja) 1995-10-13
JP3368654B2 true JP3368654B2 (ja) 2003-01-20

Family

ID=12888417

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP05149094A Expired - Fee Related JP3368654B2 (ja) 1992-11-05 1994-03-23 照明光学装置及び転写方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3368654B2 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3627355B2 (ja) * 1996-02-22 2005-03-09 ソニー株式会社 スキャン式露光装置
JP3879142B2 (ja) * 1996-04-22 2007-02-07 株式会社ニコン 露光装置
US6813003B2 (en) * 2002-06-11 2004-11-02 Mark Oskotsky Advanced illumination system for use in microlithography
JP4756380B2 (ja) * 2004-12-17 2011-08-24 株式会社ニコン 露光方法および装置、ならびに電子デバイス製造方法
CN101103442B (zh) * 2005-01-14 2011-05-11 株式会社尼康 照明光学装置
WO2006090807A1 (ja) * 2005-02-25 2006-08-31 Nikon Corporation 露光方法および装置、ならびに電子デバイス製造方法
FR2890461B1 (fr) * 2005-09-05 2008-12-26 Sagem Defense Securite Obturateur et illuminateur d'un dispositif de photolithographie
US8587764B2 (en) * 2007-03-13 2013-11-19 Nikon Corporation Optical integrator system, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5688672B2 (ja) * 2009-02-17 2015-03-25 株式会社ニコン 光伝送装置、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5806479B2 (ja) * 2011-02-22 2015-11-10 キヤノン株式会社 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07263312A (ja) 1995-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5636003A (en) Illumination optical apparatus and scanning exposure apparatus
KR100827874B1 (ko) 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법, 노광 방법, 마이크로 장치의 제조 방법, 및 디바이스의 제조 방법
US5726740A (en) Projection exposure apparatus having illumination device with ring-like or spot-like light source
JP3005203B2 (ja) 照明装置、露光装置及びデバイス製造方法
US11353795B2 (en) Light source apparatus, optical apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, illuminating method, exposure method, and method for manufacturing optical apparatus
JP3633002B2 (ja) 照明光学装置、露光装置及び露光方法
JP2655465B2 (ja) 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置
JP4329266B2 (ja) 照明装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP3707060B2 (ja) 照明光学装置
JPWO2006082738A1 (ja) オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、および露光方法
KR20090013746A (ko) 조명 광학 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조방법
JP3428055B2 (ja) 照明光学装置、露光装置、半導体製造方法および露光方法
JP3368654B2 (ja) 照明光学装置及び転写方法
JP2002198309A (ja) 熱的な負荷の少ない照明系
JP3491212B2 (ja) 露光装置、照明光学装置、照明光学系の設計方法及び露光方法
JP6806236B2 (ja) 照明装置及び方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法
JPH0629189A (ja) 投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置
JPH0950958A (ja) 照明光学装置及びそれを備えた投影露光装置
JPS622539A (ja) 照明光学系
JP3415571B2 (ja) 走査露光装置、露光方法及び半導体製造方法
JPH08330212A (ja) 露光装置
JP2002350620A (ja) 光学部材、当該光学部材を用いた照明装置及び露光装置
WO2014010552A1 (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2003037060A (ja) 照明光学装置、露光装置、露光方法及び半導体製造方法
JPH05102010A (ja) 投影露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20021015

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees