TWI820281B - 照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法 - Google Patents

照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明公開照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法。照明光學系統使用從光源射出的非相干光對被照明面進行照明。前述照明光學系統包括：積分器，配置於前述光源與前述被照明面之間；光學系統，配置於前述積分器與前述被照明面之間；以及光學元件，配置於前述積分器與前述光學系統之間，前述光學元件包括楔形狀部。

Description

照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法
本發明涉及照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法。
在用於製造半導體裝置或者顯示裝置等物品的微影工程中，能夠使用曝光裝置。在曝光裝置中，在1次的曝光處理中曝光的1個拍攝區域的尺寸各種各樣。例如，在顯示裝置的製造中能夠使用的第8代的基板具有長2200mm×寬2400mm的尺寸，能夠在該基板上配置複數個拍攝區域。在將基板縱向2分割、橫向2分割而配置4個拍攝區域的情況下，1個拍攝區域能夠成為長1100mm×寬1200mm。在將基板縱向2分割、橫向3分割而配置6個拍攝區域的情況下，1個拍攝區域能夠成為長1100mm×寬800mm。 在專利文獻1中，記載了一種曝光裝置，具有：聚光鏡，對來自放電燈的光進行聚光；以及積分透鏡，設置於來自該聚光鏡的光的聚光位置，其中，設為能夠將該積分透鏡與發散角度不同的其它積分透鏡更換。在這樣的曝光裝置中，例如，在從具有寬的曝光面積的工件變更為具有窄的曝光面積的工件的情況下，從發散角度大的積分透鏡變更為發散角度小的積分透鏡。 現有技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開平3-165023號公報
本發明所欲解決之課題 在專利文獻1記載的技術中，在從具有某個發散角度的積分器更換為具有其它發散角度的積分器的情況下，曝光面積(原版的照明範圍)變化，但曝光範圍的重心位置仍原樣地固定於光軸。即，在專利文獻1記載的技術中，由於積分器的更換而變化的只不過是以光軸為中心的曝光範圍的半徑。因此，專利文獻1記載的技術難以應用於使用通過配置於遠離光軸的位置的狹縫的狹縫光來進行曝光的掃描曝光技術。這是因為，在掃描曝光裝置中，在減小與掃描方向正交的方向上的狹縫的寬度的情況下，如果與其對應地減小原版的照明範圍，則有可能會對狹縫的整個域進行照明。此外，為了變更照明範圍的位置(例如重心位置)，考慮變更照明光學系統相對投影光學系統的位置，但在這樣的方式中，在照明光學系統的位置的變更中可能需要長時間。 本發明的目的在於提供一種有利於容易地變更照明範圍的位置的技術。 用以解決課題之手段 本發明的第1側面涉及使用來自光源的光對被照明面進行照明的照明光學系統，前述照明光學系統包括：積分器，配置於前述光源與前述被照明面之間；光學系統，配置於前述積分器與前述被照明面之間；以及光學元件，配置於前述積分器與前述光學系統之間，前述光學元件包括楔形狀部。 本發明的第2側面涉及使用來自光源的光對被照明面進行照明的照明光學系統，前述照明光學系統包括：積分器，從射出角相互不同的複數個積分器所選擇，且配置於前述光源與前述被照明面之間；光學系統，配置於前述積分器與前述被照明面之間；以及光學元件，配置於前述積分器與前述光學系統之間，前述光學元件包括楔形狀部。 本發明的第3側面涉及曝光裝置，前述曝光裝置具備：前述第1或者第2側面所涉及的照明光學系統；以及投影光學系統，將配置於前述照明光學系統的前述被照明面的原版的圖案投影到基板。 本發明的第4側面涉及物品製造方法，前述物品製造方法包括：曝光工程，使用前述第3側面所涉及的曝光裝置對基板進行曝光；以及顯影工程，對在前述曝光工程中曝光的前述基板進行顯影，根據前述基板製造物品。 發明效果 根據本發明，提供有利於容易地變更照明範圍的位置的技術。
以下，參照附圖，詳細說明實施方式。此外，以下的實施方式不限定發明申請專利範圍所涉及的發明。在實施方式中記載了複數個特徵，但這些複數個特徵並非在發明中全部必須的，並且，複數個特徵可任意地組合。進而，在附圖中，對同一或者同樣的結構附加同一參照編號，省略重複的說明。 圖1示出第1實施方式的照明光學系統200的第1使用方式。照明光學系統200例如能夠構成掃描曝光裝置等曝光裝置的一部分。曝光裝置具有照明光學系統200和投影光學系統，通過照明光學系統200對配置於該投影光學系統的物體面的原版進行照明，向配置於該投影光學系統的像面的基板投影該原版的圖案。照明光學系統200能夠用作對能夠配置於被照明面的物體的任意的照明範圍進行照明的裝置。 照明光學系統200能夠具備光源1、配置於光源1與被照明面5之間的光學系統(第2光學系統)4、以及配置於光源1與光學系統4之間的積分器(光學積分器)3。照明光學系統200還可更具備配置於光源1與積分器3之間的光學系統(第1光學系統)2。光源1例如能夠包括高壓汞燈、氙燈、準分子雷射器、雷射二極體或者LED等發光元件。光學系統2可以是將積分器3的入射面作為光源1的傅立葉轉換面的傅立葉轉換光學系統。在一個例子中，能夠構成為光源1射出非相干光，照明光學系統200使用從光源1射出的非相干光對被照明面進行照明。 積分器3可以是沿著和光學系統2與光學系統4之間的光軸AX正交的面排列複數個透鏡而構成的複眼光學系統。光學系統2的光軸、光學系統4的光軸、光學系統2與光學系統4之間的光軸AX相互一致。該複眼光學系統例如能夠由2個透鏡群6、7構成。2個透鏡群6、7的各個能夠由複數個平凸透鏡的陣列構成。能夠在構成透鏡群6的平凸透鏡的焦點位置配置構成透鏡群7的平凸透鏡，在構成透鏡群7的平凸透鏡的焦點位置配置構成透鏡群6的平凸透鏡。在積分器3的射出面，配置光源1的發光部的複數個像作為二次光源。這樣的積分器3也可以用棒狀積分透鏡置換。 從積分器3的射出面射出的光束通過光學系統4被引導到被照明面5。光學系統4是將被照明面5作為積分器3的射出面的傅立葉轉換面的傅立葉轉換光學系統。可以在光源1與被照明面5之間，配置1個或者複數個反射鏡。例如，能夠在光源1與光學系統2之間配置反射鏡，在光學系統4與被照明面5之間配置反射鏡。 圖2示出第1實施方式的照明光學系統200的第2使用方式。第2使用方式的照明光學系統200能夠具有針對第1使用方式的照明光學系統200追加有光學元件8的結構。光學元件8能夠配置於積分器3與光學系統4之間。光學元件8能夠包括具有楔形狀的楔形狀部。該楔形狀部使光偏轉(彎曲)。該楔形狀部在一個例子中不具有光學上的光焦度(power)，但在其它例子中可能具有光學上的光焦度。楔形狀是指，例如可以是與光軸AX平行的方向的厚度沿著與光軸AX正交的方向連續地變化的形狀。 光學元件8能夠以插入於積分器3與光學系統4之間的光路的狀態通過例如螺釘等固定構件固定。或者，光學元件8能夠通過定位機構插入於積分器3與光學系統4之間的光路。該定位機構能夠包括固定光學元件8的位置的機構。 在圖3中，例示了由圖1所示的第1使用方式的照明光學系統200照明的被照明面5的照明範圍51和由圖2所示的第2使用方式的照明光學系統200照明的被照明面5的照明範圍52。在光學系統4與被照明面5之間未配置反射鏡的情況下，照明範圍51和照明範圍52能夠成為通過光學元件8在Z方向上相互偏移的配置關係。在光學系統4與被照明面5之間以使光軸AX折彎90度的方式配置了反射鏡的情況下，照明範圍51和照明範圍52能夠成為通過光學元件8在Y方向上相互偏移的配置關係。 即使在積分器3與光學系統4之間配置光學元件8，除了照明範圍52相對於照明範圍51偏移以外，照明光學系統200的光學特性不發生實質上的變化。另一方面，假設在積分器3中，例如在透鏡群6與透鏡群7之間配置了光學元件8的情況下，有可能在積分器3的內部發生耀斑光，在被照明面5中產生照度不均。另外，在光學系統4中配置了光學元件8的情況下，光學系統4的光學特性可能大幅變化。具體而言，在光學系統4中配置了光學元件8的情況下，有可能發生光學系統4的像差、或者入射到被照明面5的光的入射角度特性變化。 在圖4中，記載了第2實施方式的照明光學系統300。未作為第2實施方式提及的事項能夠依照第1實施方式。在第2實施方式中，以使來自積分器3的光的一部分通過光學元件8(楔形狀部)，不使其他部分通過光學元件8(楔形狀部)的方式，配置光學元件8。在這樣的位置配置了光學元件8的狀態下，能夠通過例如螺釘等固定構件固定光學元件8。或者，光學元件8能夠以使其一部分插入於積分器3與光學系統4之間的光路的方式，通過定位機構定位。該定位機構能夠包括固定光學元件8的位置的機構。 在圖5中，例示了由圖1所示的第1實施方式的第1使用方式的照明光學系統200照明的被照明面5的照明範圍51和由圖4所示的第2實施方式的照明光學系統300照明的被照明面5的照明範圍53。在第2實施方式中，對具有比照明範圍51寬的面積的照明範圍53進行照明。照明範圍51和照明範圍53的重心位置相互不同。 在圖6中，記載了第3實施方式的照明光學系統400。未作為第3實施方式提及的事項能夠依照第1或者第2實施方式。第3實施方式的照明光學系統400具備使光學元件8移動到光源1與光學系統4之間的光路(更詳細而言光學系統2與光學系統4之間的光路)、或者移動到該光路外的驅動機構40。在圖6中未示出光學元件8的特徵性的形狀，但光學元件8如在第1以及第2實施方式中說明那樣能夠包括楔形狀部。驅動機構40也可以構成為使光學元件8與積分器3一起移動。光學元件8和積分器3能夠配置在共同的構件上。或者，光學元件8和積分器3一體化，能夠以一體的狀態通過驅動機構40驅動。驅動機構40也可以構成為在使光學元件8以及積分器3移動到光源1與光學系統4之間的光路(或者光學系統2與光學系統4之間的光路)外的情況下，使其它積分器13移動到該光路。驅動機構40例如能夠包括保持積分器3及光學元件8一體化而成的第1單元和由積分器13構成的第2單元的工作臺41、以及驅動工作臺41的致動器42。積分器3和積分器13是射出角相互不同的複數個積分器的例子。驅動機構40能夠將從射出角相互不同的複數個積分器選擇的積分器驅動而配置於光源1與被照明面5之間的光路中。 積分器13可以是沿著和光學系統2與光學系統4之間的光軸AX正交的面排列複數個透鏡而構成的複眼光學系統。該複眼光學系統例如能夠由2個透鏡群19、20構成。2個透鏡群19、20的各個能夠由複數個平凸透鏡的陣列構成。能夠在構成透鏡群19的平凸透鏡的焦點位置配置構成透鏡群20的平凸透鏡，在構成透鏡群20的平凸透鏡的焦點位置配置構成透鏡群19的平凸透鏡。能夠在積分器13的射出面，配置光源1的複數個像作為二次光源。這樣的積分器13也可以由棒狀積分透鏡構成。 構成透鏡群6的平凸透鏡與構成透鏡群7的平凸透鏡的距離(換言之這些平凸透鏡的焦距)能夠設定成比構成透鏡群19的平凸透鏡與構成透鏡群20的平凸透鏡的距離長。由此，從積分器3射出的光束的NA(數值孔徑)小於從積分器13射出的光束的NA。即，經由積分器3照明的被照明面的照射範圍小於經由積分器13照明的被照明面的照射範圍。 在圖7的(a)中，例示了在積分器13配置於光學系統2與光學系統4之間的光路時由照明光學系統400照明的被照明面5的照明範圍51。另外，在圖7的(a)中，例示了在積分器3以及光學元件8配置於光學系統2與光學系統4之間的光路時由照明光學系統400照明的被照明面5的照明範圍54。圖7的(a)中的x標記表示照明光學系統400的光軸AX。在圖7的(b)中，示出參考例。圖7的(b)中的照明範圍55是在光學系統2與光學系統4之間的光路中配置有積分器3但未配置光學元件8的情況下由照明光學系統400照明的被照明面5的照明範圍。 在圖8中，記載了第4實施方式的照明光學系統500。未作為第4實施方式提及的事項能夠依照第1至第3實施方式的全部或者一部分。在第4實施方式的照明光學系統500中，在積分器3與光學系統4之間配置有複數個光學零件。該複數個光學零件能夠包括上述光學元件(第1光學元件)8和其它光學元件(第2光學元件)16。光學元件16與光學元件8同樣地能夠包括楔形狀部。在圖8所示的例子中，在積分器3與光學系統4之間，作為複數個光學零件，配置有2個光學元件8、16。在一個例子中，光學元件8具有其厚度沿著Z方向連續地變化的楔形狀，光學元件16具有其厚度沿著X方向連續地變化的楔形狀。在該例子中，光學元件8的厚度變化的方向和光學元件16的厚度變化的方向相互正交(以90度的角度交叉)。在其它例子中，光學元件8的厚度變化的方向和光學元件16的厚度變化的方向能夠以90度以外的角度相互交叉。 在圖9中，例示了在沒有光學元件8、16的情況下由照明光學系統500照明的被照明面5的照明範圍51和在有光學元件8、16的情況下由照明光學系統500照明的被照明面5的照明範圍56。通過在積分器3與光學系統4之間的光路中配置厚度變化的方向相互交叉的光學元件8、16，使照明範圍偏移的方向的自由度提高。 在圖10中，記載了第5實施方式的照明光學系統600。未作為第5實施方式提及的事項能夠依照第1至第4實施方式的全部或者一部分。在第5實施方式的照明光學系統500中，配置於積分器3與光學系統4之間的光學元件8被配置成可繞和積分器3與光學系統4之間的光軸AX平行的軸的周圍旋轉。照明光學系統500能夠具備以和積分器3與光學系統4之間的光軸AX平行的軸的周圍中的光學元件8的旋轉角度被調整之後維持該旋轉角度的方式固定光學元件8的固定構件。或者，照明光學系統500能夠具備使和積分器3與光學系統4之間的光軸AX平行的軸的周圍中的光學元件8旋轉的旋轉機構。該旋轉機構能夠包括以光學元件8與作為目標的旋轉角一致的狀態保持光學元件8的旋轉角的保持機構。 在圖11中，例示了在沒有光學元件8的情況下由照明光學系統500照明的被照明面5的照明範圍51和在有光學元件8的情況下由照明光學系統500照明的被照明面5的照明範圍58。當使光學元件8旋轉時，能夠一邊維持基於光學元件8產生的從照明光學系統600的光軸的偏移量r一邊使照明範圍58的重心旋轉。 以下，參照圖12~圖15，說明光學元件8的結構例。光學元件16也能夠具有與光學元件8同樣的結構。能夠在光學元件8中固定孔徑光闌17。孔徑光闌17能夠設置於光學元件8的入射面側。孔徑光闌17例如能夠由電介體膜等遮光構件構成。孔徑光闌17也可以安裝於積分器3的射出面，但在固定到光學元件8的結構時，從省空間化的觀點來看有時更有利。孔徑光闌17也可以固定於光學元件8的射出面。 光學元件8如圖12例示能夠構成為由光學元件8的整體形成1個楔形狀。光學元件8能夠具有相互非平行的第1面(入射面)81以及第2面(射出面)82。第1面81以及第2面82分別可以是平面。在將光學元件8的折射率設為n(λ)、將第2面(射出面)82相對與光軸正交的面的傾斜角度設為θ、將入射到光學元件8的光的入射角設為α、將從光學元件8射出的光的射出角設為α+Δα時，存在式(1)的關係。此外，λ是入射到光學元件8的光的波長。 在α較小時，Δα能夠近似為(n－1)θ。即，通過了光學元件8的光的角度(相對光軸的角度)相比於入射光更增加(n－1)θ。 也可以如圖16例示，光學元件8的第1面81以及第2面82的至少一方具有光焦度。在一個例子中，第1面81的曲率中心可能處於積分器3與光學系統4之間的光軸AX或者光軸AX的延長線上，第2面82的曲率中心可能處於從積分器3與光學系統4之間的光軸AX或者光軸AX的延長線偏離的位置。在第1面81由平面構成的情況下，其曲率中心位於無限遠。 圖13~圖15示出光學元件8的3個變形例。也可以如圖13~圖15例示，光學元件8包括配置有複數個楔的陣列。複數個楔能夠按照一維狀或者二維狀配置。在一維狀地配置複數個楔的情況下，排列複數個楔的方向能夠為使照明範圍偏移的方向(楔的厚度變化的方向)。換言之，在楔的厚度沿著某個方向變化的情況下，複數個楔能夠沿著該方向排列。複數個楔能夠具有相互相等的角度(相對光軸的角度)的傾斜面。 光學元件8的折射率n(λ)根據波長λ變化。因此，更嚴密而言，如式(1)所示，Δα也根據波長變化。在光源1發生的光的波長λ為寬的情況下，可能需要考慮光學元件8的折射率n(λ)的寬度。為了使光學元件8的特性針對波長λ的寬度不敏感，減小光學元件8的厚度是有效的。如圖13~圖15例示的光學元件8為了減小光學元件8的厚度，即為了使光學元件8的特性針對波長λ的寬度不敏感是有效的。 積分器3可以是複眼光學系統。在該情況下，構成該複眼光學系統的複數個透鏡的排列間距與構成光學元件8的複數個楔的排列間距之比可以為1：自然數。圖14所示的例子是該比為1：1，圖15所示的例子是該比為1：2。這樣的結構為了防止來自複眼光學系統的光入射到構成光學元件8的複數個楔之間並由此防止發生耀斑是有效的。特別是，在光源1的發光部的大小較小的情況下，構成複眼光學系統的各透鏡形成的發光部的像也變小，所以防止來自該像的光入射到構成光學元件8的複數個楔之間。 以下，參照圖17，說明嵌入有以上述第1至第5實施方式的照明光學系統200~600為代表的照明光學系統IL的曝光裝置EXP。曝光裝置EXP具備照明光學系統IL和將配置於照明光學系統IL的被照明面5的原版R的圖案投影到基板S的投影光學系統PL。原版R能夠通過包括保持原版R的原版載置台的原版驅動機構RM來驅動，基板S能夠通過包括保持基板S的基板載置台的基板驅動機構SM來驅動。曝光裝置EXP能夠構成為一邊對通過設置於未圖示的狹縫構件的狹縫的狹縫光掃描原版R以及基板S一邊對基板S進行曝光的掃描曝光裝置。或者，曝光裝置EXP也可以構成為在使原版R以及基板S靜止的狀態下對基板進行曝光的曝光裝置。照明光學系統IL能夠在光源1與光學系統2之間具有使光軸折彎的反射鏡M1。另外，照明光學系統IL能夠在光學系統4與被照明面5(配置原版R的面)之間，具有使光軸折彎的反射鏡M2。 投影光學系統PL的物體面與照明光學系統IL的被照明面5一致，在投影光學系統PL的像面配置基板S。能夠在從投影光學系統PL的物體面到投影光學系統PL的像面的光路中，從該物體面依次配置第1凹反射面701、凸反射面702、第2凹反射面703。能夠在該物體面與第1凹反射面701之間，配置第1折彎反射面704。能夠在第2凹反射面703與該像面之間，配置第2折彎反射面705。 以下，設為能夠在照明光學系統IL的光學系統2與光學系統4之間配置圖6的積分器3或者積分器13而繼續說明。在此，使用積分器3的情況的被照明面5的照明範圍比使用積分器13的情況的被照明面5的照明範圍更窄。在照明光學系統IL的光學系統2與光學系統4之間配置積分器3的情況下，在積分器3與光學系統4之間配置光學元件8。 在圖18的(a)中，例示了在照明光學系統IL的光學系統2與光學系統4之間配置有積分器13的情況下的被照明面5中的照明範圍311。在此，在照明光學系統IL中，設置有用於形成狹縫光的未圖示的狹縫構件，照明範圍311中的實際被照明的僅為狹縫區域310。即，原版R被通過狹縫區域310的光照明。 在圖18的(b)中，例示了在照明光學系統IL的光學系統2與光學系統4之間配置有積分器3以及光學元件8的情況下的被照明面5中的照明範圍322。如上所述，在照明光學系統IL中，設置有用於形成狹縫光的狹縫構件，所以照明範圍322中的實際被照明的僅為狹縫區域320。即，原版R被通過狹縫區域320的光照明。在基板S的拍攝區域的寬度(與掃描方向正交的方向的寬度，即X方向的寬度)小的情況下，使用積分器3，由此，能夠提高對原版R進行照明的光的照度，能夠提高輸送量。但是，在不使用光學元件8的情況下，照明範圍成為照明範圍321，狹縫區域320的一部分不會被照明。 作為不使用光學元件8的情況下的替代方案，考慮變更照明光學系統IL相對投影光學系統PL的位置的方式，但在這樣的方式中，需要使具有相當的重量的照明光學系統IL移動。因此，為了照明光學系統IL的再調整而可能需要長時間。另外，用於變更照明光學系統IL相對投影光學系統PL的位置的機械結構相當大，可能使曝光裝置EXP的成本大幅增加。 通過設置光學元件8，能夠容易地變更照明範圍的位置，能夠大幅削減照明光學系統IL的再調整所需的時間。另外，通過設置光學元件8，能夠使曝光裝置EXP的構造單純化，能夠降低曝光裝置EXP的成本。 本發明的實施方式中的物品製造方法例如適合於製造器件(半導體元件、磁性儲存媒體、液晶顯示元件等)、濾色器等物品。該製造方法包括：曝光工程，使用上述曝光裝置，對塗敷有感光劑的基板進行曝光；以及顯影工程，使曝光的基板顯影。另外，該製造方法能夠包括其它公知的處理工程(氧化、成膜、蒸鍍、摻雜、平坦化、蝕刻、光阻剝離、切割、接合、封裝等)。本實施方式中的物品的製造方法相比以往在物品的性能、品質、生產性以及生產成本的至少1個方面更有利。 發明不限制於上述實施方式，能夠不脫離發明的精神以及範圍而實施各種變更以及變形。因此，為了公開發明的範圍而附上請求項。
1:光源 2:光學系統 3:積分器 4:光學系統 5:被照明面 8:光學元件 13:積分器 51:照明範圍 52:照明範圍
[圖1] 是示出第1實施方式的照明光學系統的第1使用方式的圖。 [圖2] 是示出第1實施方式的照明光學系統的第2使用方式的圖。 [圖3] 是例示照明範圍的偏移的圖。 [圖4] 是示出第2實施方式的照明光學系統的圖。 [圖5] 是說明照明範圍的放大的圖。 [圖6] 是示出第3實施方式的照明光學系統的圖。 [圖7] 是例示照明範圍的偏移的圖。 [圖8] 是示出第4實施方式的照明光學系統的圖。 [圖9] 是例示照明範圍的偏移的圖。 [圖10] 是示出第5實施方式的照明光學系統的圖。 [圖11] 是例示照明範圍的偏移的圖。 [圖12] 是示出光學元件的結構例的圖。 [圖13] 是示出光學元件的結構例的圖。 [圖14] 是示出光學元件的結構例的圖。 [圖15] 是示出光學元件的結構例的圖。 [圖16] 是示出光學元件的結構例的圖。 [圖17] 是示出一個實施方式的曝光裝置的結構的圖。 [圖18] 是例示照明範圍的圖。
1:光源
2:光學系統
3:積分器
4:光學系統
5:被照明面
6,7:透鏡群
8:光學元件
200:照明光學系統

Claims (16)

  1. 一種照明光學系統，使用從光源射出的光對被照明面進行照明，該照明光學系統，其特徵在於，包括：積分器，配置於前述光源與前述被照明面之間；光學系統，配置於前述積分器與前述被照明面之間；光學元件，包括配置於前述積分器與前述光學系統之間的楔形狀部；以及驅動機構，驅動前述光學元件，前述驅動機構，係「使前述光學元件移動到前述光源與前述光學系統之間的光路、或者移動到前述光路外」的機構。
  2. 如請求項1的照明光學系統，其中，前述光學元件具有相互非平行的第1面以及第2面。
  3. 如請求項2的照明光學系統，其中，前述第1面的曲率中心處於前述光學系統的光軸或者前述光軸的延長線上，前述第2面的曲率中心處於從前述光軸或者前述延長線偏離的位置。
  4. 如請求項1的照明光學系統，其中，前述驅動機構使前述光學元件與前述積分器一起移動。
  5. 如請求項4的照明光學系統，其中，前述驅動機構在使前述光學元件以及前述積分器移動到前述光路外的情況下，使其它積分器移動到前述光路。
  6. 如請求項1的照明光學系統，其中，在前述積分器與前述光學系統之間配置有複數個光學零件，前述複數個光學零件包括前述光學元件和第2光學元件，前述第2光學元件包括楔形狀部。
  7. 如請求項1的照明光學系統，其中，前述光學元件配置成能夠繞和前述積分器與前述光學系統之間的光軸平行的軸的周圍旋轉。
  8. 如請求項1的照明光學系統，其中，對前述光學元件固定有孔徑光闌。
  9. 如請求項1的照明光學系統，其中，以使來自前述積分器的光的一部分通過前述光學元件，不使其他部分通過前述光學元件的方式，配置前述光學元件。
  10. 如請求項1的照明光學系統，其中，前述光學元件構成為由前述光學元件的整體形成1個楔形狀。
  11. 如請求項1的照明光學系統，其中，前述光學元件包括配置有複數個楔的陣列。
  12. 如請求項11的照明光學系統，其中，前述積分器是複眼光學系統，構成前述複眼光學系統的複數個透鏡的排列間距與前述複數個楔的排列間距之比是1：自然數。
  13. 一種照明光學系統，使用來自光源的光對被照明面進行照明，該照明光學系統，其特徵在於，包 括：積分器，從射出角相互不同的複數個積分器所選擇，且配置於前述光源與前述被照明面之間；光學系統，配置於前述積分器與前述被照明面之間；光學元件，包括配置於前述積分器與前述光學系統之間的楔形狀部；以及驅動機構，驅動前述光學元件，前述驅動機構，係「使前述光學元件移動到前述光源與前述光學系統之間的光路、或者移動到前述光路外」的機構。
  14. 如請求項13的照明光學系統，其中，前述驅動機構，係使前述光學元件與前述複數個積分器中的1個積分器一起移動。
  15. 一種曝光裝置，其特徵在於，具備：如請求項1至14任意一項的照明光學系統；以及投影光學系統，將配置於前述照明光學系統的前述被照明面的原版的圖案投影到基板。
  16. 一種物品製造方法，其特徵在於，包括：曝光工程，使用如請求項15的曝光裝置對基板進行曝光；以及顯影工程，使在前述曝光工程中曝光的前述基板顯影，根據前述基板製造物品。
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