JP5806479B2 - 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
第1実施形態の照明光学系について図1を用いて説明する。本実施形態の照明光学系10は、複数の光源から射出された光束を使用して被照明面を照明する照明光学系であって、例えば、露光装置に搭載される。照明光学系10は、複数(3つ)の光源部50から射出された光束を被照明面であるパターンが形成されたマスク(原版)34へ導く。照明光学系10は、第1ロッド光学系15、第1光学系17、第2ロッド光学系19、合成光学系21、第3ロッド光学系23、光伝達部25、第4ロッド光学系27、結像光学系40、スリット32、第4光学系33およびマスク34により構成されている。結像光学系40は、第2光学系29、開口絞り30、第3光学系31により構成される。光源12には、高圧水銀ランプを用いている。3つの光源部50は、光源12と楕円ミラー13をそれぞれ含む。光源12はこのほかキセノンランプやエキシマレーザーなどを用いることもできる。楕円ミラー13は、光源12から射出された光を集光するための集光光学系であり、楕円形状の一部を用いた形状をしており、光源12は楕円の焦点位置の一方に配置している。光源12から射出されて、楕円ミラー13で反射した光は、楕円のもう一方の焦点位置に集光する。本実施形態では、第1ロッド光学系15の入射面14が楕円のもう一方の焦点位置に配置させている。
第2実施形態の照明光学系の構成について図7を用いて説明する。第2実施形態の照明光学系100では、照明領域が例えば矩形形状であり、2つの光源部50から射出された光束を照射対象物であるパターンが形成されたマスク(原版)34へ導く。照明光学系100は、フライアイ光学系101、第1光学系103、合成光学系105、光伝達部107、ロッド光学系109、スリット110、結像光学系40およびマスク34により構成される。
第3実施形態に係る照明光学系の構成について図10を用いて説明する。照明光学系200は、光伝達部202、第3ロッド光学系207、拡大光学系240、スリット32、結像光学系33およびマスク34により構成される。拡大光学系240は第2光学系205、開口絞り30、第3光学系206により構成される。拡大光学系240は、第3ロッド光学系207の射出面で射出される光束の断面形状を被照明面と光学的に共役の位置にあるスリット32で大きくなるように拡大する。光源部50より射出された光束は図11の11Aに示す光伝達部202の入射面(ハッチ表示部分)201に入射する。光束は、入射面201で7分割され、分割された領域ごとに光伝達部202内の異なる経路を通過させて、11Bのように射出面203では入射面201とは異なる断面形状に変換されている。本実施形態では、図11の11A、11Bのように、入射面201における光束の集合体の断面形状は四角形、射出面203における光束の集合体の断面形状は略円弧形となっている。
図13を用いて、露光装置の一例を説明する。露光装置400は、照明光学系10と、原版を保持する原版ステージ300と、基板を保持する基板ステージ302と、原版のパターンを基板の上に投影する投影光学系301、照度ムラセンサ304を備え、原版と基板とを同期走査させることで基板を露光する。投影光学系301は、例えば、物体面から像面に至る光路において、第1凹反射面、凸反射面、第2凹反射面が順に配列された投影光学系でありうる。また、照明光学系10は実施形態2、3に記述した照明光学系100、200に代替させて用いることも可能である。照明光学系10のスリット32は円弧形状の開口を持ち、円弧位置ごとにスリットの幅を変えることができるような構造をしている。照度ムラセンサ304は図13のようにスリット303と複数の光学素子とセンサ305により構成されている。
次に、デバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
Claims (8)
- 複数の光源から射出された光束を使用して被照明面を照明する照明光学系であって、
1つの前記光源から射出された光の強度分布を均一化する1つのロッドインテグレータを、前記複数の光源のそれぞれについて有する複数のロッドインテグレータと、
前記複数のロッドインテグレータから射出された複数の光束をそれらの断面において互いに隣接するように合成する合成光学系と、
入射面及び射出面を有し、前記合成光学系により合成された光束を前記入射面で複数の光束に分割し、該分割された複数の光束の集合体の前記射出面における断面形状が前記入射面における断面形状と異なるように前記分割された複数の光束を前記射出面で集合させ、前記分割された複数の光束のそれぞれを、光学的に継ぎ合された複数のライトパイプによって前記入射面から前記射出面まで伝達する光伝達部と、を備える、ことを特徴とする照明光学系。 - 前記合成光学系から射出された光束の強度分布を均一化して前記光伝達部に射出するロッドインテグレータをさらに備える、ことを特徴とする請求項1の照明光学系。
- 複数の光源から射出された光束を被照明面に導く照明光学系であって、
前記複数の光源から射出された複数の光束をそれらの断面において互いに隣接するように合成する合成光学系と、
入射面及び射出面を有し、前記合成光学系により合成された光束を前記入射面で複数の光束に分割し、該分割された複数の光束の集合体の前記射出面における断面形状が前記入射面における断面形状と異なるように前記分割された複数の光束を前記射出面で集合させ、前記分割された複数の光束のそれぞれを、前記入射面及び前記射出面の間で光学的に継ぎ合された複数のライトパイプによって前記入射面から前記射出面まで伝達する光伝達部と、を備え、
前記射出面において、ある1つの光源からの光束から分割された2つの光束が通過する領域の間に他の光源からの光束から分割された光束が通過する領域が位置するように、前記光伝達部が構成される、ことを特徴とする照明光学系。 - 前記ある1つの光源からの光束から分割された光束が通過する領域と、前記他の光源からの光束から分割された光束が通過する領域と、が交互に配列されるように前記光伝達部が構成されている、ことを特徴とする請求項3に記載の照明光学系。
- 前記被照明面に対してフーリエ変換の関係となる面に配置された開口絞りをさらに備える、ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記被照明面と光学的に共役な位置に配置された、スリット形状が調整可能なスリットをさらに備える、ことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 被照明面としてのマスクを照明する、請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の照明光学系と、
前記照明光学系によって照明されたマスクのパターンを基板に投影する投影光学系と、
を有し、前記基板を露光する露光装置。 - 請求項7に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011036334A JP5806479B2 (ja) | 2011-02-22 | 2011-02-22 | 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
US13/371,637 US9280054B2 (en) | 2011-02-22 | 2012-02-13 | Illumination optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device |
KR1020120014805A KR101448339B1 (ko) | 2011-02-22 | 2012-02-14 | 조명 광학계, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 |
TW101105097A TWI475333B (zh) | 2011-02-22 | 2012-02-16 | 照明光學系統、曝光設備、和製造裝置的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011036334A JP5806479B2 (ja) | 2011-02-22 | 2011-02-22 | 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012174936A JP2012174936A (ja) | 2012-09-10 |
JP2012174936A5 JP2012174936A5 (ja) | 2014-04-03 |
JP5806479B2 true JP5806479B2 (ja) | 2015-11-10 |
Family
ID=46652457
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011036334A Expired - Fee Related JP5806479B2 (ja) | 2011-02-22 | 2011-02-22 | 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9280054B2 (ja) |
JP (1) | JP5806479B2 (ja) |
KR (1) | KR101448339B1 (ja) |
TW (1) | TWI475333B (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6178588B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2017-08-09 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法及び光学素子 |
CN104423174B (zh) * | 2013-08-27 | 2017-05-31 | 上海微电子装备有限公司 | 一种照明系统 |
CN105745579B (zh) * | 2013-09-25 | 2019-02-22 | Asml荷兰有限公司 | 束传输设备和方法 |
JP6415266B2 (ja) * | 2014-11-20 | 2018-10-31 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、光学装置および画像投射装置 |
CN106707691B (zh) * | 2015-07-15 | 2018-10-16 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 曝光装置及方法 |
WO2017194393A1 (en) * | 2016-05-11 | 2017-11-16 | Asml Netherlands B.V. | Radiation conditioning system, illumination system and metrology apparatus, device manufacturing method |
CN107450270B (zh) * | 2016-05-31 | 2019-07-23 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 照明系统 |
CN109564379B (zh) * | 2016-08-02 | 2021-12-14 | 索尼公司 | 投影式显示装置 |
CN107885042A (zh) * | 2016-09-30 | 2018-04-06 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 多光谱光源耦合装置 |
CN108020994B (zh) * | 2016-10-31 | 2020-01-24 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种照明装置 |
US11175487B2 (en) * | 2017-06-19 | 2021-11-16 | Suss Microtec Photonic Systems Inc. | Optical distortion reduction in projection systems |
CN107656415A (zh) * | 2017-11-24 | 2018-02-02 | 北京速镭视激光科技有限公司 | 一种高效、高均匀性被动光束匀光整形照明系统 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60232552A (ja) | 1984-05-02 | 1985-11-19 | Canon Inc | 照明光学系 |
US4939630A (en) * | 1986-09-09 | 1990-07-03 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus |
US5153773A (en) * | 1989-06-08 | 1992-10-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination device including amplitude-division and beam movements |
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JPH088208B2 (ja) * | 1989-11-29 | 1996-01-29 | キヤノン株式会社 | 照明光学系 |
JP2657957B2 (ja) * | 1990-04-27 | 1997-09-30 | キヤノン株式会社 | 投影装置及び光照射方法 |
JPH0478002A (ja) | 1990-07-13 | 1992-03-12 | Toshiba Corp | 磁気記録再生装置 |
JP3049777B2 (ja) * | 1990-12-27 | 2000-06-05 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び方法、並びに素子製造方法 |
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JP3368654B2 (ja) * | 1994-03-23 | 2003-01-20 | 株式会社ニコン | 照明光学装置及び転写方法 |
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JPH11354424A (ja) * | 1998-06-04 | 1999-12-24 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2000164487A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-06-16 | Nikon Corp | 照明光学装置及び露光装置 |
JP3814444B2 (ja) * | 1999-07-26 | 2006-08-30 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
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JP2004022708A (ja) * | 2002-06-14 | 2004-01-22 | Nikon Corp | 結像光学系、照明光学系、露光装置及び露光方法 |
TWI387855B (zh) | 2003-11-13 | 2013-03-01 | 尼康股份有限公司 | A variable slit device, a lighting device, an exposure device, an exposure method, and an element manufacturing method |
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JP5245775B2 (ja) | 2008-12-04 | 2013-07-24 | 株式会社ニコン | 照明装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
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-
2011
- 2011-02-22 JP JP2011036334A patent/JP5806479B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-02-13 US US13/371,637 patent/US9280054B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-02-14 KR KR1020120014805A patent/KR101448339B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2012-02-16 TW TW101105097A patent/TWI475333B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012174936A (ja) | 2012-09-10 |
KR101448339B1 (ko) | 2014-10-07 |
US9280054B2 (en) | 2016-03-08 |
TWI475333B (zh) | 2015-03-01 |
TW201237566A (en) | 2012-09-16 |
KR20120096421A (ko) | 2012-08-30 |
US20120212724A1 (en) | 2012-08-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140219 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141003 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141010 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150515 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150710 |
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