JP4241295B2 - ステージ装置 - Google Patents

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Description

本発明は、ステージ装置に適用されるステージベースに関し、より詳しくは、微動ステージに連結され冷却媒体の循環による冷却が可能な冷却機構を有するステージ装置に関する。また、本発明は、このようなステージ装置を用いた露光装置及びデバイス製造方法に関する。
マスクやレチクル上に描かれた半導体装置製造用のパターンをウエハ上に投影するステッパ等の露光装置が用いられている。このような露光装置は、露光処理を行う前に、レチクルとウエハの位置合わせあわせを行う機能を備える。このような位置合わせには、一般的に、露光すべきパターンが描かれたレチクル等の原板とウエハ等の被露光体(基板)とのずれを計測し、その計測結果に基づいて、被露光体を繰り返しステップさせて露光するステップアンドリピートタイプと、原板と被露光体とを相対移動させて露光するステップアンドスキャンタイプと、がある。これらの露光装置は、解像度及び重ね合せ精度の観点から、被露光体(ウエハ)を保持しながら移動するウエハステージを、極めて高精度に位置決めすることが要求されている。また、近年では、生産性向上のために位置決めの高速化が望まれている。
図7は、露光装置内の従来のウエハステージを示す斜視図である。図7では、ステージ定盤55上にY方向の移動機構としてのYステージ54が載置されている。Yステージ54上には、X方向の移動機構としてのXステージ51が載置されている。このようにして、Yステージ54とXステージ51によってXYステージ56が構成される。
図8は、XYステージの構成を示す概略図である。ステージ定盤55は、上面が滑らかな基準面を有する。XYステージ56は、移動体としてのYステージ54(54a、54b、54c、54d)及び移動体としてのXステージ51によって構成される。Yステージ54の水平方向(Y軸方向)には、固定ガイド52が設けられている。Xステージ51の水平方向(X軸方向)、Xステージ51の鉛直方向(Z軸方向)、Yステージ54の水平方向(Y軸方向)、Yステージ54の鉛直方向には、それぞれ多孔質の静圧空気軸受けが設けられ、これらのステージを各々案内する。
Yステージ54は、これらの静圧空気軸受けに給気することによって定盤55から浮上し、その両側に配置された2つの駆動アクチュエータ54cによって片側に設けられている固定ガイド52に沿ってY方向に移動する。Xステージ51は、これらの静圧空気軸受けに給気することによってYステージ54と同様に定盤55から浮上し、Yステージ54の側面54bを水平方向の案内として駆動アクチュエータ51cによってX方向に移動する。このとき、Xステージ51及Yステージ54は、複数の与圧用磁石ユニット(不図示)によって常に一定の姿勢となるように調整されている。
図9は、微動ステージ90の構成を示す概略図である。微動ステージ90の下方には微動ステージ90に推力や吸引力を作用する基準を有するXYステージ56(図8を参照)が配置される。微動ステージ90は、Xステージ51上に設けられたステージベース50’に対して、非接触で搭載されている。XYステージ56には、前記基準面に対して微動ステージ90の姿勢を微動制御するリニアモータ11、12、13と、微動ステージ90にXY方向の加速度を伝達する円筒形状の電磁石ユニット21、22、23とが設けられている。また、微動ステージ90は、自重支持のための自重補償機構3を備える。
以上の構成により、XYステージ56から微動ステージ90に対してリニアモータ11、12、13によって推力を与えることができ、電磁石ユニット21、22、23によってXY方向に大きな吸引力を与えることができる。
このように、XYステージ56に対して微動ステージ90を非接触で支持する場合では、リニアモータ11、12、13に対して所望の加速度で微動ステージ90を加速できるだけの性能が要求される。そのため、リニアモータ11、12、13には、微動ステージ90を駆動する際に発熱をともなうことが予想される。そこで、リニアモータ11、12、13には、冷却機構が設けられている。この冷却機構によって、リニアモータ11、12、13からの発熱が外部に漏れることを抑制する構造となっている。
図10は、微動ステージ90を駆動するためにステージベース50’の支持面100’上に配置されたリニアモータコイル113と、リニアモータコイル113を冷却するための冷却機構を備えた部品1と、を示す概略図である。部品1は、一般的には、リニアモータコイル113をジャケット112で覆い、ジャケット112内部に樹脂チューブ111を用いて冷却媒体を供給するように構成される。このような構成によって、部品1は、リニアモータコイル113を冷却することができる。
同様に、図9に示す電磁石ユニット21、22、23においても、図7、8のXYステージ56を駆動する際に、微動ステージ90に大きな吸引力が加えられるため、電磁石ユニット21、22、23のコイルが発熱すると予想される。そこで、電磁石ユニット21、22、23のコイルについても、リニアモータ1と同様にして、冷却機構を設けることによって、これらのコイルからの発熱が外部に漏れることを抑えることができる。上記のリニアモータの場合と同様に、このような冷却機構も、一般的には、コイルをジャケットで覆い、ジャケット内部に樹脂チューブ111を用いて冷却媒体を供給するように構成される。
特許第3145355号公報
しかしながら、微動ステージに連結される冷却機構を有する部品に対して、樹脂チューブを用いて冷却媒体の分配および供給を行う従来のステージ装置では、以下のような問題が生じる。
(1)樹脂チューブが振動しないように樹脂チューブをステージベースに固定及び配置すると、樹脂チューブを取り付ける取り付け部の寸法が増加し、周囲の部品との干渉や質量の増加が懸念される。
(2)樹脂チューブが引き回されることによって外乱が増加し、高精度な位置決めの妨げとなる。
ステージ装置が真空チャンバ内に置かれ、真空環境又は減圧環境で使用される場合では、樹脂チューブは多量のアウトガスを発生するため、それに起因する汚染の発生(汚染物の付着)又は真空チャンバ内の真空度の低下等が懸念される。
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、冷却部を有する部品に冷却媒体を供給するための樹脂チューブの使用量を低く抑えることを目的とする。
本発明の第1の側面は、ステージと、前記ステージを支持し、冷媒用流路が形成されたプレートと、前記プレートの表面上に配置された冷却対象物と前記プレートの表面上に配置され前記冷却対象物を冷却する冷却部とを有する部品と、を備え、前記冷媒用流路は、前記プレートの中を通り、前記プレートの内部と前記部品とを連結する貫通穴を介して前記冷却部に至るように配置されることを特徴とする。
本発明の好適な実施の形態によれば、前記冷却対象物は、前記ステージを駆動するためのコイルであり、前記部品は、前記コイルを覆い、内部に冷媒を流す流路が形成された冷却ジャケットである。
本発明の好適な実施の形態によれば、前記冷媒用流路は、前記プレートの内部に形成された溝部を含み、前記溝部と前記冷却ジャケットの開口部とが前記貫通穴によって結合される。
本発明の好適な実施の形態によれば、前記冷媒用流路は複数の管路で構成され、該複数の管路はその管路抵抗がそれぞれ略同一となるように構成されていることが望ましい。
本発明の好適な実施の形態によれば、前記部品は、シール部材を介して前記冷媒用流路に接続されていることが望ましい。
本発明の好適な実施の形態によれば、前記シール部材は、Oリング、ガスケット及び接着剤を含むことが望ましい。
本発明の好適な実施の形態によれば、前記プレートは、溝が形成された第1構造体と、前記第1構造体に固定された第2構造体とを有し、前記第1構造体の溝の内面と前記第2構造体の表面とにより前記冷媒用流路が形成されることが望ましい。
本発明の好適な実施の形態によれば、前記第1構造体と前記第2構造体との間に、前記冷媒用流路の外側を取り囲むように配置されたシール部材を備え、該シール部材の内側及び外側が留め具により締結されている
本発明の好適な実施の形態によれば、前記第2構造体は接着剤により前記第1構造体に固定され、前記第1構造体又は前記第2構造体は接着剤が充填される接着溝を更に備えることが望ましい。
本発明の好適な実施の形態によれば、前記接着溝の内部が留め具により締結されている。
本発明によれば、冷却部を有する部品に冷却媒体を供給するための樹脂チューブの使用量を低く抑えることができる。
本発明は、添付の図面を参照して詳細に説明される。
図1は、本発明の好適な実施の形態に係るステージベース50と、ステージベース50に連結される冷却部を備えた部品1と、を示す図である。図1は、冷却部を備えた部品1の一例として、リニアモータ固定子ジャケットを示したときの分解図である。
図1に示すように、ステージベース50は、ベース板50a及びベース板50bの2つの構造体をボルト等の留め具で締結して、1つの構造体として構成される。ベース板50bは、図9に示した微小ストロークを有する微動ステージ90を移動可能に支持する支持面100を有する。本実施形態に係るステージ装置は、概略的には、図7、図8に示すステージ装置の構成を一部変更したものである。即ち、本実施形態に係るステージ装置では、図8のXステージ51上に、ステージベース50’に代えて図1に示すステージベース50が設けられる。ステージベース50の材料としては、軽量・高剛性化のためにセラミックスを用いるのが好適であるが、これに限定されず、金属等の他の材料を用いてもよい。
ベース板50aの表面には、溝41が掘り込まれている。ベース板50aとベース板50bとを締結させることによって、溝41とベース板50bとの間に冷却媒体42を分配・供給するための内部流路が構成される。ベース板50aには、溝41の外周を囲むシール溝44が掘り込まれている。シール溝44にシール部材としてのOリング(不図示)をはめ込むことによって、内部流路としての溝41を循環する冷却媒体がステージベース50の外側に漏れることを防止することができる。なお、このようなシール部材としては、Oリングに限定されず、例えば、ガスケットや接着剤を用いてもよい。また、微動ステージ90は、3自由度以上を有するように構成されることが好ましい。
ステージベース50の支持面100上には、図9の微動ステージ90を駆動するためのリニアモータコイル113と、リニアモータコイル113を冷却するための冷却機構を有する部品1と、が配置されている。部品1は、リニアモータコイル113を覆うように支持面100上に配置されている。
ベース板50bには、シール溝61が設けられている。シール溝61にOリング(不図示)等のシール部材を設けて、冷却部を有する部品(例えば、リニアモータ固定子ジャケット)1をステージベース50に締結することによって、冷却媒体が外部に漏れるのを防ぐことができる。シール溝61の内側には、溝41に連通された貫通穴61’が設けられている。支持面100上に配置された部品1と貫通穴61’とを連結させることによって、溝41を通して部品1へ直接冷却媒体を供給することができる。このため、ステージベース50と部品1とを連結するために用いられていた、図10の樹脂チューブ111が不要となる。
なお、本実施形態では、シール溝61はベース板50bに設けられているが、これに限定されず、ベース板50bに設けられてもよい。また、本実施形態では、ベース板50aに溝41が設けられているが、これに限定されず、ステージベース50を構成するベース板50a及びベース板50bの少なくとも一方の板に設けられればよい。同様に、シール溝44は、溝41が設けられた部材と同一部材(本実施形態では、ベース板50a)上に設けられているが、これに限定されず、ベース板50a及びベース板50bの少なくとも一方に設けられればよい。また、本実施形態では、2枚の平板を締結することによって、その内部に流路を形成しているが、これに限定されず、1枚の平板の内部に上記の溝41を形成してもよい。
以下、図2、図4及び図5を用いて、本発明の好適な実施の形態に係るステージベースの構成例を示す。図2、図4及び図5、それぞれ図1に示すベース板50aを矢印A方向から見た平面図である。
[第1の構成例]
まず、図2を用いて本発明の好適な実施の形態に係る第1の構成例について説明する。ベース板50aの表面には、内部流路としての溝41(斜線部)が掘り込まれている。流入口41a及び流出口41bは、溝41に冷却媒体を供給するための入口と出口である。内部流路としての溝41は、複数の管路で構成される。この複数の管路はその管路抵抗がそれぞれ略同一となるように構成されうる。すなわち、流入口41aからステージベース50内の溝41を通って部品1を介して流出口41bまで冷却媒体を流すときの管路抵抗が、各管路においてほぼ等しくなるように、溝41が構成されうる。シール溝44は、溝41の外側に掘り込まれており、Oリング等のシール部材を用いて、溝41を流れる冷却媒体がステージベース50の外側に漏れることを防止する。
ねじ穴部45及び46は、ベース板50aと図1のベース板50bとをボルト等の留め具で締結するために設けられる。上記Oリング等のシール部材に力を加える際に、セラミック板50bに作用する応力を抑えるために、Oリングの両側にねじ穴部45、46が設けられることが望ましい。
図3は、シール溝44の内側に設けられたねじ穴部45近傍の拡大図である。ねじ穴部45は、ねじ穴45bとOリング等のシール部材用の溝45a(斜線部)とで構成される。シール溝44の内側では、溝41に供給された冷却媒体の内圧によって、ベース板50aと50bの隙間に冷却媒体が流入することが考えられる。このため、シール溝44の内側に設けられたねじ穴45bの外周には、ねじ穴45bからステージベースの外部へ冷却媒体が漏れるのを防止するために、シール用の溝45aを設け、Oリング等のシール部材でシールすることが望ましい。
第1の構成例におけるステージベースは、少なくとも以下の特徴を有する。
(1)内部流路を介して、リニアモータ等に用いられる冷却部を有する部品に直接冷却媒体を供給することによって、樹脂チューブが引き回されることによる周囲の部品との干渉や、高精度な位置決めの妨げとなる外乱の増加を抑えることができる。
(2)また、ステージベースへの流入口から冷却部を有する部品へ冷却媒体を供給するときの内部流路の管路抵抗がほぼ等しくなるようにステージベース内部に溝を設けることによって、これらの部材を均等に冷却することができる。
なお、本構成例においては、ステージベース50を締結するためのねじ穴部45、46がセラミック板50a側に設けられているが、これに限定されず、セラミック板50b側に設けられてもよい。
[第2の構成例]
図4は、図2に示した第1の構成例を変形した第2の構成例を例示的に示す図である。本構成例では、第1の構成例と同様の構成要素には同一の参照符号を付けている。図2の構成例では、ベース板50a及びベース板50bは、シール溝44の両側に設けられたねじ穴部45、46におけるボルト等の留め具による締結によって固定されていた。図4の構成例では、ステージベースが真空環境下又は減圧環境下で使用されることを考慮して、図2の構成に加えて、シール溝44内部の溝41を避けた位置に接着剤(不図示)を充填するための接着溜り47を設けている。これによって、第2の構成例は、第1の構成例の(1)、(2)の特徴に加えて、以下の特徴を有する。
(3)内部流路に供給された冷却媒体が内部流路以外のベース板50aと50bとの隙間の領域に流入した際に、冷却媒体とステージベース外部(真空又は減圧雰囲気)との差圧によって生じる力に対して、前記差圧が作用する面積(冷却媒体が流入し得る面積)を接着溜りにより減少させることによって、前記差圧による力を減少させることができるとともに、ベース板50aと50bとをより確実に固定させることができる。また、ベース板50aと50bとを締結しているねじ穴部45への応力集中も緩和することができる。
[第3の構成例]
図5は、図4に示した第2の構成例を変形した第3の構成例を例示的に示す図である。本構成例では、第2の構成例と同様の構成要素には同一の参照符号を付けている。本構成例では、図4の構成に加えて、接着溜り47の内部にねじ部48が設けられている。図6は、接着溜り47とその内部のねじ部48の拡大図である。ねじ部48bは、ベース板50aと50bとをボルト等の留め具によって締結する。シール溝48a(斜線部)は、ねじ穴48bからステージベースの外部へ冷却媒体が漏れるのを防ぐために設けられたOリング等のシール部材用の溝である。隔壁48cは、シール溝48aと接着溜り47との間に設けられた壁であり、冷却媒体を外部に漏れることを更に効果的に抑えることができる。
本構成例では、図4の構成に加えて、上記の構造を備えることによって、第1、2の構成例の(1)〜(3)の特徴に加えて、以下の特徴を有する。
(4)接着溜り47の内部をボルト等の留め具で締結することによって、冷却媒体とステージベースの外部(真空又は減圧雰囲気)との差圧により生じる力によって接着剤に作用するせん断方向の力を緩和し、接着剤が剥離することを防止することができる。
図11は、本発明の好適な実施の形態に係るステージ装置を組み込んだ露光装置の構成を概略的に示す図である。図11に示す例では、上記のステージ装置をウエハステージ700として搭載し、その上方にマスクステージ500を搭載している。マスクステージ500では、その上に設けられたチャックによってマスクが保持され、ウエハステージ700では、その微動ステージ90に設けられたチャックによってウエハが保持される。マスクは、照明光学系601によって照明され、マスクに形成されているパターンの像は、投影光学系602を介してウエハ上に投影転写される。このようにして、この露光装置は、本発明の好適な実施の形態に係るステージ装置を利用して、位置決め対象物(ウエハ)を位置決めし、露光動作を実行することができる。パターンが転写された基板としてのウエハ上の感光層は、半導体デバイスを製造するために現像される。この露光装置は、半導体デバイスの周知の製造プロセスに適用されうる。
本発明の好適な実施の形態に係るステージベースと微動ステージに適用される冷却部とを示す図である。 本発明の好適な実施の形態に係る第1の構成例を示す図である。 シール溝の内側に設けられたねじ穴部近傍の拡大図である。 本発明の好適な実施の形態に係る第2の構成例を示す図である。 本発明の好適な実施の形態に係る第3の構成例を示す図である。 接着溜りとその内部のねじ部の拡大図である。 従来の露光装置に適用されるウエハステージを示す斜視図である。 従来のXYステージの構成を示す概略図である。 従来の微動ステージの構成を示す概略図である。 従来のステージベースと微動ステージに適用される冷却部とを示す概略図である。 本発明の好適な実施の形態に係るステージ装置を適用した露光装置の概念図である。
符号の説明
1 冷却部を有する部品
11、12、13 リニアモータ
111 樹脂チューブ
112 ジャケット
113 リニアモータコイル
21、22、23 電磁石ユニット
3 自重補償機構
41 溝(内部流路)
41a 流入口
41b 流出口
42 冷却媒体
44 シール溝
45、46 ねじ穴部
47 接着溜リ
48 ねじ部
50、50’ ステージベース
50a、50b ベース板
51 XYステージ
61 シール溝
61’ 貫通穴
90 微動ステージ
100 支持面

Claims (10)

  1. ステージと、
    前記ステージを支持し、冷媒用流路が形成されたプレートと、
    前記プレートの表面上に配置された冷却対象物と前記プレートの表面上に配置され前記冷却対象物を冷却する冷却部とを有する部品と、を備え、
    前記冷媒用流路は、前記プレートの中を通り、前記プレートの内部と前記部品とを連結する貫通穴を介して前記冷却部に至るように配置されることを特徴とするステージ装置。
  2. 前記冷却対象物は、前記ステージを駆動するためのコイルであり、
    前記部品は、前記コイルを覆い、内部に冷媒を流す流路が形成された冷却ジャケットであることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
  3. 前記冷媒用流路は、前記プレートの内部に形成された溝部を含み、前記溝部と前記冷却ジャケットの開口部とが前記貫通穴によって結合されることを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。
  4. 前記冷媒用流路は複数の管路で構成され、該複数の管路はその管路抵抗がそれぞれ略同一となるように構成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のステージ装置。
  5. 前記部品は、シール部材を介して前記冷媒用流路に接続されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のステージ装置。
  6. 前記シール部材は、Oリング、ガスケット及び接着剤を含むことを特徴とする請求項5に記載のステージ装置。
  7. 前記プレートは、溝が形成された第1構造体と、前記第1構造体に固定された第2構造体とを有し、前記第1構造体の溝の内面と前記第2構造体の表面とにより前記冷媒用流路が形成されることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
  8. 前記第1構造体と前記第2構造体との間に、前記冷媒用流路の外側を取り囲むように配置されたシール部材を備え、該シール部材の内側及び外側が留め具により締結されていることを特徴とする請求項7に記載のステージ装置。
  9. 前記第2構造体は接着剤により前記第1構造体に固定され、前記第1構造体又は前記第2構造体は接着剤が充填される接着溝を更に備えることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載のステージ装置。
  10. 前記接着溝の内部が留め具により締結されていることを特徴とする請求項9に記載のステージ装置。
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