JP4458330B2 - 光源ユニットの多層膜ミラーを交換する方法 - Google Patents
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Description
2×d×sinθ=λ
の関係を満足するようなλを中心とした狭いバンド幅のEUV光だけが効率よく反射される。このときのバンド幅は0.6〜1nm程度である。しかしながら、反射されるEUV光の反射率は最大でも0.7程度であり、反射されなかったEUV光は多層膜中あるいは基板中で吸収されてしまう。
Claims (4)
- EUV光で被露光体を露光する露光装置に取り付けられている光源ユニットの多層膜ミラーを交換する方法であって、
前記露光装置への取り付け基準であるマウントを持つ光源ユニットベースと、発光点からの前記EUV光を集光する前記多層膜ミラーと、前記発光点または該発光点近傍から発生するデブリを低減するデブリ低減手段と、前記光源ユニットベースのマウントに対し原器となる治具と、を前記露光装置外に用意するステップと、
前記治具に前記光源ユニットベースを載せた状態で、前記多層膜ミラーの基準面を変位計で計測しながら、該光源ユニットベースに該多層膜ミラーを固定するステップと、
固定された前記多層膜ミラーと前記光源ユニットベースとを含む前記光源ユニットに、前記デブリ低減手段を固定するステップと、
前記治具のマウントと同じ形状および寸法の前記露光装置内のマウントに、固定された前記デブリ低減手段と固定された前記多層膜ミラーと前記光源ユニットベースとを含む前記光源ユニットを取り付けるステップと、
を有することを特徴とする交換方法。 - 前記発光点にターゲット材を供給する供給器と、前記ターゲット材のうち不要なターゲット材を回収する回収器と、を前記露光装置外に用意するステップと、
前記露光装置内のマウントに前記光源ユニットを取り付ける前に、固定された前記多層膜ミラーと前記光源ユニットベースとを含む前記光源ユニットに前記供給器または前記回収器を固定するステップと、
を有することを特徴とする請求項1に記載の交換方法。 - 前記光源ユニットベースと前記治具または前記露光装置とは、キネマチックマウントで位置決めされる
ことを特徴とする請求項1に記載の交換方法。 - 前記光源ユニットベースのマウントは、3点の球面からなり、
前記治具または前記露光装置内のマウントは、V、フラット、コーンからなる
ことを特徴とする請求項3に記載の交換方法。
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