JP6178588B2 - 照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法及び光学素子 - Google Patents
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Description
式(1)を参照するに、解像力RPが小さいほど、微細な露光が可能になる。また、解像力RPを小さくするためには、投影光学系の開口数NAを大きくすればよいことがわかる。
式(2)を参照するに、投影光学系の開口数NAを大きくすると、上述したように、解像力RPは小さくなるが、焦点深度DOFも小さくなる。露光装置におけるステージの平坦度、基板の平坦度、レジストの塗布分布の均一度、光学系の像面湾曲などの精度を向上させることで、焦点深度DOFの拡大を図っているが、これらの向上は頭打ちになっているため、大幅な改善は期待できない。
図1は、本発明の第1の実施形態における照明光学系100の構成を示す概略図である。照明光学系100は、光源からの光で被照明面を照明する光学系である。照明光学系100は、例えば、露光装置に適用され、光源からの光を、基板に転写すべきパターンが形成されたマスク(被照明面)に導く照明光学系として好適である。
図7(a)は、六角柱の光透過部材で構成され、内側反射面122Aで囲まれた円柱状の中空部HLAを含むオプティカルロッド105Aを示す概略斜視図である。図7(b)は、図7(a)に示すオプティカルロッド105Aの概略断面図である。オプティカルロッド105Aの中心線に対して垂直な断面において、外側反射面121Aの断面形状は六角形形状であり、内側反射面122Aの断面形状は円形形状である。
|y|≦35 [mm]
√3|x|+|y|≦70 [mm] ・・・(3)
x2+y2≧(35/2)2 [mm]
オプティカルロッド105Aの入射面における光量分布を図8(a)に示し、オプティカルロッド105Aの射出面における光量分布を図8(b)に示す。
図7(c)は、八角柱の光透過部材で構成され、内側反射面122Bで囲まれた円柱状の中空部HLBを含むオプティカルロッド105Bを示す概略斜視図である。図7(d)は、図7(c)に示すオプティカルロッド105Bの概略断面図である。オプティカルロッド105Bの中心線に対して垂直な断面において、外側反射面121Bの断面形状は八角形形状であり、内側反射面122Bの断面形状は円形形状である。
|x|≦35 [mm], |y|≦35 [mm]
|x|+|y|≦35√2 [mm] ・・・(4)
x2+y2≧(35/2)2 [mm]
オプティカルロッド105Bの入射面における光量分布を図8(a)に示し、オプティカルロッド105Bの射出面における光量分布を図8(c)に示す。
図7(e)は、四角柱の光透過部材で構成され、内側反射面122Cで囲まれた円柱状の中空部HLCを含むオプティカルロッド105Cを示す概略斜視図である。図7(f)は、図7(e)に示すオプティカルロッド105Cの概略断面図である。オプティカルロッド105Cの中心線に対して垂直な断面において、外側反射面121Cの断面形状は四角形形状であり、内側反射面122Cの断面形状は円形形状である。
|x|≦35 [mm], |y|≦35 [mm]
x2+y2≧(35/2)2 [mm] ・・・(5)
オプティカルロッド105Cの入射面における光量分布を図8(a)に示し、オプティカルロッド105Cの射出面における光量分布を図8(d)に示す。
図9は、本発明の第2の実施形態における照明光学系200の構成を示す概略図である。照明光学系200は、複数の光源からの光で被照明面を照明する光学系である。照明光学系200は、例えば、露光装置に適用され、光源からの光を、基板に転写すべきパターンが形成されたマスク(被照明面)に導く照明光学系として好適である。
第1オプティカルロッド202及び第2オプティカルロッド203には、図7(a)乃至図7(e)で示したオプティカルロッド105A乃至105Cを用いることができる。例えば、本実施形態では、第1オプティカルロッド202及び第2オプティカルロッド203として、オプティカルロッド105Aを用いている。但し、第1オプティカルロッド202と第2オプティカルロッド203とで、同一種類のオプティカルロッドを用いる必要はない。
第1オプティカルロッド202及び第2オプティカルロッド203として用いられるオプティカルロッド105Dを図12(a)及び図12(b)に示す。図12(a)は、円柱の光透過部材で構成され、内側反射面122Dで囲まれた四角柱状の中空部HLDを含むオプティカルロッド105Dを示す概略斜視図である。図12(b)は、図12(a)に示すオプティカルロッド105Dの概略断面図である。オプティカルロッド105Dの中心線に対して垂直な断面において、外側反射面121Dの断面形状は円形形状であり、内側反射面122Dの断面形状は四角形形状である。
|x|≧35/2 [mm], |y|≧35/2 [mm]
x2+y2≦352 [mm] ・・・(6)
オプティカルロッド105Dの入射面における光量分布を図13(a)に示し、オプティカルロッド105Dの射出面における光量分布を図13(b)に示す。
第1オプティカルロッド202及び第2オプティカルロッド203として用いられるオプティカルロッド105Eを図12(c)及び図12(d)に示す。図12(c)は、円柱の光透過部材で構成され、内側反射面122Eで囲まれた楕円柱状の中空部HLEを含むオプティカルロッド105Eを示す概略斜視図である。図12(d)は、図12(c)に示すオプティカルロッド105Eの概略断面図である。オプティカルロッド105Eの中心線に対して垂直な断面において、外側反射面121Eの断面形状は円形形状であり、内側反射面122Eの断面形状は楕円形状である。
x2+y2≦(35/2)2 [mm]
(x/12.5)2+(y/25)2≧1 [mm] ・・・(7)
オプティカルロッド105Eの入射面における光量分布を図13(a)に示し、オプティカルロッド105Eの射出面における光量分布を図13(c)に示す。
設計例1乃至設計例6に示すオプティカルロッド105A乃至105Eは、それぞれ、図15(a)乃至図15(e)に示すようなオプティカルパイプ505A乃至505Eに置換することができる。オプティカルパイプ505A乃至505Eは、内側反射面と外側反射面との間が空間で構成された(即ち、反射面で囲まれた)反射型インテグレータである。但し、オプティカルパイプは反射部材を用いるため、オプティカルパイプを通過する光の反射回数が多くなり、オプティカルロッドよりも光量のロスが大きくなる可能性がある。
図16は、本発明の第4の実施形態における露光装置90の構成を示す概略図である。露光装置90は、上述した実施形態で示された照明光学系を採用し、基板を露光するリソグラフィ装置である。
本実施形態に係るデバイスの製造方法は、例えば、半導体デバイス、液晶表示デバイス、フラットパネルディスプレイ(FPD)などを製造するのに好適である。かかるデバイスの製造方法は、露光装置90を用いてレジスト(感光剤)が塗布された基板(ウエハ、ガラスプレート等)を露光する工程と、露光された基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることによって製造される。本実施形態のデバイスの製造方法は、従来の方法に比べて、デバイスの性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (19)
- 光源からの光で被照明面を照明する照明光学系であって、
入射面と射出面との間に配置され、内側反射面と、前記内側反射面を囲む外側反射面とを含み、前記入射面から前記内側反射面と前記外側反射面との間に入射した光を前記内側反射面と前記外側反射面とで反射させながら前記射出面に導く光学素子を有し、
前記光学素子の中心線に垂直な前記光学素子の断面において、前記内側反射面により形成される形状は多角形形状であり、前記外側反射面により形成される形状は円形形状であることを特徴とする照明光学系。 - 前記内側反射面により形成される形状は四角形形状であることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 光源からの光で被照明面を照明する照明光学系であって、
入射面と射出面との間に配置され、内側反射面と、前記内側反射面を囲む外側反射面とを含み、前記入射面から前記内側反射面と前記外側反射面との間に入射した光を前記内側反射面と前記外側反射面とで反射させながら前記射出面に導く光学素子を有し、
前記光学素子の中心線に垂直な前記光学素子の断面において、前記外側反射面により形成される形状は多角形形状であり、前記内側反射面により形成される形状は円形形状であることを特徴とする照明光学系。 - 前記外側反射面により形成される形状は六角形形状であることを特徴とする請求項3に記載の照明光学系。
- 光源からの光で被照明面を照明する照明光学系であって、
入射面と射出面との間に配置され、内側反射面と、前記内側反射面を囲む外側反射面とを含み、前記入射面から前記内側反射面と前記外側反射面との間に入射した光を前記内側反射面と前記外側反射面とで反射させながら前記射出面に導く光学素子を有し、
前記光学素子の中心線に垂直な前記光学素子の断面において、前記外側反射面により形成される形状は円形形状であり、前記内側反射面により形成される形状は楕円形状であることを特徴とする照明光学系。 - 前記光学素子は、前記内側反射面で囲まれた中空部を含み、前記内側反射面と前記外側反射面との間が光透過部材で構成されたオプティカルロッドであることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記光学素子は、前記内側反射面と前記外側反射面との間が空間で構成されたオプティカルパイプであることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記オプティカルロッドは、複数の光透過部材を組み合わせて構成されていることを特徴とする請求項6に記載の照明光学系。
- 前記内側反射面は、1つの連続している面を形成し、
前記内側反射面と前記外側反射面との間には、1つの連続している空間が形成されることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の照明光学系。 - マスクのパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記マスクを照明する請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の照明光学系と、
前記パターンを前記基板に投影する投影光学系と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 前記照明光学系は、前記外側反射面により形成される形状と前記内側反射面により形成される形状との組み合わせが互いに異なる複数の光学素子を有し、
前記露光装置は、前記マスクのパターンに応じて、前記複数の光学素子から、前記照明光学系の光路に配置する光学素子を選択する選択部を有することを特徴とする請求項10に記載の露光装置。 - 前記照明光学系は、前記複数の光学素子のそれぞれに対応する複数の開口絞りを有し、
前記選択部は、前記照明光学系の光路に配置された光学素子に応じて、前記複数の開口絞りから、前記照明光学系の光路に配置する開口絞りを選択することを特徴とする請求項11に記載の露光装置。 - 請求項10乃至12のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。 - 入射面に入射した光を射出面に導く光学素子であって、
前記入射面と前記射出面との間に配置され、内側反射面と、前記内側反射面を囲む外側反射面とを含み、前記入射面から前記内側反射面と前記外側反射面との間に入射した光を前記内側反射面と前記外側反射面とで反射させながら前記射出面に導き、
前記光学素子の中心線に垂直な前記光学素子の断面において、前記内側反射面により形成される形状は多角形形状であり、前記外側反射面により形成される形状は円形形状であることを特徴とする光学素子。 - 入射面に入射した光を射出面に導く光学素子であって、
前記入射面と前記射出面との間に配置され、内側反射面と、前記内側反射面を囲む外側反射面とを含み、前記入射面から前記内側反射面と前記外側反射面との間に入射した光を前記内側反射面と前記外側反射面とで反射させながら前記射出面に導き、
前記光学素子の中心線に垂直な前記光学素子の断面において、前記外側反射面により形成される形状は多角形形状であり、前記内側反射面により形成される形状は円形形状であることを特徴とする光学素子。 - 入射面に入射した光を射出面に導く光学素子であって、
前記入射面と前記射出面との間に配置され、内側反射面と、前記内側反射面を囲む外側反射面とを含み、前記入射面から前記内側反射面と前記外側反射面との間に入射した光を前記内側反射面と前記外側反射面とで反射させながら前記射出面に導き、
前記光学素子の中心線に垂直な前記光学素子の断面において、前記外側反射面により形成される形状は円形形状であり、前記内側反射面により形成される形状は楕円形状であることを特徴とする光学素子。 - 前記内側反射面で囲まれた中空部を含み、前記内側反射面と前記外側反射面との間が光透過部材で構成されていることを特徴とする請求項14乃至16のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記内側反射面と前記外側反射面との間が空間で構成されていることを特徴とする請求項14乃至16のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記内側反射面は、1つの連続している面を形成し、
前記内側反射面と前記外側反射面との間には、1つの連続している空間が形成されることを特徴とする請求項14乃至16のうちいずれか1項に記載の光学素子。
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