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Die Erfindung betrifft eine Obskurationsvorrichtung für ein optisches System einer Projektionsbelichtungsanlage. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Projektionsoptik mit einer derartigen Obskurationsvorrichtung sowie ein optisches System und eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Projektionsoptik. Schließlich betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- beziehungsweise nanostrukturierten Bauelements und ein verfahrensgemäß hergestelltes Bauelement.
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Obskurationsblenden dienen der Abschattung eines Strahlenbündels in einem Objektiv. Ihre mechanische Anordnung im Strahlengang mittels einer Haltevorrichtung kann jedoch zu einer unerwünschten Beeinträchtigung der Abbildungsgüte führen.
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Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Obskurationsvorrichtung mit einer Obskurationsblende zu verbessern.
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Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß durch eine Obskurationsvorrichtung gemäß Anspruch 1 gelöst.
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Der Kern der Erfindung besteht darin, die Obskurationsvorrichtung mit einer Halteeinrichtung zu versehen, welche eine veränderbare Konfiguration aufweist. Hierdurch ist es insbesondere möglich, die Halteeinrichtung flexibel an die Intensitätsverteilung der Beleuchtungsstrahlung, insbesondere an die Beleuchtungspupillen unterschiedlicher Beleuchtungssettings anzupassen.
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Die Obskurationsvorrichtung ist insbesondere im Strahlengang einer Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage angeordnet.
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Gemäß einem Aspekt der Erfindung umfasst die Halteeinrichtung eine Mehrzahl von verstellbaren Haltestreben. Sie umfasst insbesondere mindestens zwei, insbesondere mindestens drei, insbesondere mindestens vier Haltestreben.
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Die Haltestreben sind insbesondere stabförmig ausgebildet. Sie sind insbesondere ausgehend von einem Zentralbereich der Obskurationsblende in Radialrichtung verlaufend ausgerichtet. Ihre Ausrichtung ist vorzugsweise verstellbar. Sie kann stufenlos verstellbar sein. Es ist auch möglich, die Halteeinrichtung derart auszubilden, dass es für die Haltestreben eine Mehrzahl diskreter Anordnungen gibt.
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Durch eine Verstellbarkeit der Haltestreben wird die Anpassbarkeit der Obskurationsvorrichtung an unterschiedliche Beleuchtungssettings vereinfacht.
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Gemäß einem Aspekt der Erfindung umfasst die Halteeinrichtung eine Mehrzahl von austauschbaren Haltestreben.
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Hierdurch ist insbesondere die Anzahl und Anordnung der Haltestreben veränderbar. Dies führt zu einer nochmals vergrößerten Flexibilität.
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Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung umfasst die Halteeinrichtung eine Mehrzahl von Haltestreben, deren relative Lage zueinander verstellbar ist. Sie umfasst insbesondere mindestens eine, insbesondere mindestens zwei, insbesondere mindestens drei, insbesondere mindestens vier Haltestreben, welche in Umfangsrichtung verschwenkbar sind, das heißt eine veränderbare Anordnung in Radialrichtung aufweisen.
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Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist die Obskurationsblende rund, insbesondere kreisförmig oder elliptisch ausgebildet. Sie kann eine Exzentrizität von mindestens 1,1, insbesondere mindestens 2 aufweisen. Üblicherweise beträgt die Exzentrizität weniger als 10.
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Die Obskurationsblende kann insbesondere austauschbar sein. Auch hierdurch wird die Flexibilität der Obskurationsvorrichtung weiter verbessert.
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Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung weist die Obskurationsblende eine Mehrzahl separater Obskurationselemente auf.
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Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung weisen die Obskurationselemente jeweils eine identische Form auf.
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Hierdurch kann die Telezentrie der Beleuchtung verbessert werden.
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Weitere Aufgaben der Erfindung bestehen darin, eine Projektionsoptik und ein optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage sowie eine derartige Projektionsbelichtungsanlage zu verbessern.
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Diese Aufgaben werden durch eine Obskurationsvorrichtung gemäß der vorhergehenden Beschreibung gelöst. Die Vorteile ergeben sich aus denen der Obskurationsvorrichtung.
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Weitere Aufgabe der Erfindung bestehen darin, ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements sowie ein derartiges Bauelement zu verbessern. Diese Aufgaben werden durch Bereitstellung einer Projektionsbelichtungsanlage gemäß der vorhergehenden Beschreibung gelöst. Die Vorteile ergeben sich aus denen der Obskurationsvorrichtung.
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Weitere Vorteile, Details und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung mehrerer Ausführungsbeispiele anhand der Figuren. Es zeigen:
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1 schematisch einen Meridionalschnitt durch eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithographie,
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2 schematisch eine Darstellung einer ersten Variante einer erfindungsgemäßen Obskurationsvorrichtung,
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3 eine Darstellung gemäß 2 einer weiteren Variante der Obskurationsvorrichtung und
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4 eine Darstellung gemäß 2 einer weiteren Variante der Obskurationsvorrichtung.
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1 zeigt schematisch in einem Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie. Ein Beleuchtungssystem 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Belichtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Belichtet wird hierbei ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7, das von einem lediglich ausschnittsweise dargestellten Retikelhalter 8 gehalten ist. Eine Projektionsoptik 9 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 10 in eine Bildebene 11. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 10 in der Bildebene 11 angeordneten Wafers 12, der von einem ebenfalls schematisch dargestellten Waferhalter 13 gehalten ist.
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Bei der Strahlungsquelle
3 handelt es sich um einen EUV-Strahlungsquelle mit einer emittierten Nutzstrahlung im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Es kann sich dabei um eine Plasmaquelle, beispielsweise um eine GDPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Gasentladung, Gas Discharge-Produced Plasma) oder um eine LPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Laser, Laser-Produced Plasma) handeln. Auch eine Strahlungsquelle, die auf einem Synchrotron basiert, ist für die Strahlungsquelle
3 einsetzbar. Informationen zu einer derartigen Strahlungsquelle findet der Fachmann beispielsweise aus der
US 6,859,515 B2 . EUV-Strahlung
14, die von der Strahlungsquelle
3 ausgeht, wird von einem Kollektor
15 gebündelt. Nach dem Kollektor
15 propagiert die EUV-Strahlung
14 durch eine Zwischenfokusebene
16 bevor sie auf einen Feldfacettenspiegel
17 trifft. Der Feldfacettenspiegel
17 ist in einer Ebene der Beleuchtungsoptik
4 angeordnet, die zur Objektebene
6 optisch konjugiert ist. Er kann auch beabstandet zu einer derartigen Ebene angeordnet sein.
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Die EUV-Strahlung 14 wird nachfolgend auch als Beleuchtungslicht beziehungsweise Beleuchtungsstrahlung oder als Abbildungslicht bezeichnet.
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Nach dem Feldfacettenspiegel 17 wird die EUV-Strahlung 14 von einem Pupillenfacettenspiegel 18 reflektiert. Der Pupillenfacettenspiegel 18 ist in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet, die zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 9 optisch konjugiert ist. Der Pupillenfacettenspiegel 18 kann auch beabstandet zur Pupillenebene angeordnet sein. Mit Hilfe des Pupillenfacettenspiegels 18 und einer abbildenden optischen Baugruppe in Form einer Übertragungsoptik 19 mit in der Reihenfolge des Strahlengangs bezeichneten Spiegeln 20, 21 und 22 werden Feldfacetten des Feldfacettenspiegels 17 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der letzte Spiegel 22 der Übertragungsoptik 19 ist ein Spiegel für streifenden Einfall („Grazing Incidence-Spiegel“). Der Pupillenfacettenspiegel 18 und die Übertragungsoptik 19 bilden eine Folgeoptik zur Überführung des Beleuchtungslichts 14 in das Objektfeld 5. Auf die Übertragungsoptik 19 kann insbesondere dann verzichtet werden, wenn der Pupillenfacettenspiegel 18 in einer Eintrittspupille der Projektionsoptik 9 angeordnet ist.
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Der Feldfacettenspiegel 17, der Pupillenfacettenspiegel 18 sowie gegebenenfalls die Spiegel 20, 21 und 22 der Übertragungsoptik 19 sind Bestandteile der Beleuchtungsoptik 4. Die Beleuchtungsoptik 4 ist somit zumindest teilweise reflektiv, insbesondere rein reflektiv, katoptrisch, ausgebildet.
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Zur einfacheren Beschreibung von Lagebeziehungen ist in der 1 ein kartesisches xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Achse verläuft in der 1 senkrecht zur Zeichenebene in diese hinein. Die y-Achse verläuft nach rechts. Die z-Achse verläuft nach unten. Die Objektebene 6 und die Bildebene 11 verlaufen beide parallel zur xy-Ebene. Andere Anordnungen der Objektebene 6 oder der Bildebene 11, z. B. gekippt oder rotiert, sind möglich.
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Der Retikelhalter 8 ist gesteuert so verlagerbar, dass bei der Projektionsbelichtung das Retikel 7 in einer Verlagerungsrichtung in der Objektebene 6 parallel zur y-Richtung verlagert werden kann. Entsprechend ist der Waferhalter 13 gesteuert so verlagerbar, dass der Wafer 12 in einer Verlagerungsrichtung in der Bildebene 11 parallel zur y-Richtung verlagerbar ist. Hierdurch können das Retikel 7 und der Wafer 12 einerseits durch das Objektfeld 5 und andererseits durch das Bildfeld 10 gescannt werden. Die Verlagerungsrichtung wird nachfolgend auch als Scan-Richtung bezeichnet. Die Verschiebung des Retikels 7 und des Wafers 12 in Scan-Richtung kann vorzugsweise synchron zueinander erfolgen.
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Der Feldfacettenspiegel 17 weist eine Vielzahl von in der 1 nur schematisch angedeuteten Feldfacetten 23 auf. Die Feldfacetten 23 sind länglich, insbesondere rechteckig oder auch ringsegmentförmig ausgebildet. Sie weisen ein Aspektverhältnis von mindestens 1:2, insbesondere mindestens 1:3, insbesondere mindestens 1:5 auf. Das Aspektverhältnis der Feldfacetten 23 entspricht im Wesentlichen dem Aspektverhältnis des Objektfeldes 5. Durch die Feldfacetten 23 wird die Strahlung 14 von der Strahlungsquelle 3 in eine Vielzahl von Strahlungsbündel zerlegt. Die Feldfacetten 23 dienen der Erzeugung von sekundären Lichtquellen, da jede Feldfacette 23 die Lichtquelle 3 bzw. einen durch den Kollektor 15 erzeugten Zwischenfokus 16 auf eine der Feldfacetten 23 zugeordnete Pupillenfacette 24 abbildet. Die Feldfacetten 23 ihrerseits werden mittels der Facetten 24 des Pupillenfacettenspiegels 18 in die Objektebene 6 überlagernd abgebildet.
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Die Feldfacetten 23 sind derart auf dem Feldfacettenspiegel 17 angeordnet, dass ihr Abbild in der Objektebene 6 jeweils parallel zur x-, d. h. zur Cross-Scan-Richtung verläuft. Hierunter sei verstanden, dass bei der Projektion der Feldfacetten 23 in die Objektebene 6 die lange Seite jeder Facette parallel zur x-, d. h. zur Cross-Scan-Richtung, verläuft, während die kurze Seite jeder Feldfacette 23 in y-, d. h. in Scan-Richtung zeigt.
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Jeder Feldfacette 23 des Feldfacettenspiegels 17 ist mindestens eine Pupillenfacette 24 des Pupillenfacettenspiegels 18 zugeordnet. Zwischen je einer Feldfacette 23 und einer Pupillenfacette 24 wird ein Lichtkanal ausgebildet. Hierbei bestimmt die Anordnung der Pupillenfacetten 24 auf dem Pupillenfacettenspiegel 18 die Lichtverteilung, d. h. das Beleuchtungssetting in der Austrittspupille der Beleuchtungsoptik 4.
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Die Feldfacetten 23 dienen somit zusammen mit Pupillenfacetten 24 des Pupillenfacettenspiegels 18, die in der Zeichnung ebenfalls nur schematisch dargestellt sind, der Erzeugung eines definierten Beleuchtungssettings zur Beleuchtung und Ausleuchtung des Objektfeldes 5. Insbesondere können die Feldfacetten 23 auch schaltbar, insbesondere verkippbar, ausgelegt werden, um einen lichtverlustfreien Wechsel des Beleuchtungssettings zu ermöglichen. Unterschiedlichen Kippwinkeln der Feldfacetten 23 entsprechen dann unterschiedliche Kanalzuordnungen zwischen Feld- und Pupillenfacetten 23, 24. Insbesondere ist es auch möglich, einen Kippwinkel einer Feldfacette 23 so zu wählen, dass das Beleuchtungslicht dieses Beleuchtungskanals nicht zur Beleuchtung des Retikels 7 beiträgt, sondern beispielsweise auf eine Lichtfalle umgelenkt wird. Dies kann z. B. zur Homogenisierung der Feldausleuchtung in der Objektebene 6 nützlich sein.
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Die EUV-Strahlung 14 von der Strahlungsquelle 3 wird mit Hilfe des Kollektors 15 gesammelt und in ein paralleles oder konvergentes Lichtbüschel konvertiert. Dieses wird mittels der Feldfacetten 23 in eine Vielzahl von Teil-Lichtbüscheln zerlegt, welche nahe oder am Ort der Pupillenfacetten 24 jeweils sekundäre Lichtquellen ausbilden. Diese sekundären Lichtquellen werden von der Übertragungsoptik 19 in die Austrittspupille der Beleuchtungsoptik 4 abgebildet, welche mit der Eintrittspupille der Projektionsoptik übereinstimmt. Das Abbild der sekundären Lichtquellen in der Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 bildet somit tertiäre Lichtquellen in der Eintrittspupillenebene der Projektionsoptik 9.
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Die Projektionsoptik
9 umfasst mehrere, insbesondere mindestens vier, insbesondere mindestens fünf, insbesondere mindestens sechs, insbesondere mindestens sieben, insbesondere mindestens acht Projektionsspiegel oder Projektionsspiegelelemente. Die Projektionsoptik
9 kann insbesondere rein reflektiv katoptrisch, ausgebildet sein. Für weitere Details der Projektionsoptik
9 sei auf die
WO 2006/069725 A1 verwiesen.
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Die Projektionsoptik 9 umfasst eine oder mehrere Pupillenebenen 26. Der Begriff Pupillenebene bezeichnet hierbei die Gesamtheit der in Richtung quer zu einer Projektionsrichtung 27 aneinander grenzenden Orte, an welchen von einer Pupillenfacette 24 ausgehende Strahlenbündel sich schneiden.
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Bei der erfindungsgemäßen Projektionsoptik fällt mindestens eine Pupillenebene 26 mit keinem der Spiegel der Projektionsoptik 9 zusammen.
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Im Folgenden werden erfindungsgemäße Details einer ersten Ausführungsform der Projektionsoptik 9 beschrieben. Die Projektionsoptik 9 umfasst eine Obskurationsvorrichtung 28 mit einer Obskurationsblende 29 und einer Halteeinrichtung 30 zur Anordnung der Obskurationsblende 29 in der Projektionsoptik 9. Die Halteeinrichtung 30 bildet eine Obskuration in der Projektionsoptik 9. Im Gegensatz zur Obskurationsblende 29 ist die durch die Halteeinrichtung 30 gebildete Obskuration jedoch zwar konstruktiv notwendig, führt jedoch in der Regel nicht zu einer gezielten Verbesserung der optischen Eigenschaften der Projektionsoptik 9, sondern kann zu einer unerwünschten Obskuration eines Anteils des Beleuchtungslichts 14 führen.
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Die Obskurationsblende 29 dient der Obskuration eines Teils der zur Abbildung des Objektfeldes 5 in das Bildfeld 10 dienenden Strahlung 14. Mittels der Obskurationsblende 29 ist insbesondere eine definierte Abschattung der zur Projektion des Objektfeldes 5 dienenden Strahlung möglich. Die Obskurationsblende 29 ist als invertierte Lochblende ausgebildet. Sie ist vorzugsweise kreisförmig ausgebildet. Sie kann jedoch auch oval, insbesondere elliptisch, ausgebildet sein. Dies kann insbesondere bei einer Anordnung der Obskurationsblende 29 quer, jedoch nicht exakt senkrecht zur Richtung des Hauptstrahls des zentralen Objektfeldpunktes vorteilhaft sein.
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Die Obskurationsblende 29 weist insbesondere ein Aspektverhältnis, definiert durch das Verhältnis der beiden Hauptachsen einer Bestfit-Ellipse, im Bereich von 0,9 bis 1,1, insbesondere im Bereich von 0,99 bis 1,01, auf. Im Falle eines optischen Systems mit Freiformflächen kann das Aspektverhältnis im Bereich von 0,5 bis 2,0 liegen. Es kann insbesondere kleiner als 0,9 oder größer als 1,1 sein.
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Die Obskurationsblende 29 ist aus einem Material, welches die auf dieses auftreffende EUV-Strahlung 14 von der Strahlungsquelle 3 zu mindestens 90 %, insbesondere mindestens 99 %, insbesondere vollständig absorbiert. Die Obskurationsblende 29 ist zumindest teilweise, insbesondere vollständig, aus einem Material mit guter Wärmeleitfähigkeit, insbesondere aus einem Metall. Vorzugsweise ist auch die Halteeinrichtung 30 zumindest teilweise, insbesondere vollständig, aus einem Material mit einer guten Wärmeleitfähigkeit, insbesondere aus Metall. Hierdurch lässt sich ein unerwünschtes Erhitzen der Obskurationsblende 29 vermeiden, wodurch eine thermische Beeinflussung benachbarter Elemente, insbesondere Spiegel, der Projektionsoptik 9 verringert, insbesondere vermieden wird. Alternativ oder zusätzlich hierzu kann die Obskurationsblende 29 auch eine nichtreflektierende, d. h. eine absorbierende Beschichtung für die EUV-Strahlung 14 von der Strahlungsquelle 3 aufweisen. Die Obskurationsblende 29 blockiert somit die EUV-Strahlung 14, die mit einer Komponente in Projektionsrichtung 27 auf sie auftrifft. Alternativ oder zusätzlich hierzu kann die Obskurationsblende 29 auch eine nichtreflektierende, d. h. eine absorbierende Beschichtung für Strahlung von nicht EUV-Wellenlängen der Strahlungsquelle 3 aufweisen. Insbesondere für Infrarotlicht, welches beispielsweise aus einer CO2-Laser gepumpten LPP-Quelle austritt, oder für Licht im DUV-Bereich kann dies sinnvoll oder sogar notwendig sein.
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Die Halteeinrichtung 30 weist eine zweizählige Drehsymmetrie auf. Sie umfasst einen äußeren Haltering 31 und einen inneren Haltering 32. Der äußere Haltering 31 kann eine Aperturblende bilden oder durch eine Aperturblende gebildet sein. Der innere Haltering 32 ist mittels Haltestreben 33 mit dem äußeren Haltering 31 verbunden. Es ist auch möglich, die Haltestreben 33 direkt mit der Obskurationsblende 29 zu verbinden. In diesem Fall kann auf den inneren Haltering 32 verzichtet werden. Gemäß den in den 2 bis 4 dargestellten Ausführungsbeispielen umfasst die Halteeinrichtung vier Haltestreben 33. Eine andere Anzahl Haltestreben 33 ist ebenso möglich. Die Haltestreben 33 sind insbesondere geradlinig ausgebildet. Jeweils zwei der Haltestreben 33 sind einander bezüglich der Obskurationsblende 29 gegenüberliegend, entlang einer gemeinsamen Richtung angeordnet.
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Bei dem in der 2 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Haltestreben 33 gleichmäßig über den Umfang der Halteringe 31, 32 verteilt. Der Winkelabstand zwischen zwei Haltestreben beträgt somit 90°.
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Die Projektionsoptik 9 weist im Bereich der Position, in welcher die Obskurationsblende 29 angeordnet ist, d. h. im Bereich der Halteposition der Obskurationsblende 29, eine Apertur auf. Die Projektionsoptik 9 weist insbesondere in der Pupillenebene, in welche die Obskurationsblende 29 angeordnet ist eine Apertur auf. Der äußere Haltering 31 weist einen inneren Durchmesser auf, welcher insbesondere größer ist als die Apertur der Projektionsoptik 9. Prinzipiell kann der äußere Haltering 31 auch mit einem kleineren inneren Durchmesser ausgebildet sein. Er wirkt in diesem Fall zusätzlich als Aperturblende.
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Die Obskurationsblende 29 weist eine radiale Abmessung von höchstens 60 %, insbesondere höchstens 50 %, insbesondere höchstens 40 %, insbesondere höchstens 30 %, insbesondere höchstens 20 %, insbesondere höchstens 10 % der Abmessungen der Apertur der Projektionsoptik 9 im Bereich der Pupillenebene 26 auf. Um eine große Vielfalt von abzubildenden Strukturen und/oder Settings zu ermöglichen, ist eine Obskuration von weniger als 30 % vorteilhaft. Es kann jedoch auch vorgesehen sein, Systeme mit größerer Obskuration auszubilden, die dann jedoch nur einen eingeschränkten Bereich von Strukturen abbilden können.
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Die Halteeinrichtung
30 kann an bestimmte Beleuchtungssettings angepasst sein. Für Details sei auf die
DE 10 2010 040 108 A1 beziehungsweise die
WO 2012/028 303 A1 verwiesen, die hiermit in die vorliegende Anmeldung integriert sind.
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Die Halteeinrichtung 30 gemäß 2 ist beispielsweise an ein Beleuchtungssetting mit Quadrupolstruktur, insbesondere an ein sogenanntes Quasar-Beleuchtungssetting, angepasst. Sie weist eine vierzählige Drehsymmetrie auf.
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Die Halteeinrichtung 30 kann zur Anpassung an die Art des Quadrupols, insbesondere zur Anpassung an einen sogenannten C-Quad, wie in 3 dargestellt, als Ganzes um eine Achse parallel zur Projektionsrichtung 27 gedreht werden. Sie ist somit verlagerbar, insbesondere verdrehbar. Sie weist allgemein eine veränderbare Konfiguration auf.
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Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass je nach Beleuchtungssetting unterschiedliche Bereiche des Nutzlichtvolumens tatsächlich mit Beleuchtungsstrahlung 14 gefüllt sind. Durch eine verlagerbare, insbesondere verdrehbare Ausführung der Obskurationsvorrichtung 28 kann die Anordnung derselben an unterschiedliche Beleuchtungssettings angepasst werden. Hierdurch kann die Abbildungsqualität der Projektionsoptik 9 verbessert werden. Es ist insbesondere möglich, die Obskurationsvorrichtung 28 derart anzuordnen, dass eine unerwünschte Obskuration von Beleuchtungsstrahlung 14, insbesondere aufgrund der Halteeinrichtung 30, reduziert, insbesondere minimiert, insbesondere vollständig vermieden wird.
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Erfindungsgemäß wurde weiter erkannt, dass es hierbei nicht nur auf die Intensitätsverteilung der Beleuchtungsstrahlung 14 im Bereich der Obskurationsvorrichtung 28 ankommt. Auch andere Eigenschaften, beispielsweise Symmetrieeigenschaften, können eine wesentliche Rolle spielen. Die Halteeinrichtung 30 kann insbesondere an ein bestimmtes Beleuchtungssetting angepasst werden, um einen Kontrast, insbesondere für eine vorgegebene, abzubildende Struktur, zu verbessern, insbesondere zu maximieren.
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Allgemein lässt sich durch Anpassung der Anordnung, insbesondere der Orientierung, der Halteeinrichtung 30 eine Optimierung des Abbildungsverhaltens erreichen.
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Erfindungsgemäß ist vorgesehen, die Halteeinrichtung 30 mit einer veränderbaren Konfiguration zu versehen. Sie kann beispielsweise als Ganzes verstellbar, insbesondere rotierbar, angeordnet sein. Es ist auch möglich, einzelne der Haltestreben verstellbar auszubilden. Insbesondere die relative Lage der Haltestreben 33 zueinander kann verstellbar sein. Die Haltestreben 33 können mit Führungselementen versehen sein. Sie können insbesondere mittels der Führungselemente geführt verstellbar sein. Zur Verstellung der Haltestreben 33 können beispielsweise Piezoelemente vorgesehen sein. Die Führungselemente können mit einer oder mehreren Einrastmöglichkeiten versehen sein. Hierdurch können gezielte Anordnungen der Haltestreben 33 vorgegeben werden. Die Haltestreben 33 können auch austauschbar sein. Hierzu kann die Halteeinrichtung 30 eine Mehrzahl diskreter Positionen für die Anordnung der Haltestreben 33 aufweisen. In diesem Fall ist auch die Anzahl der Haltestreben 33 veränderbar.
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Eine Variante der Obskurationsvorrichtung 28 mit einer Halteeinrichtung 30 mit veränderter Konfiguration ist exemplarisch in 4 dargestellt. Bei dieser Variante sind die Haltestreben 33 nicht gleichmäßig über den Umfang der Halteringe 31, 32 verteilt angeordnet. Zu jeder dieser Haltestreben 33 ist somit jeweils eine weitere Haltestrebe 33 in einem ersten Winkel
b1 < 90° und eine weitere Haltestrebe 33 unter einem zweiten Winkel
b2 > 90° angeordnet. Es gilt insbesondere b2:b1 ≥ 1,5, insbesondere
b2:b1 ≥ 2, insbesondere b2:b1 ≥ 2,5. Die in der 4 dargestellte Halteeinrichtung 30 weist somit eine zweizählige, jedoch keine vierzählige Drehsymmetrie auf.
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Die in den 2 bis 4 dargestellten Varianten sind exemplarisch zu verstehen. Auch andere Drehstellungen sowie insbesondere andere relative Anordnungen der Haltestreben 33 zueinander sind möglich und können für bestimmte Beleuchtungssettings und/oder bei der Abbildung bestimmter Strukturen nützlich sein.
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Weiterhin kann es nützlich sein, die Anzahl der Haltestreben 33 über die unbedingt erforderliche Anzahl hinaus zu erhöhen. Dies kann insbesondere nützlich sein, um eine Symmetrisierung zu erreichen.
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Des Weiteren ist eine Kombination der veränderbaren Konfiguration der Halteeinrichtung mit weiteren Systemfreiheitsgraden in der Beleuchtungsoptik 4 und/oder der Projektionsoptik 9 sinnvoll. Beispielsweise kann die Form der Obskurationsblende 29 und/oder deren Orientierung und/oder deren Anordnung in Richtung des Strahlengangs variiert werden. Es ist insbesondere möglich, diese Charakteristika an bestimmte vorgegebene Beleuchtungssettings, insbesondere unterschiedliche Beleuchtungspupillen, anzupassen.
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Auch Manipulatoren in der Projektionsoptik 9, welche auf die Optimierung der Wellenfront zielen, können mit den Freiheitsgraden einer variablen Halteeinrichtung 30 kombiniert werden. Als Beispiel für derartige Manipulatoren sind zu nennen:
- – in Richtung des Strahlengangs der Beleuchtungsstrahlung 14 und/oder senkrecht dazu verschiebbare Elemente,
- – um eine Achse in Richtung des Strahlengangs oder senkrecht dazu drehbare Elemente,
- – deformierbare Elemente,
- – lokal heiz- und/oder kühlbare Elemente,
- – gegeneinander verschiebbare, insbesondere asphärisierte Platten,
- – austauschbare Elemente,
- – eine Variation der Bestrahlungsstärke von Gebieten in oder außerhalb des optisch genutzten Bereichs bei der Nutzwellenlänge der lithographischen Abbildung oder einer davon abweichenden Wellenlänge, bevorzugt unter Bedingungen, die verhindern, dass die zusätzliche Bestrahlung ins Bild gelangt, um gezielte Erwärmungseffekte zu erzeugen.
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Die Informationen, welche konkrete Einstellung der Halteeinrichtung 30 zur Halterung der Obskurationsblende 29 zu wählen ist, kann auf Basis der eingestellten Beleuchtung getroffen werden. Komplexere Anpassungen sind im Zuge der gemeinsamen Optimierung der Beleuchtung, insbesondere der Intensitätsverteilung und/oder Einfallswinkelverteilung, und der Strukturen der abzubildenden Retikel 7 im Rahmen der holistischen Lithographie denkbar.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- DE 102010040108 A1 [0003, 0050]
- US 6859515 B2 [0028]
- WO 2006/069725 A1 [0039]
- WO 2012/028303 A1 [0050]
