JP6098847B2 - 露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
前記第2面上の第1方向に関する前記第2面側の開口数は、前記第2面上において前記第1方向と交差する第2方向に関する前記第2面側の開口数の1.1倍よりも大きいことを特徴とする結像光学系を提供する。
前記第2面上の第1方向に関する前記第2面側の開口数は、前記第2面上において前記第1方向と交差する第2方向に関する前記第2面側の開口数の1.5倍よりも大きいことを特徴とする結像光学系を提供する。
前記第2面側の開口数を規定する開口絞りを備え、
前記開口絞りは楕円形状の開口部を有し、該楕円形状の開口部の長径方向の寸法は短径方向の寸法の1.1倍よりも大きいことを特徴とする結像光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
図3は、第1実施例にかかる結像光学系のYZ平面に沿った構成を概略的に示す図である。図4は、第1実施例にかかる結像光学系のXZ平面に沿った構成を概略的に示す図である。次の表(1)に、第1実施例にかかる結像光学系の諸元の値を掲げる。表(1)の主要諸元の欄において、λは露光光の波長を、βは結像倍率を、NAxはX方向に関する像側(ウェハ側)開口数を、NAyはY方向に関する像側(ウェハ側)開口数を、Y0はウェハ7上でのイメージサークルIFの半径(最大像高)を、LXは有効結像領域ERのX方向に沿った寸法を、LYは有効結像領域ERのY方向に沿った寸法(円弧状の有効結像領域ERの幅寸法)を、Dxは開口絞りASの楕円形状の開口部の長径方向であるX方向の寸法を、Dyは開口絞りASの楕円形状の開口部の短径方向であるY方向の寸法をそれぞれ表している。
+C6・h6+C8・h8+C10・h10+C12・h12+C14・h14+C16・h16
+C18・h18+C20・h20 (a)
(主要諸元)
λ=13.5nm
β=1/4
NAx=0.4
NAy=0.2
Y0=37mm
LX=26mm
LY=2mm
Dx=84.0838mm
Dy=41.6781mm
(光線追跡設定値)
DIM MM
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NAmax>sinα (b)
図8は、第2実施例にかかる結像光学系のYZ平面に沿った構成を概略的に示す図である。図9は、第2実施例にかかる結像光学系のXZ平面に沿った構成を概略的に示す図である。次の表(2)に、第2実施例にかかる結像光学系の諸元の値を掲げる。
(主要諸元)
λ=13.5nm
β=1/4
NAx=0.35
NAy=0.25
Y0=41.5mm
LX=26mm
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Dx=70.5689mm
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(光線追跡設定値)
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2a,2b フライアイ光学系
3 斜入射ミラー
4 マスク
5 マスクステージ
6 結像光学系
7 ウェハ
8 ウェハステージ
IL 照明光学系
G1,G2 反射光学系
M1〜M6 反射鏡
Claims (15)
- 光源からの光により第1面に設置された所定のパターンを照明するための照明系と、
複数の反射鏡と、前記第1面側の開口数の大きさを第1方向に対して前記第1方向と直交する第2方向が小さくなるように規定する開口絞りとを有し前記所定のパターンを第2面に設置された感光性基板に投影する投影光学系とを備え、
前記反射鏡は、前記第2方向に沿った軸と前記投影光学系の光軸とを含む第3面において前記反射鏡に入射する光と前記反射鏡で反射される光とが重ならないように前記入射する光を反射し、
前記照明系は、
複数の反射要素を有する第1フライアイ光学系と、
前記第1フライアイ光学系からの光を反射する複数の反射面を有し、前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置に配置された第2フライアイ光学系とを備え、
前記第2フライアイ光学系の前記複数の反射面が配置される領域の前記第1方向に対応する第3方向の大きさは、前記第2方向に対応する第4方向の大きさよりも大きい、露光装置。 - 前記開口絞りは、前記第1方向に関する前記第2面側の開口数を規定すると共に、前記第2方向に関する前記第2面側の開口数を規定する、請求項1に記載の露光装置。
- 前記第2方向における前記投影光学系の前記第1面側開口数は、前記照明系からの照明光が照射される領域内の一点に達する前記照明光と前記投影光学系の光軸と平行な軸とのなす角度の正弦よりも大きい、請求項1または2に記載の露光装置。
- 前記第1面に形成される照明領域の各点に対応する主光線と前記第1面の垂線とのなす角の平均値をαとし、前記第1面における最大開口数をNAmaxとすると、
NAmax>sinα
の条件を満たす、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置。 - 走査方向に沿った前記投影光学系と前記感光性基板との相対的な位置を変更しつつ露光を行い、
前記第4方向は前記走査方向に対応している、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記第2面上における結像領域は円弧状である、請求項5に記載の露光装置。
- 前記投影光学系は、前記円弧状の結像領域の短辺方向に沿った軸と前記投影光学系の光軸とを含む面に沿って光束を折り曲げるように配置された複数の反射鏡を備える、請求項6に記載の露光装置。
- 前記第2面上における結像領域は矩形状である、請求項5に記載の露光装置。
- 前記投影光学系は、前記矩形状の結像領域の短辺方向に沿った軸と前記投影光学系の光軸とを含む面に沿って光束を折り曲げるように配置された複数の反射鏡を備える、請求項8に記載の露光装置。
- 前記結像領域の長手方向は、前記走査方向と直交する、請求項6乃至9のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第2フライアイ光学系の前記複数の反射面が配列される領域の形状は、楕円形状である、請求項1乃至10のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記投影光学系は、前記第2面側にテレセントリックな光学系である、請求項1乃至11のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記投影光学系の入射瞳は、前記第1面を挟んで前記投影光学系の反対側に位置している、請求項1乃至12のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記光源から供給される光は波長が5nm乃至40nmのEUV光であり、
前記投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板に投影露光する、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の露光装置。 - 請求項1乃至14のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含む、デバイス製造方法。
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