TW201732443A - 具有光瞳鏡（pupil mirror） 之反射折射投影物鏡、投影曝光裝置、及投影曝光方法 - Google Patents

具有光瞳鏡（pupil mirror） 之反射折射投影物鏡、投影曝光裝置、及投影曝光方法 Download PDF

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI696895B (zh) * 2017-09-29 2020-06-21 大陸商上海微電子裝備（集團）股份有限公司 一種投影物鏡
TWI776385B (zh) * 2020-09-18 2022-09-01 南韓商三星電機股份有限公司 光學成像系統

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103135356B (zh) * 2011-11-23 2015-04-15 上海微电子装备有限公司 反射式光刻投影物镜
CN102436058B (zh) * 2011-12-14 2013-08-21 北京理工大学 一种用于深紫外波段的全球面折反式准直物镜
JP6028350B2 (ja) * 2012-03-16 2016-11-16 株式会社ニコン 基板処理装置、デバイス製造システム及びデバイス製造方法
DE102013204391B3 (de) * 2013-03-13 2014-05-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator
US9651872B2 (en) 2013-03-13 2017-05-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection lens with wavefront manipulator
CN103353669B (zh) * 2013-07-30 2015-07-15 中国科学院光电技术研究所 一种高数值孔径浸没投影物镜
TW201514541A (zh) * 2013-09-19 2015-04-16 尼康股份有限公司 投影光學系統、投影光學系統的調整方法、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
CN105116527B (zh) * 2015-09-25 2018-10-30 上海新跃仪表厂 一种大相对孔径低畸变广角长红外折反射式光学系统
JP6748482B2 (ja) * 2016-05-25 2020-09-02 キヤノン株式会社 露光装置、および、物品の製造方法
CN108152940B (zh) * 2016-12-05 2021-04-27 佳能株式会社 反射折射光学系统、照明光学系统、曝光装置
JP2019124796A (ja) * 2018-01-16 2019-07-25 キヤノン株式会社 結像光学系、画像投射装置およびカメラシステム
US11067389B2 (en) * 2018-03-13 2021-07-20 Kla Corporation Overlay metrology system and method
CN109298517B (zh) * 2018-11-05 2020-10-30 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 一种多光谱同轴折反式无焦光学系统
US20220334499A1 (en) 2019-09-10 2022-10-20 Asml Netherlands B.V. Sub-field control of a lithographic process and associated apparatus
CN113687500B (zh) * 2021-08-03 2024-03-26 润坤(上海)光学科技有限公司 折转式探测器光学系统
TWI813395B (zh) * 2022-07-22 2023-08-21 新鉅科技股份有限公司 光學透鏡組和頭戴式電子裝置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01120855U (ja) * 1988-02-08 1989-08-16
JPH0215131U (ja) * 1988-07-13 1990-01-30
JP3368091B2 (ja) * 1994-04-22 2003-01-20 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
JP3781044B2 (ja) * 1994-11-07 2006-05-31 株式会社ニコン 反射屈折光学系および投影露光装置
JPH10301058A (ja) * 1997-04-30 1998-11-13 Nikon Corp 反射屈折投影光学系
DE19824030A1 (de) * 1998-05-29 1999-12-02 Zeiss Carl Fa Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit adaptivem Spiegel und Projektionsbelichtungsverfahren
DE10120446C2 (de) * 2001-04-26 2003-04-17 Zeiss Carl Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Kompensation von Abbildungsfehlern in einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere für die Mikro-Lithographie
JP2005037896A (ja) * 2003-05-23 2005-02-10 Canon Inc 投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
JP2005019628A (ja) * 2003-06-25 2005-01-20 Nikon Corp 光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
CN102169226B (zh) * 2004-01-14 2014-04-23 卡尔蔡司Smt有限责任公司 反射折射投影物镜
JP2005311020A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Nikon Corp 露光方法及びデバイス製造方法
KR101213831B1 (ko) * 2004-05-17 2012-12-24 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
JP4843272B2 (ja) * 2004-07-31 2011-12-21 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学システム
JP4581662B2 (ja) * 2004-12-07 2010-11-17 株式会社ニコン 投影光学系及び露光装置並びにデバイスの製造方法
JP2009122247A (ja) * 2007-11-13 2009-06-04 Kayaba Ind Co Ltd 使用時に人体皮膚が接触する物品

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI696895B (zh) * 2017-09-29 2020-06-21 大陸商上海微電子裝備（集團）股份有限公司 一種投影物鏡
US10983442B2 (en) 2017-09-29 2021-04-20 Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. Projection objective
TWI776385B (zh) * 2020-09-18 2022-09-01 南韓商三星電機股份有限公司 光學成像系統
TWI828256B (zh) * 2020-09-18 2024-01-01 南韓商三星電機股份有限公司 光學成像系統

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