JP7227775B2 - 照明光学系、露光装置および物品製造方法 - Google Patents
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Description
・・・式(1)
αが小さいとき、Δαは(n-1)θと近似できる。つまり、光学素子8を通過した光は、(n-1)θだけ、入射光よりも角度(光軸に対する角度)を増すことになる。
Claims (15)
- 光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、
前記光源と前記被照明面との間に配置されたインテグレータと、
前記インテグレータと前記被照明面との間に配置された光学系と、
前記インテグレータと前記光学系との間に配置された光学素子と、
前記光学素子を前記光源と前記光学系との間の光路に移動させたり、前記光路の外に移動させたりする駆動機構と、を含み、
前記光学素子は、楔形状部を含み、
前記駆動機構は、前記光学素子を前記インテグレータと共に移動させる、
ことを特徴とする照明光学系。 - 前記光源は、水銀ランプ、キセノンランプ、LEDのいずれかである、
ことを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。 - 前記楔形状部は、互いに非平行な第1面および第2面を有する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の照明光学系。 - 前記第1面の曲率中心が前記光学系の光軸または前記光軸の延長線の上にあり、前記第2面の曲率中心が前記光軸または前記延長線からずれた位置にある、
ことを特徴とする請求項3に記載の照明光学系。 - 前記駆動機構は、前記光学素子および前記インテグレータを前記光路の外に移動させる場合に、他のインテグレータを前記光路に移動させる、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記インテグレータと前記光学系との間に複数の光学部品が配置され、前記複数の光学部品は、前記光学素子と、第2光学素子とを含み、前記第2光学素子は、楔形状部を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記光学素子は、前記インテグレータと前記光学系との間の光軸に平行な軸の周りで回転可能に配置されている、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記光学素子に開口絞りが固定されている、
ことを特徴する請求項1乃至7のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記インテグレータからの光の一部が前記光学素子を通過し、他の一部が前記光学素子を通過しないように前記光学素子が配置される、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記光学素子は、前記光学素子の全体で1つの楔形状をなすように構成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記光学素子は、複数の楔が配置されたアレイを含む、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記インテグレータは、フライアイ光学系であり、前記フライアイ光学系を構成する複数のレンズの配列ピッチと前記複数の楔の配列ピッチとの比が1:自然数である、
ことを特徴とする請求項11に記載の照明光学系。 - 光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であり、第1使用形態と第2使用形態とを選択できる照明光学系であって、
前記第1使用形態において、前記光源と前記被照明面との間の光路に配置され、第1出射角を有する第1インテグレータと、
前記第2使用形態において、前記光源と前記被照明面との間の光路に配置され、前記第1出射角とは異なる第2出射角を有する第2インテグレータと、
前記第1インテグレータ又は前記第2インテグレータが配置される前記光路における位置と前記被照明面との間に配置された光学系と、
前記第1使用形態において、前記位置と前記光学系との間に配置される楔形状部を含む光学素子と、
前記第1インテグレータと、前記第2インテグレータと、前記光学素子と、を駆動する駆動機構と、を含み、
前記駆動機構は、
前記第1使用形態において、前記第1インテグレータ及び前記光学素子が前記光路に配置され、前記第2インテグレータが前記光路に配置されないように、前記第1インテグレータと、前記第2インテグレータと、前記光学素子と、を駆動し、
前記第2使用形態において、前記第1インテグレータ及び前記光学素子が前記光路に配置されずに、前記第2インテグレータが前記光路に配置されるように、前記第1インテグレータと、前記第2インテグレータと、前記光学素子と、を駆動する、
ことを特徴とする照明光学系。 - 請求項1乃至13のいずれか1項に記載の照明光学系と、 前記照明光学系の前記被照明面に配置された原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項14に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光された前記基板を現像する現像工程と、を含み、
前記現像工程で現像された前記基板から物品を製造する物品製造方法。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000021765A (ja) | 1998-07-03 | 2000-01-21 | Nikon Corp | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2015005676A (ja) | 2013-06-22 | 2015-01-08 | 株式会社ニコン | 照明光学系、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2016100461A (ja) | 2014-11-21 | 2016-05-30 | キヤノン株式会社 | 照明光学装置、およびデバイス製造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01109720A (ja) * | 1987-10-22 | 1989-04-26 | Canon Inc | 照明装置 |
JP2759890B2 (ja) * | 1989-11-24 | 1998-05-28 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置 |
JP3232473B2 (ja) * | 1996-01-10 | 2001-11-26 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
JP3991166B2 (ja) * | 1996-10-25 | 2007-10-17 | 株式会社ニコン | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
JP4041700B2 (ja) * | 2002-06-25 | 2008-01-30 | フジノン株式会社 | 照明光学系およびこれを用いた投写型表示装置 |
TWI612338B (zh) * | 2003-11-20 | 2018-01-21 | 尼康股份有限公司 | 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法 |
KR101240130B1 (ko) * | 2005-01-25 | 2013-03-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법, 및 마이크로 디바이스 제조 방법 |
KR101152713B1 (ko) * | 2005-02-25 | 2012-06-15 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 방법 및 장치, 및 전자 디바이스 제조 방법 |
JP2007142084A (ja) * | 2005-11-17 | 2007-06-07 | Nikon Corp | 露光方法及びデバイス製造方法 |
JP4929762B2 (ja) * | 2006-03-03 | 2012-05-09 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
WO2007119514A1 (ja) * | 2006-04-17 | 2007-10-25 | Nikon Corporation | 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2011013263A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Ushio Inc | 光照射装置 |
JP6170564B2 (ja) * | 2012-10-27 | 2017-07-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000021765A (ja) | 1998-07-03 | 2000-01-21 | Nikon Corp | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2015005676A (ja) | 2013-06-22 | 2015-01-08 | 株式会社ニコン | 照明光学系、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2016100461A (ja) | 2014-11-21 | 2016-05-30 | キヤノン株式会社 | 照明光学装置、およびデバイス製造方法 |
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