DE102011076549A1 - Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft optische Anordnungen in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt weise eine optische Anordnung wenigstens eine Spiegelsegmentanordnung (300, 325, 355, 400, 450, 550, 600) aus einer Mehrzahl von separaten Spiegelsegmenten (310–320; 330–350; 360–390, 410–445, 470–495, 510–535, 610–640) auf, wobei die Spiegelsegmente mit einer Tragstruktur der Projektionsbelichtungsanlage über Lagerungselemente (311–313; 321–323) verbunden sind, und wobei wenigstens eines dieser Lagerungselemente (313), welches einem ersten der Spiegelsegmente (310) zugeordnet ist, sich auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite wenigstens teilweise in den Bereich eines zweiten, benachbart zum ersten Spiegelsegment anganordnung erstreckt.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Gebiet der Erfindung
  • Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage.
  • Stand der Technik
  • Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD's, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z. B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
  • In für den EUV-Bereich ausgelegten Projektionsobjektiven, d. h. bei Wellenlängen von z. B. etwa 13 nm oder etwa 7 nm, werden mangels Verfügbarkeit geeigneter lichtdurchlässiger refraktiver Materialien Spiegel als optische Komponenten für den Abbildungsprozess verwendet.
  • Typische für EUV ausgelegte Projektionsobjektive, wie z. B. aus US 7,538,856 B2 bekannt, können beispielsweise eine bildseitige numerische Apertur (NA) im Bereich von NA = 0.2 bis 0.3 aufweisen und bilden ein (z. B. ringförmiges) Objektfeld in die Bildebene bzw. Waferebene ab.
  • Mit zunehmender Erhöhung der bildseitigen numerischen Apertur (NA) tritt in der Praxis das Problem auf, dass eine mit dieser Erhöhung einhergehende Vergrößerung der Spiegelflächen einen zunehmenden technologischen Fertigungs- und Kostenaufwand mit sich bringt. Mit wachsenden Abmessungen der Spiegel werden größere Bearbeitungsmaschinen zur Fertigung benötigt, und es werden strengere Anforderungen an die verwendeten Bearbeitungswerkzeuge (wie z. B. Schleif-, Läpp-, und Poliermaschinen, Interferometer, Reinigungs- und Beschichtungsanlagen) gestellt. Ferner müssen zur Fertigung größerer Spiegel schwerere Spiegelgrundkörper verwendet werden, welche ab einer gewissen Grenze kaum noch montierbar sind oder sich gravitationsbedingt über ein akzeptables Maß hinaus durchbiegen.
  • Ein weiteres in der Praxis auftretendes Problem ist, dass sowohl bei der passiven als auch bei der aktiven (d. h. unter Ermöglichung einer Aktuierung erfolgenden) Lagerung eines Spiegels eine Anbringung von Lagerungselementen in Bereichen außerhalb des Spiegelgrundkörpers bzw. seiner wirksamen Fläche an sich unerwünscht ist, da eine solche Anbringung zu einer Vergrößerung des ohnehin begrenzten erforderlichen Bauraums beiträgt. Andererseits ist jedoch auch eine Anbringung der betreffenden Lagerungselemente unmittelbar auf der Rückseite des Spiegels, d. h. auf dessen der optisch wirksamen Fläche abgewandten Seite, im Hinblick auf die bei einer solchen Geometrie signifikant erhöhten Deformationseinträge nachteilig. Solche Deformationseinträge gehen typischerweise von Fügestellen aus, welche am Übergang vom Spiegelmaterial zu den zur Lagerung bzw. Aktuierung eingesetzten (z. B. metallischen) Werkstoffen erforderlich sind und über die mit dem entsprechenden Fügeprozess (z. B. Löten oder Kleben) einhergehenden lokalen Spannungen die Einleitung mechanischer Spannungen bzw. Deformationen in das Material des Spiegels bzw. Spiegelsegments bewirken. Da diese Fügestellen infolge auftretender Relaxaktionseffekte nicht vollständig zeitlich stabil sind, variiert zudem der Deformationseinfluss der Fügestelle über die Lebensdauer des Spiegels, so dass er auch nicht ohne Weiteres durch einmalige Nachbearbeitung des Spiegels etwa unmittelbar im Anschluss an die Fertigung beseitigt werden.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage bereitzustellen, welche eine Realisierung höherer numerischer Aperturen unter zumindest weitgehender Vermeidung der vorstehend beschriebenen fertigungstechnischen Probleme ermöglicht.
  • Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Patentansprüche gelöst.
  • Gemäß einem Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit
    • – wenigstens einer Spiegelsegmentanordnung aus einer Mehrzahl von separaten Spiegelsegmenten;
    • – wobei die Spiegelsegmente mit einer Tragstruktur der Projektionsbelichtungsanlage über Lagerungselemente verbunden sind; und
    • – wobei wenigstens eines dieser Lagerungselemente, welches einem ersten der Spiegelsegmente zugeordnet ist, sich auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite wenigstens teilweise in den Bereich eines zweiten, benachbart zum ersten Spiegelsegment angeordneten Spiegelsegments der Spiegelsegmentanordnung erstreckt.
  • Was zunächst generell den Einsatz einer Spiegelsegmentanordnung mit separaten Spiegelsegmenten anstelle eines nicht segmentweise ausgeführten Spiegels betrifft, so hat die segmentweise Ausführung insofern wesentliche fertigungstechnische Vorteile, als zum einen der maximale zu bearbeitende Durchmesser bei der erfindungsgemäßen Spiegelsegmentanordnung wesentlich geringer (lediglich beispielhaft in der Größenordnung von 70% oder weniger) als der maximale Durchmesser eines entsprechenden unsegmentierten Spiegel sein kann. Infolgedessen wird u. U. die Fertigung überhaupt erst technologisch ermöglicht, oder es können zusätzliche Investitionen in neue und größere Fertigungsmaschinen vermieden werden. Zum anderen können, da die einzelnen Spiegelsegmente dünner sein können, die zu handhabenden Bauteile eine wesentlich geringere (Gesamt-)Masse, lediglich beispielhaft in der Größenordnung von 25% oder weniger, im Vergleich zu einem entsprechenden unsegmentierten Spiegel aufweisen. Infolge der Reduzierung der Gesamtmasse und entsprechend der Anzahl der Segmente zusätzlicher, ohne Zwängung vorhandener Stützstellen, kann auch die gravitationsbedingte Deformation der Spiegelsegmente bzw. -anordnung aufgrund des Eigengewichts reduziert werden.
  • Dadurch, dass sich nun erfindungsgemäß entsprechend dem o. g. Ansatz wenigstens ein Lagerungselement auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite in den Bereich eines benachbarten Spiegelsegmentes erstreckt, wird unter Ausnutzung des segmentweisen Aufbaus zum einen ein „Überstehen” des betreffenden Lagerungselementes über den Spiegelgrundkörper bzw. über die optisch wirksame Fläche der Spiegelsegmentanordnung hinaus und eine hiermit einhergehende Vergrößerung des erforderlichen Bauraums vermieden, zum anderen aber auch die mit einer direkten Anbringung des Lagerungselementes auf der Rückseite des zugehörigen Spiegelsegmentes einhergehende Vergrößerung von Deformationseffekten verhindert, indem nämlich unter Ausnutzung des segmentweisen Aufbaus die Verfügbarkeit des durch benachbarte Spiegelsegmente bereitgestellten Bauraums für die geometrische Anordnung des Lagerungselementes genutzt wird.
  • Mit anderen Worten liegt der Erfindung somit gemäß dem o. g. Aspekt das Konzept zugrunde, die Anbindung wenigstens eines Spiegelsegmentes der Spiegelsegmentanordnung zur Lagerung und/oder Aktuierung zwar unter Deformationsaspekten außerhalb der Grundfläche des jeweiligen Spiegelsegmentes zu realisieren, den benötigten Platz für diese Anbindung aber zugleich (gewissermaßen als „Hinterschneidung”) in einem benachbarten Spiegelsegment vorzuhalten und somit die Anbindung in unter Bauraumaspekten günstiger Weise noch innerhalb der Grundfläche der gesamten Spiegelsegmentanordnung bzw. dessen optisch wirksamer Fläche unterzubringen.
  • Da das betreffende Lagerungselement ohne mechanischen Kontakt zu dem besagten, benachbarten Spiegelsegment ausgestaltet ist, hat die Anbringung dieses Lagerungselements auf der Rückseite des zum eigentlich zugehörigen Spiegelsegment benachbarten Spiegelsegments keine nachteiligen Auswirkungen im Hinblick auf die Einleitung von Deformationseffekten, da das betreffende Lagerungselement eben nicht direkt auf der Rückseite des zugehörigen, angebundenen Spiegelsegments mechanisch angebunden ist.
  • Im Ergebnis wird erfindungsgemäß erreicht, dass in der Spiegelsegmentanordnung die Anbindung wenigstens eines Lagerungselements unterhalb der optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung realisiert werden kann, indem die jeweilige mechanische Anbindung jeweils unterhalb eines benachbarten Spiegelsegmentes angesetzt wird, wobei insbesondere in diesem benachbarten Spiegelsegment bereits der benötigte Bauraum vorgehalten sein kann. Des Weiteren kann auf Entkopplungsbereiche oder -elemente, wie im Weiteren noch beschrieben, verzichtet werden, so dass auch eine Beeinträchtigung der Steifigkeit der Anordnung durch die Anbindung vermieden werden kann.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist das Lagerungselement vollständig außerhalb des vom ersten Spiegelsegment abgedeckten Bereichs angeordnet. Wenngleich diese Ausgestaltung im Hinblick auf die Minimierung von Deformationseinträgen bei zugleich erzielbarer Steifigkeit der Anordnung bevorzugt ist, ist die Erfindung nicht hierauf beschränkt. So sollen grundsätzlich auch noch solche Ausgestaltungen als von der Erfindung umfasst gelten, bei denen sich wenigstens ein Lagerungselement wenigstens teilweise in den Bereich unterhalb eines anderen Spiegelsegmentes (als desjenigen, dem das Lagerungselement zugeordnet bzw. an dem es mechanisch angebunden ist) erstreckt, aber – etwa infolge eines umgebogenen Abschnitts o. dgl. – sich auch teilweise noch unterhalb des zuordneten bzw. mechanisch angebundenen Spiegelsegmentes befindet.
  • Gemäß einer Ausführungsform kann das betreffende zweite, benachbart zum ersten Spiegelsegment angeordnete Spiegelsegment für das betreffende Lagerungselement eine Aussparung aufweisen, also einen Bereich, in welchem Spiegelmaterial „weggelassen” ist. Die Erfindung ist jedoch hierauf nicht beschränkt, sondern erfasst grundsätzlich auch jegliche Anordnungen, in denen sich das betreffende Lagerungselement in den Bereich des zugehörigen Spiegelsegments benachbarten Spiegelsegment hinein erstreckt, wobei diese Erstreckung auch in Form einer Anordnung unterhalb des betreffenden benachbarten Spiegelsegments (ohne dass dieses hierzu eine Aussparung aufweisen muss) vorliegen kann.
  • Gemäß einer Ausführungsform sind jedem Spiegelsegment genau drei Lagerungselemente zugeordnet, wodurch eine statisch eindeutig bestimmte Lagerung erzielt wird.
  • Das Spiegelsegment kann insbesondere entlang des wenigstens einen Lagerungselementes aktuierbar sein.
  • Gemäß weiteren Ausführungsformen erstreckt sich für wenigstens zwei Spiegelsegmente, weiter insbesondere für wenigstens drei Spiegelsegmente, und weiter insbesondere für sämtliche Spiegelsegmente der Spiegelsegmentanordnung jeweils wenigstens ein dem jeweiligen Spiegelsegment zugeordnetes Lagerungselement sich auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite wenigstens teilweise in den Bereich eines anderen Spiegelsegments der Spiegelsegmentanordnung.
  • In weiteren Ausführungsformen können sich auch wenigstens zwei, weiter insbesondere wenigstens drei Lagerungselemente, welche demselben Spiegelsegment zugeordnet sind, auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite wenigstens teilweise in den Bereich jeweils eines dem ersten Spiegelsegment benachbarten Spiegelsegments der Spiegelsegmentanordnung erstrecken.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit
    • – wenigstens einer Spiegelsegmentanordnung aus einer Mehrzahl von separaten Spiegelsegmenten;
    • – wobei die Spiegelsegmente mit einer Tragstruktur der Projektionsbelichtungsanlage über Lagerungselemente verbunden sind; und
    • – wobei wenigstens eines der Spiegelsegmente auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite eine Verjüngung aufweist, an welche sich ein verbreiterter Abschnitt zur Lagerung und/oder Aktuierung des Spiegelsegmentes anschließt.
  • Gemäß diesem Aspekt der Erfindung wird ebenfalls dem vorstehend beschriebenen Problem Rechnung getragen, indem einerseits eine mit einer Anordnung von Lagerungselementen außerhalb der optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung einhergehende Bauraumvergrößerung vermieden wird, andererseits aber auch ein mit der Anordnung des betreffenden Lagerungselementes innerhalb des von der optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung definierten Bereichs verbundener, zusätzlicher Deformationseintrag zumindest reduziert wird.
  • Infolge der erfindungsgemäß vorgesehenen Verjüngung, welche sich an den verbreiteten Abschnitt zur Lagerung und/oder Aktuierung anschließt, kann nämlich eine mechanische Entkopplung der von der betreffenden Fügestelle ausgehenden mechanischen Spannungen bzw. Deformationseffekten erzielt und zugleich infolge des besagten verbreiterten Abschnitts sichergestellt werden, dass eine (infolge des durch die besagte Verbreiterung erzielten, vergrößerten „Hebels”) hinreichend genaue Lagerung und/oder Aktuierung des betreffenden Spiegelsegments erfolgen kann.
  • Gemäß einer Ausführungsform bildet der verbreiterte Abschnitt ein Dreibein.
  • Des Weiteren kann die Verjüngung in Form eines Stegs ausgebildet sein. Dieser Steg kann insbesondere eine Länge aufweisen, welche wenigstens dem maximalen Durchmesser des Stegs, insbesondere wenigstens dem 1.2-fachen des maximalen Durchmessers, und weiter insbesondere dem 1.4-fachen des maximalen Durchmessers des Stegs entspricht.
  • Gemäß einer Ausführungsform weist die Spiegelsegmentanordnung wenigstens drei Spiegelsegmente, insbesondere wenigstens vier Spiegelsegmente, auf.
  • Die in der erfindungsgemäßen Spiegelsegmentanordnung benachbarten Spiegelsegmente können generell optisch nahtlos zusammengefügt sein oder auch einen endlichen Abstand zueinander aufweisen, welcher entweder durch den Fertigungsprozess bedingt sein kann oder auch gezielt zum Zwecke der Justierung der Spiegelsegmentanordnung vorgesehen sein kann.
  • Die Erfindung betrifft ferner eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung und einem Projektionsobjektiv, wobei Beleuchtungseinrichtung und/oder Projektionsobjektiv eine erfindungsgemäße optische Anordnung mit den vorstehenden Merkmalen aufweisen.
  • Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.
  • Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Es zeigen:
  • 12 schematische Darstellungen zur Erläuterung unterschiedlicher Ausführungsformen gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung;
  • 36 schematische Darstellung zur Erläuterung unterschiedlicher Ausführungsformen gemäß einem zweiten Aspekt der Erfindung; und
  • 7 eine schematische Darstellung des Aufbaus eines Projektionsobjektivs, in dem eine erfindungsgemäße optische Anordnung beispielsweise realisierbar ist.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Im Weiteren werden zunächst Ausführungsformen gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung unter Bezugnahme auf 1a–b und 2a–b erläutert.
  • In 1a–b ist zunächst in lediglich schematischer Darstellung eine optische Anordnung in Draufsicht (1b) bzw. in Seitenschnittansicht (1a) gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung gezeigt.
  • Wie am besten aus 1b ersichtlich, weist eine in einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung vorhandene Spiegelsegmentanordnung 100 eine Mehrzahl von Spiegelsegmenten (im konkreten Ausführungsbeispiel 7 Spiegelsegmente) auf. Die optische Anordnung ist in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (insbesondere im Projektionsobjektiv der Projektionsbelichtungsanlage) einsetzbar, wie im Weiteren noch unter Bezugnahme auf 7 näher beschrieben wird.
  • Im konkreten Ausführungsbeispiel weist die Spiegelsegmentanordnung 100 sechs Randsegmente 101106 auf, wobei jedes Randsegment einen Randbereich aufweist, welcher mit einem Randbereich der gesamten Spiegelsegmentanordnung 100 übereinstimmt. Des Weiteren ist im gezeigten Beispiel (ohne dass die Erfindung hierauf beschränkt wäre) ein Mittensegment 107 vorhanden, welches keinen mit dem Randbereich der gesamten Spiegelsegmentanordnung 100 übereinstimmenden Randbereich aufweist. Grundsätzlich ist die Erfindung mit einer Vielfalt weiterer möglicher Spiegelsegmentanordnungen (mit einer höheren oder niedrigeren Anzahl von Spiegelsegmenten, mit oder ohne Mittensegment) möglich.
  • Wie aus 1a für drei der Spiegelsegmente 101107 ersichtlich ist, weisen die Spiegelsegmente 101107 auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung 100 entgegengesetzten Seite jeweils eine Verjüngung 101a, 102a, ... auf (in 1b nur für die Spiegelsegmente 101, 104 und 107 dargestellt), an welche sich jeweils ein verbreiterter Abschnitt 101b, 102b, ... zur Lagerung und/oder Aktuierung des Spiegelsegments 101, 102, ... anschließt. Während die Verjüngung 101a, 102a, ... jeweils in Form eines Stegs ausgebildet ist, bildet der jeweilige verbreiterte Abschnitt 101b, 102b, ... jeweils ein Dreibein, über welchen der Spiegel gehalten bzw. – im Falle eines aktiven bzw. aktuierbaren Spiegels – über Aktoren ggf. auch aktiv in eine gewünschte Position gebracht werden kann. Gemäß 1a befindet sich zwischen dem jeweiligen verbreiterten Abschnitt 101b, 102b, ... und der betreffenden Verjüngung 101a, 102a, ... jeweils eine Fügestelle 110, an welcher (z. B. durch Kleben, Löten oder eine andere geeignete Fügetechnik) der verbreiterte Abschnitt 101b, 102b, ... und die Verjüngung 101a, 102a, ... aneinander gefügt sind.
  • Die geometrischen Abmessungen der Verjüngung 101a, 102a, ... sind so gewählt, dass ein geeigneter Kompromiss zwischen der erzielten mechanischen Entkopplung einerseits und einer hinreichenden Steifigkeit der Anordnung andererseits erzielt wird. Hierzu weist der die Verjüngung im Ausführungsbeispiel ausbildende Steg vorzugsweise eine Länge auf, welche wenigstens seinem maximalen Durchmesser entspricht und insbesondere wenigstens das 1.2-fache, weiter insbesondere das 1.4-fache seines maximalen Durchmessers beträgt.
  • Lediglich beispielhaft kann die radiale Länge des durch den verbreiterten Abschnitt 101b, 102b, ... bzw. das Dreibein bereitgestellten Hebels wenigstens das Zweifache des maximalen Radius der Verjüngung 101a, 102a, ... bzw. des Steges betragen, damit eine hinreichende Hebelwirkung erzielt werden kann. Typische Abmessungen des durch den verbreiterten Abschnitt 101b, 102b, ... bzw. das Dreibein bereitgestellten Hebels können etwa bei einigen Zentimetern (cm) liegen, bei großen Spiegeln kann die Hebellänge vorzugsweise mehr als 5 cm betragen.
  • 2a–b dient zur Erläuterung eines weiteren Ausführungsbeispiels der optischen Anordnung gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung. Hierbei sind vergleichbare bzw. im Wesentlichen funktionsgleiche Komponenten relativ zu 1 mit analogen, um „100” erhöhten Bezugsziffern bezeichnet.
  • Die Anordnung von 2a–b unterscheidet sich von derjenigen aus 1a–b dadurch, dass der jeweilige, als Dreibein ausgestaltete verbreiterte Abschnitt 201b, 202b, ... mit der jeweils zugeordneten Verjüngung 201a, 202a, ... monolithisch ausgebildet ist, so dass insoweit anders als bei 1a–b keine Fügestelle am Übergang zwischen Abschnitt 201b, 202b, ... und Verjüngung 201a, 202a, ... vorhanden ist.
  • Bei dieser Ausgestaltung ist dann jedoch eine anderenorts vorhandene Fügestelle, und zwar konkret gemäß 2a die mit dem Bezugszeichen „250” bezeichnete Fügestelle von kritischer Bedeutung für die Einleitung mechanischer Spannungen bzw. Deformationen in das jeweilige Spiegelsegment bzw. die Spiegelanordnung, so dass die gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung erzielten Vorteile hier in zur Anordnung von 1a–b analoger Weise zur Geltung kommen.
  • Im Weiteren werden unter Bezugnahme auf 37 unterschiedliche Ausführungsformen gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung erläutert.
  • Gemäß 3a ist zunächst eine Spiegelsegmentanordnung 300 lediglich schematisch dargestellt, welche aus einem ersten Spiegelsegment 310 und einem zweiten Spiegelsegment 320 aufgebaut ist. Ohne dass die Erfindung hierauf beschränkt wäre, weisen die Spiegelsegmente 310, 320 jeweils eine im Wesentlichen halbkreisförmige Geometrie auf, wobei sie sich im montierten Zustand zu einer im Wesentlichen kreisförmigen Geometrie ergänzen.
  • Das erste Spiegelsegment 310 weist für eine statisch eindeutig bestimmte Lagerung drei entlang des Umfangs des Spiegelsegments 310 verteilte Lagerungselemente 311, 312 und 313 auf, von denen sich das Lagerungselement 313 auf der Rückseite bzw. der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite in den Bereich des zweiten Spiegelsegments 320 erstreckt. Das zweite Spiegelsegment 320 kann hierzu (ohne dass die Erfindung hierauf beschränkt wäre) eine entsprechende Ausnehmung zur Unterbringung des entsprechenden Lagerungselementes 313 aufweisen. Das betreffende Lagerungselement 313 ist ohne mechanischen Kontakt zu dem zweiten Spiegelsegment 320 angeordnet, so dass kein Eintrag von Deformationen in das zweite Spiegelsegment 320 über das Lagerungselement 313 erfolgen kann.
  • Umgekehrt erstreckt sich gemäß 3a auch eines der drei Lagerungselemente 321, 322 und 323 des zweiten Spiegelsegments 320, nämlich das Lagerungselement 323, in den Bereich des ersten Spiegelsegments 310, wobei diese Anordnung in zur vorstehend beschriebenen Ausführungsform analoger Weise erfolgt, so dass insbesondere kein mechanischer Kontakt zwischen dem Lagerungselement 323 und dem ersten Spiegelsegment 310 vorliegt.
  • 3b und 3c zeigen weitere Ausgestaltungen unter Realisierung des vorstehend anhand von 3a beschriebenen Prinzips, wobei gemäß 3a die Spiegelsegmentanordnung 325 aus drei jeweils als Randsegmente ausgebildeten Spiegelsegmenten 330, 340 und 350, und gemäß 3c eine Spiegelsegmentanordnung 355 aus vier jeweils als Randsegmente ausgebildeten Spiegelsegmenten 360, 370, 380 und 390 gezeigt sind.
  • 4a–b zeigen weitere Ausführungsformen unter Realisierung des bereits anhand von 3 beschriebenen Prinzips, wobei hier jeweils ein als Mittensegment angeordnetes Spiegelsegment 445 bzw. 495 zusätzlich zu vier als Randsegmente ausgebildeten Spiegelsegmenten 410440 bzw. 460490 vorgesehen ist. Die Ausführungsformen von 4a und 4b unterscheiden sich dadurch, dass gemäß 4b das als Mittensegment ausgebildete Spiegelsegment 495 entsprechende Aussparungen bzw. Hinterschneidungen für sich jeweils in den Bereich dieses Spiegelsegments 495 erstreckende Lagerungselemente der als jeweils als Randsegment ausgebildeten Spiegelsegmente 460490 aufweist, wohingegen in der Spiegelsegmentanordnung 400 gemäß 4a entsprechende Aussparungen bzw. Hinterschneidungen nicht in dem als Mittensegment ausgebildeten Spiegelsegment 445, sondern in den jeweils als Randsegment ausgebildeten Spiegelsegmenten 410440 angeordnet sind. Den beiden Ausführungsformen von 4a und 4b ist gemeinsam, dass die an dem als Mittensegment ausgeführten Spiegelsegment 445 bzw. 495 angebrachten Lagerungselemente sämtlich unterhalb benachbarter Spiegelsegmente angeordnet sind.
  • 5a–b zeigen lediglich beispielhaft weitere Ausführungsformen unter Realisierung des vorstehend anhand von 3 bzw. 4 beschriebenen Konzepts.
  • Dabei sind gemäß 5a sechs als Randsegmente angeordnete Spiegelsegmente 510, 515, 520, 525, 530 und 535 vorgesehen, wobei hier jedes dieser Randsegmente jeweils eine Anbindung bzw. ein Lagerungselement aufweist, welches außerhalb des von der optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung 500 definierten Bereichs angeordnet ist. Hingegen sind sämtliche übrigen Lagerungselemente in zu 3a bzw. 4b analoger Weise derart angeordnet, dass sie sich in Bereiche von jeweils benachbarten Spiegelsegmenten erstrecken.
  • 5b zeigt eine zu 5a weitgehend analoge Anordnung, wobei jedoch sämtliche der jeweils als Randsegment ausgebildeten Spiegelsegmente 555, 560, 565, 570, 575 und 580 ohne Platzierung von Lagerungsstellen außerhalb des durch die optisch wirksame Fläche der Spiegelsegmentanordnung 550 definierten Bereichs realisiert sind. Somit sind gemäß 5b sämtliche Lagerungselemente derart angeordnet, dass sie sich jeweils in bereits beschriebener Weise in dem Bereich benachbarter Spiegelsegmente erstrecken.
  • 6a–b zeigen ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Spiegelsegmentanordnung 600 mit sechs als Randsegmente ausgebildeten Spiegelsegmenten 610635 sowie einem als Mittensegment ausgebildeten Spiegelsegment 640.
  • Den Ausführungsformen von 3 bis 6 ist gemeinsam, dass die Lagerung bzw. Anbindung für jedes der als Randsegment ausgebildeten Spiegelsegmente mindestens in einem Abschnitt erfolgt, welcher unterhalb eines benachbarten Spiegelsegmentes liegt.
  • 7 zeigt eine schematische Darstellung des Aufbaus eines Projektionsobjektivs 700, in welchem ein Spiegel durch eine Spiegelsegmentanordnung aus separaten Spiegelsegmenten ersetzt ist. Der grundsätzliche Aufbau des Projektionsobjektivs (ohne die Segmentierung) ist aus US 7,538,856 B2 bekannt und gehört als solcher nicht zum beanspruchten Gegenstand der vorliegenden Anmeldung.
  • Im Projektionsobjektiv 700 trifft EUV-Strahlung von einer (nicht dargestellten) Beleuchtungseinrichtung auf eine abzubildende Strukturen aufweisende Maske (Retikel) R durch einen Schlitz S, welcher den zu beleuchtenden Bereich der Maske R begrenzt. Das Projektionsobjektiv 700 weist eine Mehrzahl von Spiegeln (im Ausführungsbeispiel sechs Spiegel) 710760 auf, wobei der bezogen auf den Strahlengang bildebenenseitig letzte Spiegel 760, wie in 1 lediglich schematisch dargestellt, als Spiegelsegmentanordnung aus separaten Spiegelsegmente 761, 762 und 763 ausgeführt ist.
  • Die segmentweise Ausführung des bildebenenseitig letzten (und zugleich größten) Spiegels ist insofern besonders vorteilhaft, als dieser Spiegel für die bildseitige numerische Apertur (NA) besonders relevant ist. Die Erfindung ist jedoch hierauf nicht beschränkt, so dass anstelle des bildebenenseitig letzten Spiegels auch ein anderer Spiegel des Projektionsobjektivs 700 in separate Segmente unterteilt in der vorstehend beschriebenen Weise ausgestaltet sein kann. In Weiteren Ausführungsformen können auch mehrere (d. h. zwei oder mehr) Spiegel in separate Segmente unterteilt sein. Selbstverständlich ist ferner die gemäß 7 gewählte Anzahl von drei Spiegelsegmenten lediglich beispielhaft, und es kann beispielsweise gemäß den zuvor anhand von 16 beschriebenen Ausführungsformen auch eine Segmentierung in mehr oder weniger Spiegelsegmente vorgesehen sein.
  • Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alternative Ausführungsformen, z. B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungsformen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente beschränkt ist.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • US 7538856 B2 [0004, 0056]

Claims (18)

  1. Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit • wenigstens einer Spiegelsegmentanordnung (300, 325, 355, 400, 450, 550, 600) aus einer Mehrzahl von separaten Spiegelsegmenten (310320; 330350; 360390, 410445, 470495, 510535, 610640); • wobei die Spiegelsegmente mit einer Tragstruktur der Projektionsbelichtungsanlage über Lagerungselemente (311313; 321323) verbunden sind; und • wobei wenigstens eines dieser Lagerungselemente (313), welches einem ersten der Spiegelsegmente (310) zugeordnet ist, sich auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite wenigstens teilweise in den Bereich eines zweiten, benachbart zum ersten Spiegelsegment angeordneten Spiegelsegments (320) der Spiegelsegmentanordnung erstreckt.
  2. Optische Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass dieses Lagerungselement (313) vollständig außerhalb des vom ersten Spiegelsegment (310) abgedeckten Bereichs angeordnet ist.
  3. Optische Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Spiegelsegment (320) wenigstens eine Aussparung aufweist, in welcher das betreffende Lagerungselement (313) wenigstens teilweise untergebracht ist.
  4. Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das betreffende Lagerungselement (313) ohne mechanischen Kontakt zu dem zweiten Spiegelsegment (320) angeordnet ist.
  5. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass jedem Spiegelsegment (310, 320) genau drei Lagerungselemente (311313; 321323) zugeordnet sind.
  6. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Spiegelsegment (310, 320) entlang des wenigstens einen Lagerungselementes aktuierbar ist.
  7. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass für wenigstens zwei Spiegelsegmente, weiter insbesondere für wenigstens drei Spiegelsegmente, und weiter insbesondere für sämtliche Spiegelsegmente der Spiegelsegmentanordnung jeweils wenigstens ein dem jeweiligen Spiegelsegment zugeordnetes Lagerungselement sich auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite wenigstens teilweise in den Bereich eines anderen Spiegelsegments der Spiegelsegmentanordnung erstreckt.
  8. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens zwei Lagerungselemente, welche demselben Spiegelsegment zugeordnet sind, sich auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite wenigstens teilweise in den Bereich jeweils eines dem ersten Spiegelsegment benachbarten Spiegelsegments der Spiegelsegmentanordnung erstrecken.
  9. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass drei Lagerungselemente, welche demselben Spiegelsegment zugeordnet sind, sich auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung entgegengesetzten Seite wenigstens teilweise in den Bereich jeweils eines dem ersten Spiegelsegment benachbarten Spiegelsegments der Spiegelsegmentanordnung erstrecken.
  10. Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit • wenigstens einer Spiegelsegmentanordnung (100, 200) aus einer Mehrzahl von separaten Spiegelsegmenten (101107, 201207); • wobei die Spiegelsegmente (101107, 201207) mit einer Tragstruktur der Projektionsbelichtungsanlage über Lagerungselemente verbunden sind; und • wobei wenigstens eines der Spiegelsegmente (101107, 201207) auf der zur optisch wirksamen Fläche der Spiegelsegmentanordnung (100, 200) entgegengesetzten Seite eine Verjüngung (101a107a, 201a207a) aufweist, an welche sich ein verbreiterter Abschnitt (101b107b, 201b207b) zur Lagerung und/oder Aktuierung des Spiegelsegmentes (101107, 201207) anschließt.
  11. Optische Anordnung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass der verbreiterte Abschnitt (101b107b, 201b207b) ein Dreibein ausbildet.
  12. Optische Anordnung nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Verjüngung (101a107a, 201a207a) in Form eines Stegs ausgebildet ist.
  13. Optische Anordnung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass dieser Steg eine Länge aufweist, welche wenigstens dem maximalen Durchmesser des Stegs, insbesondere wenigstens dem 1.2-fachen des maximalen Durchmessers, und weiter insbesondere dem 1.4-fachen des maximalen Durchmessers des Stegs entspricht.
  14. Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Verjüngung (201a207a) mit dem verbreiterten Abschnitt (201b207b) monolithisch ausgebildet ist.
  15. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelsegmentanordnung (100, 200) wenigstens drei Spiegelsegmente, insbesondere wenigstens vier Spiegelsegmente, aufweist.
  16. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelsegmente derselben Spiegelsegmentanordnung jeweils miteinander eine lediglich durch gegebenenfalls vorhandene Übergangsbereiche zwischen benachbarten Spiegelsegmenten unterbrochene, zusammenhängende reflektierende Fläche ausbilden.
  17. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens zwei Spiegelsegmente der Spiegelsegmentanordnung relativ zueinander beweglich sind.
  18. Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung und einem Projektionsobjektiv, wobei Beleuchtungseinrichtung und/oder Projektionsobjektiv eine optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche aufweisen.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8848167B2 (en) 2010-08-19 2014-09-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element for UV or EUV lithography with coatings having optimized stress and thickness

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012218769B4 (de) * 2012-10-15 2018-09-06 Trumpf Laser Gmbh Optikanordnung
GB2513927A (en) * 2013-05-10 2014-11-12 Zeiss Carl Smt Gmbh Optical element arrangement with an optical element split into optical sub-elements
DE102014220203A1 (de) 2013-11-21 2015-05-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102014206589A1 (de) 2014-04-04 2015-10-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Justieren eines Spiegels einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102014210609A1 (de) 2014-06-04 2015-12-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2017125370A1 (en) * 2016-01-21 2017-07-27 Philips Lighting Holding B.V. A collimator and collimator arrangement
NL2022297B1 (en) * 2018-12-24 2020-07-23 Schreder Sa Luminaire system with movable modules

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10205425A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Zeiss Carl Smt Ag Facettenspiegel mit mehreren Spiegelfacetten
DE10219514A1 (de) * 2002-04-30 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie
DE19534165B4 (de) * 1994-11-11 2007-05-03 Carl Zeiss Ag Verfahren zur Bestrahlung einer Oberfläche eines Werkstücks und Einrichtung zur Bestrahlung einer Oberfläche eines Werkstücks
US7538856B2 (en) 2007-07-27 2009-05-26 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system and exposure apparatus including the same
EP2309296A1 (de) * 2009-09-11 2011-04-13 GLP German Light Products GmbH Trägerstruktur für eine mehrzahl von linsen, linse, linsensystem und optisches system

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7090362B2 (en) 2001-11-09 2006-08-15 Carl Zeiss Smt Ag Facet mirror having a number of mirror facets
US6876484B2 (en) * 2003-03-24 2005-04-05 Lucent Technologies Inc. Deformable segmented MEMS mirror
JP4587931B2 (ja) * 2005-10-18 2010-11-24 株式会社エンプラス 照明装置及び照明ユニット
DE102011079933A1 (de) * 2010-08-19 2012-02-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Element für die UV- oder EUV-Lithographie
DE102010043498A1 (de) 2010-11-05 2012-05-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives
WO2013004278A1 (en) * 2011-07-01 2013-01-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical imaging arrangement with individually actively supported components
DE102012209309A1 (de) * 2012-06-01 2013-12-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Lithographievorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Spiegelanordnung
GB2513927A (en) * 2013-05-10 2014-11-12 Zeiss Carl Smt Gmbh Optical element arrangement with an optical element split into optical sub-elements

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19534165B4 (de) * 1994-11-11 2007-05-03 Carl Zeiss Ag Verfahren zur Bestrahlung einer Oberfläche eines Werkstücks und Einrichtung zur Bestrahlung einer Oberfläche eines Werkstücks
DE10205425A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Zeiss Carl Smt Ag Facettenspiegel mit mehreren Spiegelfacetten
DE10219514A1 (de) * 2002-04-30 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie
US7538856B2 (en) 2007-07-27 2009-05-26 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system and exposure apparatus including the same
EP2309296A1 (de) * 2009-09-11 2011-04-13 GLP German Light Products GmbH Trägerstruktur für eine mehrzahl von linsen, linse, linsensystem und optisches system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8848167B2 (en) 2010-08-19 2014-09-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element for UV or EUV lithography with coatings having optimized stress and thickness

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