JP4986754B2 - 照明光学系及びそれを有する露光装置 - Google Patents
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description
P1=(0,−cosθ,sinθ)
として定義し、円筒面形状の反射面の法線ベクトルを
n=(−sinα,cosα,0)
として定義する。すると、反射光の光線ベクトルは、
P2=(−cosθ×sin2α,cosθ×cos2α,sinθ)
となる。
U2=D/f
で表される。
100 光源部
200 装置本体
210 照明光学系
211 第1光学ユニット
213 反射型インテグレータ
214 補助ミラー
215 開口絞り
216 第2光学ユニット
220 マスクステージ
230 投影光学系
240 ウエハステージ
Claims (6)
- 光源からの光を集光する第1光学ユニットと、
母線方向が揃った複数の円筒反射面を備え、前記第1光学ユニットからの光で複数の線状光源を形成する反射型インテグレータと、
前記複数の線状光源を挟むように、前記母線方向に沿って対向配置された一対の平面ミラーと、
前記母線方向に垂直に配置され、前記複数の線状光源からの光が通過する開口が設けられた開口絞りと、
前記開口を通過した前記複数の線状光源それぞれからの光を被照明面上で重ね合わせる第2光学ユニットとを有することを特徴とする照明光学系。 - 前記反射型インテグレータは、それぞれが複数の円筒反射面を備える複数のインテグレータ部を含み、前記複数のインテグレータ部のそれぞれに前記第1光学ユニットからの光の一部が入射するように、前記複数のインテグレータ部が、前記母線方向に垂直な方向に並べて前記開口絞りの入射側に配置されることを特徴とする請求項1の照明光学系。
- 前記第1光学ユニットは、前記光源からの光を平行化して前記反射型インテグレータに導くことを特徴とする請求項1又は2の照明光学系。
- 前記開口絞りの開口形状は切り替え可能であり、前記開口形状の切り替えに応じて、前記一対の平面ミラーの間隔を変えることを特徴とする請求項1〜3いずれかの照明光学系。
- マスクが載置されるマスクステージと、ウエハが載置されるウエハステージと、前記被照明面上に配置された前記マスクを照明する請求項1〜4いずれかの照明光学系と、前記マスクに形成されたパターンを前記ウエハに投影する投影光学系とを有することを特徴とする露光装置。
- ウエハにレジストを塗布するステップと、
請求項5の露光装置を用いて、マスクに形成されたパターンをウエハに露光するステップと、
露光されたウエハを現像するステップとを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
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