JP2011150227A - 露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 例えばEUV光を用いる露光装置であって、高いスループットを達成することのできる露光装置。
【解決手段】 本発明の露光装置は、光源(1)より射出された光が集光する集光点(1a)からの光を用いて、第1面に設置される反射型のマスク(M)を照明する照明光学系と、マスクのパターンを第2面に設置される感光性基板(W)に投影する投影光学系(PO)とを備えている。集光点から投影光学系の光軸(AX)へ導いた垂線の長さをDhとし、第1面と第2面との光軸に沿った距離をDvとするとき、0.12<Dh/Dv<1.34の条件を照明光学系と投影光学系とが満足する。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明の露光装置は、光源(1)より射出された光が集光する集光点(1a)からの光を用いて、第1面に設置される反射型のマスク(M)を照明する照明光学系と、マスクのパターンを第2面に設置される感光性基板(W)に投影する投影光学系(PO)とを備えている。集光点から投影光学系の光軸(AX)へ導いた垂線の長さをDhとし、第1面と第2面との光軸に沿った距離をDvとするとき、0.12<Dh/Dv<1.34の条件を照明光学系と投影光学系とが満足する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、リソグラフィ技術を利用して、半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のデバイスを製造する際に使用される露光装置、さらには、その露光装置を用いて露光する工程を含むデバイス製造方法に関するものである。
従来、半導体素子などの各種デバイスを製造するための露光工程において、マスク(レチクル)上に形成された回路パターンを、投影光学系を介して感光性基板(たとえばウェハ)上に投影露光するために、一括露光型の投影露光装置(ステッパー)または走査露光型の投影露光装置(スキャニングステッパー)などの露光装置が使用されている。感光性基板にはレジストが塗布されており、投影光学系を介した投影露光によりレジストが感光し、マスクパターンに対応したレジストパターンが得られる。露光装置の解像力は、露光光の波長と投影光学系の開口数とに依存する。したがって、露光装置の解像力を向上させるには、露光光の波長を短くすることや、投影光学系の開口数を大きくすること等が必要になる。
一般に、投影光学系の開口数を所定値以上に大きくすることは光学設計の観点から困難であるため、露光光の短波長化が必要になる。そこで、半導体パターニングの次世代の露光方法(露光装置)として、EUVL(Extreme UltraViolet Lithography:極紫外リソグラフィ)の手法が注目されている。このEUVLの手法を用いたEUV露光装置では、5〜40nm程度の波長を有するEUV(Extreme UltraViolet:極紫外線)光を用いる。露光光としてEUV光を用いる場合、使用可能な光透過性の光学材料が存在しなくなる。このため、EUV露光装置では、照明光学系および投影光学系として反射光学系を用いるとともに、反射型のマスクを用いることになる(例えば、特許文献1を参照)。
EUV露光装置に限らず、一般の露光装置において、光学面での十分に高い透過率または反射率を確保し、ひいては高いスループットを達成することが望まれている。特に、EUV露光装置では、光学系に用いられる各ミラーの反射膜の反射率が70%程度と比較的小さいため、露光装置に使用されるミラーの枚数をできるだけ少なく抑えて露光にかかるスループットの低下を回避することは重要である。しかしながら、単純にミラー枚数を削減すると、パターンを照明する照明光に要求される高度な収差補正を達成することが困難となってしまう。
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、例えばEUV光を用いる露光装置であって、高いスループットを達成することのできる露光装置を提供することを目的とする。
前記課題を解決するために、本発明の第1の態様に従えば、光源より射出された光が集光する集光点からの光を用いて、第1面に設置される反射型のマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを第2面に設置される感光性基板に投影する投影光学系とを備えた露光装置において、
前記集光点から前記投影光学系の光軸へ導いた垂線の長さをDhとし、前記第1面と前記第2面との前記光軸に沿った距離をDvとするとき、
0.12<Dh/Dv<1.34
の条件を前記照明光学系と前記投影光学系とが満足することを特徴とする露光装置を提供する。
前記集光点から前記投影光学系の光軸へ導いた垂線の長さをDhとし、前記第1面と前記第2面との前記光軸に沿った距離をDvとするとき、
0.12<Dh/Dv<1.34
の条件を前記照明光学系と前記投影光学系とが満足することを特徴とする露光装置を提供する。
本発明の第2の態様に従えば、第1形態の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
本発明の露光装置では、照明光学系において高い反射率を確保し、ひいては高いスループットを達成することができる。
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図1は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図2は、図1の光源の内部構成を概略的に示す図である。図1において、感光性基板であるウェハWの表面(露光面)の法線方向に沿ってZ軸を、ウェハWの表面において図1の紙面に平行な方向にY軸を、ウェハWの表面において図1の紙面に垂直な方向にX軸をそれぞれ設定している。
図1を参照すると、本実施形態の露光装置には、光源1から露光光(照明光)が供給される。光源1として、たとえばレーザプラズマ光源を用いることができる。レーザプラズマ光源1は、図2に示すように、レーザ光源11、集光レンズ12、ノズル14、楕円反射鏡15、およびダクト16を備えている。光源1では、たとえばキセノン(Xe)からなる高圧ガスがノズル14より供給され、ノズル14から噴射されたガスが気体ターゲット13を形成する。そして、レーザ光源11から発した光(非EUV光)が、集光レンズ12を介して、気体ターゲット13上に集光する。
気体ターゲット13は、集光されたレーザ光によりエネルギーを得てプラズマ化し、EUV光を発する。気体ターゲット13は、楕円反射鏡15の第1焦点に位置決めされている。したがって、レーザプラズマ光源1から放射されたEUV光は、楕円反射鏡15の第2焦点1aに集光する。すなわち、第2焦点1aは、光源1からの光が集光する集光点を構成している。一方、発光を終えたガスは、ダクト16を介して吸引されて外部へ導かれる。光源1として、放電プラズマ光源や他のX線源を用いることもできる。
光源1から射出されて集光点1aを形成した光は、必要に応じて配置された波長選択フィルタ(不図示)を介して、一対のフライアイ光学系2aおよび2bからなるオプティカルインテグレータ2に入射する。波長選択フィルタは、光源1が供給する光から、所定波長(例えば13.5nm)のEUV光だけを選択的に透過させ、他の波長光の透過を遮る特性を有する。波長選択フィルタを経たEUV光は、オプティカルインテグレータ2および斜入射ミラー3を介して、転写すべきパターンが形成された反射型のマスク(レチクル)Mを照明する。
第1フライアイ光学系2aは、並列配置された複数の第1反射光学要素を有する。第2フライアイ光学系2bは、複数の第1反射光学要素に対応するように並列配置された複数の第2反射光学要素を有する。具体的に、フライアイ光学系2aは例えば円弧状の外形を有する多数の凹面鏡要素を縦横に且つ稠密に配列することにより構成され、フライアイ光学系2bは例えば矩形状の外形を有する多数の凹面鏡要素を縦横に且つ稠密に配列することにより構成されている。フライアイ光学系2a,2bの詳細な構成および作用については、たとえば米国特許出願公開第2002/0093636A1号明細書を参照して援用することができる。
オプティカルインテグレータ2に入射した光は、第2フライアイ光学系2bの反射面の近傍に、所定の形状を有する実質的な面光源を形成する。この実質的な面光源は、一対のフライアイ光学系2aおよび2bを含む照明光学系の射出瞳位置に形成される。照明光学系の射出瞳位置(すなわち第2フライアイ光学系2bの反射面の近傍位置)は、逆瞳タイプの投影光学系POの入射瞳の位置と一致している。すなわち、投影光学系POは、マスクMが配置された物体面を挟んで投影光学系POの反対側に所定距離だけ離れた位置に入射瞳を有する逆瞳タイプの投影光学系である。
実質的な面光源からの光、すなわち第2フライアイ光学系2bから射出された光は、斜入射ミラー3により反射された後、マスクM上に円弧状の照明領域を形成する。このように、オプティカルインテグレータ2および斜入射ミラー3は、光源1より射出された光が集光する集光点1aからの光を用いて、投影光学系POの物体面に設置される反射型のマスクMを照明する照明光学系を構成している。一例として、照明光学系は、ケーラー照明により反射型のマスクMを照明する。また、第2フライアイ光学系2bとマスク4との間の光路中には、パワーを有する反射鏡が配置されていない。反射鏡のパワーとは、当該反射鏡の焦点距離の逆数である。なお、第2フライアイ光学系2bとマスク4との間の光路中にパワーを有する反射鏡を配置する構成も可能である。
マスクステージMSは、マスクMをマスクMのパターン面がXY平面に沿って延びるように保持し、Y方向に沿って移動できるように構成される。マスクステージMSの移動は、周知の構成を有するレーザ干渉計やエンコーダ(不図示)により計測される。照明されたマスクMのパターンからの光は、反射光学系として構成された投影光学系POを介して、感光性基板であるウェハW上にマスクパターンの像を形成する。すなわち、投影光学系POの像面に設置されたウェハW上には、後述するように、たとえばY軸に関して対称な円弧状の静止露光領域(実効露光領域)が形成される。
投影光学系POは、マスクMのパターンの中間像を形成する第1反射結像光学系と、マスクパターンの中間像の像(マスクMのパターンの二次像)をウェハW上に形成する第2反射結像光学系とにより構成されている。第1反射結像光学系は例えば4つの反射鏡(M1,M2,M3,M4)により構成され、第2反射結像光学系は2つの反射鏡(M5,M6)により構成されている。また、投影光学系POはウェハ側(像側)にテレセントリックな光学系である。この構成により、投影光学系POの焦点深度内でウェハWに凹凸があっても良好な結像が可能になっている。
以下、説明を単純化するために、投影光学系POを構成するすべての反射鏡がZ方向に延びる1本の直線状の光軸AXに沿って配置される共軸光学系とする。ここで、光軸AXとは、投影光学系POを構成する各ミラーの曲率中心を結んだ直線である。ウェハWは、その露光面がXY平面に沿って延びるように、X方向およびY方向に沿って二次元的に移動可能なウェハステージWSによって保持されている。ウェハステージWSの移動は、周知の構成を有するレーザ干渉計やエンコーダ(不図示)により計測される。
こうして、マスクステージMSおよびウェハステージWSをY方向に沿って移動させながら、すなわち投影光学系POに対してマスクMおよびウェハWをY方向に沿って相対移動させながら走査露光(スキャン露光)を行うことにより、ウェハWの1つの矩形状のショット領域にマスクMのパターンが転写される。このとき、投影光学系POの投影倍率(転写倍率)が例えば1/4である場合、ウェハステージWSの移動速度をマスクステージMSの移動速度の1/4に設定して同期走査を行う。また、ウェハステージWSをX方向およびY方向に沿って二次元的にステップ移動させながら走査露光を繰り返すことにより、ウェハWの各ショット領域にマスクMのパターンが逐次転写される。
図3は、本実施形態における1回の走査露光を概略的に説明する図である。図3を参照すると、本実施形態の露光装置では、投影光学系POの円弧状の有効結像領域および有効視野に対応するように、Y軸に関して対称な円弧状の静止露光領域ERがウェハWの表面上に形成され、同じくY軸に関して対称な円弧状の照明領域がマスクMのパターン面上に形成される。この円弧状の露光領域ERは、1回の走査露光(スキャン露光)によりウェハWの矩形状の1つのショット領域SRにマスクMのパターンを転写する際に、図中実線で示す走査開始位置から図中破線で示す走査終了位置まで移動する。
本実施形態では、照明光学系と投影光学系POとが、次の条件式(1)を満足している。条件式(1)において、Dhは光源1より射出された光が集光する集光点1aから投影光学系POの光軸AXへ導いた垂線の長さ(すなわち集光点1aから投影光学系POの光軸AXまでの距離)であり、DvはマスクMのパターン面が設置される投影光学系POの物体面(第1面)とウェハWの転写面が設置される投影光学系POの像面(第2面)との光軸AXに沿った距離(すなわち投影光学系POの全長)である(図1を参照)。
0.12<Dh/Dv<1.34 (1)
0.12<Dh/Dv<1.34 (1)
条件式(1)の下限値を下回ると、集光点から照明光学系を介してマスクMに入射する光と、マスクMを反射して投影光学系PO(またはマスクステージMS)に入射する光との光線分離が困難になる。一方、条件式(1)の上限値を上回ると、光源から照明光学系を介してマスクMに入射する光線の角度が大きくなるため、マスク反射率が低下してしまう。
換言すると、本実施形態の露光装置では、照明光学系と投影光学系POとが条件式(1)を満足しているので、光源1より射出された光が損なわれることがないため、高いスループットを達成することができる。
なお、本実施形態の効果をさらに良好に発揮するために、集光点1aとマスクMとの間に一対のフライアイ光学系2aおよび2bを備えた露光装置を考える。このとき、次の条件式(2)を満足している。
0.26<Dh/Dv<1.04 (2)
0.26<Dh/Dv<1.04 (2)
条件式(2)の下限値を下回ると、フライアイ光学系2aへ入射する光とフライアイ光学系2aを反射する光との光線分離、および、フライアイ光学系2aを反射しフライアイ光学系2bに入射する光とフライアイ光学系2bを反射する光との光線分離が困難になる。一方、条件式(2)の上限値を上回ると、フライアイ光学系2aおよび2bを構成する各ミラー要素(例えば凹面鏡要素)の反射膜に入射する光の入射角度が大きくなり過ぎて、フライアイ光学系2aおよび2bにおける光の反射率が低下してしまう。
換言すると、本実施形態の露光装置では、照明光学系と投影光学系POとが条件式を満足しているので、照明光学系において高い反射率を確保し、ひいては高いスループットを達成することができる。
また、本実施形態の効果をさらに良好に発揮するために、一対のフライアイ光学系2aおよび2bとマスクMとの間に斜入射ミラー3を備え、マスクMへの光線の入射角度を5〜7°とした露光装置を考える。このとき、次の条件式(3)を満足している。
0.33<Dh/Dv<1.00 (3)
0.33<Dh/Dv<1.00 (3)
条件式(3)の下限値を下回ると、斜入射ミラー3を介してマスクMに入射する光とマスクMを反射して投影光学系POに入射する光との分離が難しくなる。一方、条件式(3)の上限値を上回ると、斜入射ミラー3への光の入射角を所要の大きさに設定した場合、斜入射ミラー3の反射率が低下する。
換言すると、本実施形態の露光装置では、照明光学系と投影光学系POとが条件式を満足しているので、照明光学系、マスクMにおいて高い反射率を確保するため、高いスループットを達成することができる。
なお、条件式(2),(3)にて設定した数値範囲は、下記事由により広く設定することができる。
例えば、数値範囲が上限値を超えて大きくなり過ぎると、露光装置のフットプリント(据え付け面積)が広くなり過ぎることが考えられる。しかし、露光装置のフットプリントが広く確保できる場合、上限値を超えて実施することが可能である。すなわち、露光装置のフットプリントを広く確保することができれば、上限値を超えたものについても本発明の権利範囲は適用される。
さらに、数値範囲が上限値を超えて大きくなり過ぎると、反射型マスクを利用する場合には、マスク上の凹凸によって光がけられてしまうために所望の結像パターンを得ることが困難となる。しかし、マスク上の凹凸のないマスクを用いることができる場合、上限値を超えて実施することが可能である。すなわち、マスク上の凹凸のないマスクを用いることができれば、上限値を超えたものについても本発明の権利範囲は適用される。
一方、数値範囲が下限値を超えて小さくなり過ぎると、斜入射ミラー3の有効径及び有効領域の増大が生じることが考えられる。しかし、斜入射ミラー3の有効径及び有効領域が増大できる場合、下限値を超えて実施することが可能である。すなわち、斜入射ミラー3の有効径及び有効領域が増大できれば、下限値を超えたものについても本発明の権利範囲は適用される。なお、斜入射ミラー3の有効径及び有効領域が増大できる場合とは、例えば、有効径及び有効領域の大きな斜入射ミラー3を設置しても、露光光ELを遮ることがないよう設計する場合や、斜入射ミラー3を低コストで作製できる場合、また、斜入射ミラー3を軽量化して作製できる場合のことである。
なお、上述の実施形態では、投影光学系POが反射光学系であって、かつ、すべての反射鏡が1本の直線状の光軸AXに沿って配置される共軸光学系である。しかしながら、投影光学系の具体的な構成については様々な形態が可能である。投影光学系が直線状に延びる1本の光軸を有しない偏心光学系の場合、条件式(1)のパラメータであるDhおよびDvの決定に際して、光軸AXとして投影光学系POから感光性基板へ光を形成する最後のミラー(図1では、ミラーM6)の曲率中心を通り、Z軸に平行な直線とする。
また、上述の実施形態では、逆瞳タイプの投影光学系を例にとって本発明を説明しているが、これに限定されることなく、正瞳タイプの投影光学系に対しても同様に本発明を適用することができる。なお、正瞳タイプの投影光学系とは、物体面を挟んで光学系側に入射瞳を有する投影光学系である。
また、上述の実施形態では、13.5nmの波長を有するEUV光を例示的に用いているが、これに限定されることなく、例えば5〜40nm程度の波長を有するEUV光や、他の適当な波長の光を使用する露光装置に対しても同様に本発明を適用することができる。
上述の実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行っても良い。
次に、上述の実施形態にかかる露光装置を用いたデバイス製造方法について説明する。図4は、半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図4に示すように、半導体デバイスの製造工程では、半導体デバイスの基板となるウェハWに金属膜を蒸着し(ステップS40)、この蒸着した金属膜上に感光性材料であるフォトレジストを塗布する(ステップS42)。つづいて、上述の実施形態の露光装置を用い、マスク(レチクル)Mに形成されたパターンをウェハW上の各ショット領域に転写し(ステップS44:露光工程)、この転写が終了したウェハWの現像、つまりパターンが転写されたフォトレジストの現像を行う(ステップS46:現像工程)。その後、ステップS46によってウェハWの表面に生成されたレジストパターンをマスクとし、ウェハWの表面に対してエッチング等の加工を行う(ステップS48:加工工程)。
ここで、レジストパターンとは、上述の実施形態の露光装置によって転写されたパターンに対応する形状の凹凸が生成されたフォトレジスト層であって、その凹部がフォトレジスト層を貫通しているものである。ステップS48では、このレジストパターンを介してウェハWの表面の加工を行う。ステップS48で行われる加工には、例えばウェハWの表面のエッチングまたは金属膜等の成膜の少なくとも一方が含まれる。なお、ステップS44では、上述の実施形態の露光装置は、フォトレジストが塗布されたウェハWを感光性基板としてパターンの転写を行う。
なお、上述の実施形態では、EUV光を供給するための光源としてレーザプラズマX線源を用いているが、これに限定されることなく、EUV光としてたとえばシンクロトロン放射(SOR)光を用いることもできる。
また、上述の実施形態では、EUV光を供給するための光源を有する露光装置に本発明を適用しているが、これに限定されることなく、EUV光以外の他の波長光を供給する光源を有する露光装置に対しても本発明を適用することができる。
また、上述の実施形態では、マスクMの代わりに、所定の電子データに基づいて所定パターンを動的に形成する可変パターン形成装置を用いることができる。このような可変パターン形成装置としては、たとえば所定の電子データに基づいて駆動される複数の反射素子を含むDMD(デジタル・マイクロミラー・デバイス)を用いることができる。DMDを用いた露光装置は、例えば米国特許公開第2007/0296936号公報や第2009/0122381号公報に開示されている。
また、上述の実施形態では、露光装置に対して本発明を適用している。しかしながら、これに限定されることなく、光源より射出された光が集光する集光点からの光を用いて第1面に設置される反射型のマスクを照明する照明光学系と、マスクのパターンを第2面に設置される感光性基板に投影する投影光学系とを備えた露光装置に対しても同様に本発明を適用することができる。
1 光源
2 オプティカルインテグレータ
2a,2b フライアイ光学系
3 斜入射ミラー
11 レーザ光源
13 気体ターゲット
14 ノズル
15 楕円反射鏡
M マスク
MS マスクステージ
PO 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
ER 静止露光領域
2 オプティカルインテグレータ
2a,2b フライアイ光学系
3 斜入射ミラー
11 レーザ光源
13 気体ターゲット
14 ノズル
15 楕円反射鏡
M マスク
MS マスクステージ
PO 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
ER 静止露光領域
Claims (13)
- 光源より射出された光が集光する集光点からの光を用いて、第1面に設置される反射型のマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを第2面に設置される感光性基板に投影する投影光学系とを備えた露光装置において、
前記集光点から前記投影光学系の光軸へ導いた垂線の長さをDhとし、前記第1面と前記第2面との前記光軸に沿った距離をDvとするとき、
0.12<Dh/Dv<1.34
の条件を前記照明光学系と前記投影光学系とが満足することを特徴とする露光装置。 - 前記照明光学系は、前記集光点と前記第1面との間の光路中に配置され、並列配置された複数の第1反射光学要素を有する第1フライアイ光学系と前記複数の第1反射光学要素に対応するように並列配置された複数の第2反射光学要素を有する第2フライアイ光学系とをさらに有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 0.12<Dh/Dv<1.34の前記条件に代えて、
0.26<Dh/Dv<1.04
の条件を前記照明光学系と前記投影光学系とが満足することを特徴とする請求項2に記載の露光装置。 - 前記照明光学系は、前記第2フライアイ光学系と前記第1面との間の光路中に配置され、前記反射型のマスクを照明する斜入射ミラーをさらに有することを特徴とする請求項2または3に記載の露光装置。
- 0.12<Dh/Dv<1.34または0.26<Dh/Dv<1.04の前記条件に代えて、
0.33<Dh/Dv<1.00
の条件を前記照明光学系と前記投影光学系とが満足することを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記投影光学系の入射瞳は、前記第1面を挟んで前記投影光学系の反対側、または前記第1面で折り返されて前記照明光学系の内部に位置していることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記照明光学系の射出瞳と前記投影光学系の入射瞳とが一致することを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記照明光学系の射出瞳に前記第2フライアイ光学系の反射面を配置することを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 前記第2フライアイ光学系と前記第1面との間に、パワーを有する反射鏡がないことを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 前記投影光学系は反射光学系であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記投影光学系は、前記感光性基板側にテレセントリックな光学系であることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記光源から供給される光は波長が5nm乃至40nmのEUV光であり、
前記投影光学系に対して前記マスクおよび前記感光性基板を相対移動させて、前記マスクのパターンを前記感光性基板に投影露光することを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の露光装置。 - 請求項1乃至12のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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2010
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KR20140123556A (ko) * | 2012-02-06 | 2014-10-22 | 가부시키가이샤 니콘 | 반사 결상 광학계, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 |
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