JP2010500769A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 投影対物器械の物体面に配置された物体視野から該投影対物器械の像面に配置された像視野上にパターンを結像するための反射屈折投影対物器械であって、
   物体面からのパターンを第１の中間像内に結像させるように構成され、第１の瞳表面を有する第１の対物器械部と、
   前記第１の中間像を第２の中間像内に結像させるように構成され、前記第１の瞳表面と光学的に共役な第２の瞳表面を有する第２の対物器械部と、
   前記第２の中間像を像面内に結像させるように構成され、前記第１及び第２の瞳表面と光学的に共役な第３の瞳表面を有する第３の対物器械部と、
   前記第１、第２、及び第３の瞳表面のうちの１つに又はその近くに位置決めされた反射瞳ミラー表面を有する瞳ミラーと、
   前記瞳ミラーに作動的に接続され、前記瞳ミラー表面の形状を変更するように構成された瞳ミラーマニピュレータと、
   を含むことを特徴とする投影対物器械。
2. 少なくとも１つの中間像が、前記物体面と前記瞳ミラーの間に形成され、
   前記瞳ミラーは、前記第２の瞳表面に又はその近くで前記第２の対物器械部に配置され、
   前記第２の対物器械部は、純反射性である
   ことを特徴とする請求項１に記載の投影対物器械。
3. 放射光が反対方向に少なくとも２回通過する二重通過領域が、幾何学的に第１の偏向ミラーと前記瞳ミラーの間に形成されるように、放射光を前記物体面から該瞳ミラーに向けて偏向するか又は放射光を該瞳ミラーから前記像面に向けて偏向するように配置された第１の偏向ミラーを更に含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影対物器械。
4. 前記物体面と前記像面が平行になるように前記第１の偏向ミラーに対して９０°に配置された第２の偏向ミラーを更に含み、
   前記第１の偏向ミラーは、前記瞳ミラーによって反射された放射光を前記第２の偏向ミラーに向けて偏向するように該瞳ミラーの光学的下流に配置され、該第２の偏向ミラーは、該第１の偏向ミラーからの放射光を前記像面に向けて偏向するように配置される
   ことを特徴とする請求項３に記載の投影対物器械。
5. 投影対物器械の全ての光学要素が、投影対物器械の全ての光学要素に共通の真っ直ぐな光軸に沿って整列していることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の投影対物器械。
6. 前記第１の対物器械部は、倍率比｜β｜＞１を有する拡大結像システムとして設計されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の投影対物器械。
7. 必要に応じて開口の直径を調節するように構成された開口絞りを有し、該開口絞りの該開口の最大直径は、前記瞳ミラーの直径Ｄ_PMの少なくとも２倍大きいことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の投影対物器械。
8. 前記瞳ミラーマニピュレータと作動的に接続した前記瞳ミラーに追加の少なくとも１つの更に別のミラーを含み、
   この更に別のミラーは、該更に別のミラーの反射面の形状を変更するように構成された更に別のミラーマニピュレータに作動的に接続されている、
   ことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の投影対物器械。
9. 放射光が負の群を通じて反対方向に少なくとも２回通過するような二重通過領域において前記瞳ミラーの反射側の前に配置された少なくとも１つの負のレンズを有する負の群を更に含むことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の投影対物器械。
10. 前記瞳ミラーは、前記瞳表面のうちの１つに又はその近くに配置され、１つ又はそれよりも多くの透過光学要素が、光線高さ比ＲＨＲ＝ＭＲＨ／ＣＲＨ＞１であるように周辺光線高さＭＲＨが前記主光線高さＣＲＨよりも大きい位置において、前記光学的に共役な瞳表面の少なくとも１つに又はその近くに配置されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の投影対物器械。
11. 投影対物器械の全てのレンズが、溶融シリカから作られることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の投影対物器械。
12. 投影対物器械の出射表面と前記像面の間の像空間が１に近い屈折率を有するガスで満たされる乾式処理に結像収差に関して適応していることを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の投影対物器械。
13. 投影対物器械の少なくとも１つの光学要素が、投影対物器械の作動波長で屈折率ｎ≧１．６を有する高屈折率材料から作られる高屈折率光学要素であることを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の投影対物器械。
14. 前記像面の最も近くに最終光学要素を有し、
    前記最終光学要素の出射表面が、前記像面の直近にあり、投影対物器械の前記出射表面を形成し、
    前記最終光学要素は、投影対物器械の作動波長で屈折率ｎ＞１．６を有する高屈折率材料で少なくとも部分的に作られる、
    ことを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の投影対物器械。
15. 反射屈折投影対物器械を利用して半導体素子及び他の種類のマイクロデバイスを製作する方法であって、
    請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の投影対物器械を準備する段階と、
    規定パターンを与えるマスクを前記投影対物器械の物体面に配置する段階と、
    前記マスクを規定波長を有する紫外線で照明する段階と、
    前記パターンの像を感光基板上に投影する段階と、
    前記投影対物器械の瞳表面に又はその近くに位置決めされた反射瞳ミラー表面を有する瞳ミラーの表面形状を変更することにより、該投影対物器械の結像特性を調節する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。