JP2005093693A5 - - Google Patents
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- 光源からの光で反射型マスクを照明する照明光学系と、該反射型マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において、
前記照明光学系は、前記反射型マスクの照明領域を規定する視野絞りと、該視野絞りの開口からの光を前記反射型マスクに導く結像系とを有し、
前記結像系は、共軸光学系であり、
前記結像系の前記反射型マスク側の主光線は、該共軸に対して傾斜角を持ち、
該傾斜角は、前記投影光学系の前記反射型マスク側の主光線と前記反射型マスク表面の法線とがなす角と等しいことを特徴とする露光装置。 - 前記照明光学系は、前記結像系からの光を反射して前記反射型マスクへと導く平面ミラーを有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記結像系の前記視野絞り側の主光線は、前記共軸と平行であることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記照明光学系は、前記結像系の瞳面近傍に配置された開口絞りを有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記照明光学系は、前記開口絞りの開口の大きさ又は形状を変更する機構を有することを特徴とする請求項4記載の露光装置。
- 前記視野絞りは、円弧形状の開口を持つ円弧スリットを有し、
前記円弧の曲率中心は、前記共軸上又はその近傍にあることを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記照明光学系は、前記光源からの光で複数の2次光源を形成する反射型インテグレータと、該複数の2次光源からの光束を前記視野絞りに重ねて円弧形状の照明領域を形成するミラー系とを有し、
該円弧の曲率中心は、前記共軸近傍にあることを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記結像系は、4枚のミラーを有し、
前記4枚のミラーのうち前記視野絞りから1枚目のミラーと4枚目のミラーの反射面は、凹面であることを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記4枚のミラーのうち前記視野絞りから3枚目のミラーの反射面は、凸面であることを特徴とする請求項8記載の露光装置。
- 前記4枚のミラーのうち前記視野絞りから2枚目のミラーの反射面は、凹面であることを特徴とする請求項9記載の露光装置。
- 前記結像系は、その瞳面の近傍に反射面を持つミラーを有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記光源からの光は、20nm乃至5nmの波長の光であることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 請求項1乃至12のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、該露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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DE102008001553B4 (de) * | 2008-05-05 | 2015-04-30 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage |
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US5581605A (en) * | 1993-02-10 | 1996-12-03 | Nikon Corporation | Optical element, production method of optical element, optical system, and optical apparatus |
US5677939A (en) * | 1994-02-23 | 1997-10-14 | Nikon Corporation | Illuminating apparatus |
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KR0135834B1 (ko) * | 1994-10-28 | 1998-04-24 | 김광호 | 램프의 그림자를 없애기 위한 이중 반사경을 구비한 광원 장치 |
US5737137A (en) * | 1996-04-01 | 1998-04-07 | The Regents Of The University Of California | Critical illumination condenser for x-ray lithography |
JP3862347B2 (ja) * | 1996-04-11 | 2006-12-27 | キヤノン株式会社 | X線縮小露光装置およびこれを利用したデバイス製造方法 |
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AU1053199A (en) * | 1997-11-14 | 1999-06-07 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method of manufacturing the same, and exposure method |
JP4238390B2 (ja) * | 1998-02-27 | 2009-03-18 | 株式会社ニコン | 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法 |
JPH11345761A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
JP2000091220A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-31 | Nikon Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
JP2000089000A (ja) | 1998-09-14 | 2000-03-31 | Nikon Corp | X線発生装置 |
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DE50014428D1 (de) | 1999-07-30 | 2007-08-02 | Zeiss Carl Smt Ag | Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille eines EUV-Beleuchtungssystems |
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JP2003015040A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-15 | Nikon Corp | 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置 |
JP3605055B2 (ja) * | 2001-07-31 | 2004-12-22 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP3605053B2 (ja) | 2001-07-27 | 2004-12-22 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
EP1280008B2 (en) * | 2001-07-27 | 2011-09-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination system, projection exposure apparatus and device manufacturing method |
JP2003227914A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-15 | Canon Inc | Euv光用の波面分割素子及びそれを有する位相測定装置 |
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JP3720788B2 (ja) * | 2002-04-15 | 2005-11-30 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置及びデバイス製造方法 |
US20040080815A1 (en) * | 2002-07-12 | 2004-04-29 | Peter Muys | Lens with optimized heat transfer properties |
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