DE102020208007A1

DE102020208007A1 - Optisches System mit einer Aperturblende

Info

Publication number: DE102020208007A1
Application number: DE102020208007.0A
Authority: DE
Inventors: Tanja Müller; Rudi Littelink
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2020-06-29
Filing date: 2020-06-29
Publication date: 2021-12-30
Also published as: CN115735161A; US20230123115A1; WO2022002533A1

Abstract

Die Erfindung betrifft ein optisches System, insbesondere ein Lithographiesystem (100A), umfassend: eine Aperturblende (202), die eine Blendenöffnung (204) mit einer Kante (206) zur Begrenzung eines Strahlengangs (200) des optischen Systems (100A) an seinem äußeren Umfang (200a) aufweist, sowie eine vor der Aperturblende (202) angeordnete Wärmeblende (208) zur teilweisen Abschattung der Aperturblende (202), wobei die Kante (206) der Aperturblende (202) von der Abschattung ausgenommen ist.

Description

Hintergrund der Erfindung
Die Erfindung betrifft ein optisches System, insbesondere ein Lithographiesystem, umfassend: eine Aperturblende, die eine Blendenöffnung mit einer Kante zur Begrenzung eines Strahlengangs des optischen Systems an seinem äußeren Umfang aufweist.
Bei dem Lithographiesystem kann es sich um eine Lithographieanlage zur Belichtung eines Wafers oder um ein anderes optisches System für die Mikrolithographie handeln, beispielsweise um ein Inspektionssystem, z.B. um ein System zur Vermessung bzw. zur Inspektion von in der Lithographie verwendeten Masken, Wafern oder dergleichen. Bei dem Lithographiesystem kann es sich insbesondere um eine EUV-Lithographieanlage oder um eine DUV-Lithographieanlage handeln. EUV steht für „extremes Ultraviolett“ (engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge der Nutzstrahlung zwischen 0,1 nm und 30 nm. DUV steht für „tiefes Ultraviolett“ (engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge der Nutzstrahlung zwischen 30 nm und 250 nm.
Die numerische Apertur stellt eine wichtige Kenngröße von Lithographiesystemen, insbesondere von Lithographieanlagen, dar. Die numerische Apertur wird bei Lithographiesystemen mit Hilfe von so genannten Aperturblenden eingestellt bzw. modifiziert. Unter einer Aperturblende versteht man eine Blende, die den Strahlengang an seinem äußeren Umfang (scharf) begrenzt. Zu diesem Zweck weist die Aperturblende eine Blendenöffnung mit einer (umlaufenden) Kante auf. Die Geometrie der Blendenöffnung bzw. der Kante definiert hierbei die Geometrie des äußeren Umfangs des Querschnitts des Strahlengangs bzw. des Strahlenbündels, welches durch die Blendenöffnung der Aperturblende hindurchtritt.
Neben Aperturblenden werden in optischen Systemen auch so genannte Obskurationsblenden verwendet. Diese Blenden sind innerhalb des Strahlengangs des optischen Systems angeordnet und blenden einen inneren Teilbereich des Strahlengangs bzw. des Strahl-Querschnitts aus. Es ist bekannt, Obskurationsblenden mit Hilfe von dünnen Stegen oder auf andere Weise in der Mitte des Strahlengangs zu halten. Aufgrund der Strahlung, welche notwendigerweise auf die Obskurationsblende fällt, wird Wärme in diese eingetragen. Die entsprechende Wärmelast kann nur über die dünnen Stege abgeführt werden. Entsprechend erwärmen sich Obskurationsblenden stärker als Aperturblenden. Im Belichtungsbetrieb von Lithographieanlagen können sich daher Obskurationsblenden auf Temperaturen von mehr als ca. 120°C oder 190°C erwärmen, während die Temperatur von Aperturblenden bis ca. 30-40°C beträgt.
Die hohe Temperatur von Obskurationsblenden kann zu einer relevanten Wärmeausdehnung derselben und/oder der Stege führen, mit denen die Obskurationsblende an einer Halterung angebracht ist. Die Wärmeausdehnung in den Stegen kann zu einer radialen Verspannung führen, welche zu einem Ausweichen der Obskurationsblende in Richtung des Strahlengangs oder quer zum Strahlengang führen kann. Dies hat eine nachteilige Veränderung von optischen Kenngrößen der Lithographieanlage, beispielsweise von deren Telezentrie, zur Folge.
In der DE 10 2015 201 253 A1 ist eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer Obskurationsblende beschrieben, die einen äußeren Blendenring und eine innerhalb des Blendenrings befindliche Innenblende zum Ausblenden eines inneren Bereichs eines Arbeitslaserstrahls aufweist. In einem Ausführungsbeispiel weist die Innenblende eine Kühleinrichtung auf, die so ausgebildet ist, dass eine definierte Wärmereduzierung in der Innenblende ermöglicht wird. In einem anderen Ausführungsbeispiel weist die Innenblende eine Spiegelfläche zu Reflexion des Arbeitslichts auf.
In der DE 10 2016 221 823 A1 ist ein optisches System mit einer Obskurationsblende und mit einer Halterung beschrieben. In einem Ausführungsbeispiel ist eine Entkopplungseinrichtung vorgesehen, die dazu eingerichtet ist, eine Wärmeausdehnung der Obskurationsblende von der Halterung zu entkoppeln. In einem weiteren Ausführungsbeispiel ist eine Wärmeblende in Richtung von Licht in dem Strahlengang vor der Obskurationsblende angeordnet und dazu eingerichtet, die Obskurationsblende teilweise zu beschatten, wobei die lichtbestimmende Kante der Obskurationsblende von der Beschattung ausgenommen ist.
Aufgabe der Erfindung
Aufgabe der Erfindung ist es, ein optisches System, insbesondere ein Lithographiesystem, bereitzustellen, dessen optische Kenngrößen, insbesondere dessen numerische Apertur, sich im Betrieb möglichst wenig verändert.
Gegenstand der Erfindung
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein optisches System der eingangs genannten Art, bei dem vor der Aperturblende - außerhalb des Strahlengangs - eine Wärmeblende zur teilweisen Abschattung der Aperturblende angeordnet ist, wobei die Kante der Aperturblende von der Abschattung ausgenommen ist.
Die Erfinder haben erkannt, dass nicht nur die (größere) Wärmelast, die auf die ggf. vorhandene Obskurationsblende trifft, sondern auch die Wärmelast, die auf die Aperturblende trifft, einen starken Einfluss auf optische Kenngrößen des optischen Systems haben kann. Dieser Einfluss ist darauf zurückzuführen, dass sich das Material der Aperturblende unter der in der Regel erheblichen Wärmelast durch die Absorption der auszublendenden Strahlung während des Betriebs des optischen Systems, die z.B. bei mehreren Watt liegen kann, so stark erwärmt, dass diese sich thermal ausdehnt. Die thermische Ausdehnung der Aperturblende führt zu einer Verschiebung der Kante der Blendenöffnung von ihrer nominellen Position. Dies führt dazu, dass die Vorgaben für die Positionstoleranz der Aperturblende nicht eingehalten werden können, was zu einer signifikanten Veränderung der numerischen Apertur im Betrieb des optischen Systems führen kann.
Für den Fall, dass die Aperturblende im Projektionssystem eines Lithographiesystems angeordnet ist, besteht das zusätzliche Problem, dass ein Bediener des Lithographiesystems die Beleuchtungseinstellungen an den jeweiligen Anwendungsfall anpassen kann, so dass die Wärmelast, die auf die Aperturblende trifft, nicht ohne weiteres vorhergesagt werden kann. Eine Anpassung der Dimensionierung der Blendenöffnung an die zu erwartende Wärmelast ist daher nicht möglich. Auch eine Abführung der Wärmelast über eine Halterung der Aperturblende ist zwar möglich, in der Regel lässt sich die Aperturblende aber nicht gut kühlen, da diese nur indirekt mit einer Kühleinrichtung in Verbindung steht, die z.B. bei einer EUV-Lithographieanlage zur Kühlung eines so genannten „mini environments“ (s.u.) genutzt wird.
Erfindungsgemäß wird daher vorgeschlagen, zur Reduzierung der Wärmelast auf die Aperturblende eine weitere Blende zu verwenden, die auch als Wärmeblende bezeichnet wird. Die Wärmeblende dient als Abschirmung für die Aperturblende und ist vor der Aperturblende (außerhalb des Strahlengangs) angeordnet. Unter einer Anordnung außerhalb des Strahlengangs wird verstanden, dass die Blendenöffnung der Wärmeblende, genauer gesagt die Kante der Blendenöffnung, den Strahlengang nicht randseitig entlang seines äußeren Umfangs begrenzt, d.h. die Wärmeblende weist keine lichtbegrenzende Kante auf. Die Wärmeblende übernimmt somit nicht die Aufgabe der Aperturblende, den Strahlengang randseitig zu beschneiden, sondern dient lediglich dazu, die thermische Ausdehnung der Aperturblende weitestgehend zu verhindern, so dass die Toleranz-Spezifikation hinsichtlich der Position der Aperturblende eingehalten werden kann. Auf diese Weise können engere Positionier-Toleranzen der Aperturblende eingehalten werden als dies ohne das Vorhandensein der Wärmeblende der Fall wäre.
Bei einer Ausführungsform weist die Wärmeblende eine Blendenöffnung mit einer Kante auf, die vom äußeren Umfang des Strahlengangs beabstandet ist. Wie weiter oben beschrieben wurde, ist es günstig, wenn die Wärmeblende nicht die Aufgabe der eigentlichen Aperturblende übernimmt, den Strahlengang randseitig zu begrenzen. Um zu vermeiden, dass die Kante der Wärmeblende bei der thermischen Ausdehnung eine lichtbegrenzende Kante darstellt, weist die Kante der Wärmeblende einen Sicherheitsabstand zum äußeren Umfang des Strahlengangs auf.
Bei einer Weiterbildung weist die Kante der Blendenöffnung der Wärmeblende im Betrieb des optischen Systems einen (minimalen) Abstand von mindestens 50 µm, insbesondere von mindestens 1 µm, vom äußeren Umfang des Strahlengangs auf. Die Querschnittsfläche der Blendenöffnung der Wärmeblende ist um ein vorgegebenes Maß größer als die Querschnittsfläche des Strahlengangs am Ort der Wärmeblende, d.h. zwischen dem äußeren Umfang des Strahlengangs und der Kante der Blendenöffnung der Wärmeblende ist ein Spalt gebildet. Der Abstand bzw. die Größe des Spalts ist so bemessen, dass die Wärmblende sich auch bei der maximalen auf diese auftreffenden Wärmelast und somit bei ihrer maximalen Betriebstemperatur nicht so weit ausdehnt, dass die Kante der Blendenöffnung der Wärmeblende den äußeren Umfang des Strahlengangs erreicht.
Um dies zu erreichen, ist es erforderlich, dass jeder Punkt der Kante der Blendenöffnung bei ihrer maximalen Betriebstemperatur in dem optischen System (einschließlich Toleranzen, z.B. durch Fertigung, Position, ...), mindestens 1 µm, insbesondere mindestens 50 µm vom Strahlengang entfernt angeordnet ist. Auf diese Weise kann verhindert werden, dass eine Formänderung der Wärmeblende den Strahlengang bzw. das Nutzlichtvolumen in irgendeiner Weise beeinflusst, bevor der Lichtstrahl auf die Aperturblende trifft. Dadurch ist sichergestellt, dass die Wärmeblende nicht die Rolle der Aperturblende übernimmt.
Die Ausdehnung der Wärmeblende hängt neben der maximalen Wärmelast auch vom thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Materials der Wärmeblende ab. Handelt es sich bei dem Material der Wärmeblende z.B. um Invar, das einen geringen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweist, kann die Wärmeblende mit einem kleineren Abstand zum Strahlengang in dem optischen System installiert werden als dies bei einem Material mit einem größeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Fall ist. Der Abstand der Kante der Blendenöffnung im Einbauzustand (bei Raumtemperatur (22°C)) wird hierbei abhängig vom thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Materials der Wärmeblende so gewählt, dass im Betrieb des optischen Systems bei der maximalen Betriebstemperatur von typischerweise ca. 40°C der Wärmeblende die obige Bedingung für den Abstand eingehalten wird.
Bevorzugt weist die Kante der Blendenöffnung im Betrieb des optischen Systems einen (maximalen) Abstand von nicht mehr als 2 mm, insbesondere von nicht mehr als 1 mm, vom äußeren Umfang des Strahlengangs auf. Je größer der Abstand der Kante der Blendenöffnung der Wärmeblende zum äußeren Umfang des Strahlengangs ist, desto weniger wird die Aperturblende von der Wärmeblende abgeschattet. Der Abstand zwischen der Kante der Blendenöffnung und dem äußeren Rand des Strahlengangs im Betrieb des optischen Systems sollte daher nicht zu groß gewählt werden. Auf diese Weise kann möglichst viel Strahlung durch die Wärmeblende aufgenommen werden, die nicht mehr zur Aperturblende gelangen kann.
Für den Fall, dass sich der Querschnitt des Strahlengangs zwischen der Wärmeblende und der Aperturblende nur geringfügig verändert, gelten die oben angegebenen Werte bezüglich des Abstands zum äußeren Umfang des Strahlengangs entsprechend für den Abstand zum äußeren Umfang der Blendenöffnung der Aperturblende, d.h. die Kante der Blendenöffnung der Wärmeblende weist in einer Projektion in eine Ebene senkrecht zur optischen Achse des optischen Systems im Betrieb des optischen Systems bei maximaler Wärmelast einen Abstand von mindestens 50 µm bzw. von mindestens 1 µm von der Kante der Blendenöffnung der Aperturblende in der Projektion in dieselbe Ebene auf.
Bei einer weiteren Ausführungsform stimmt die geometrische Form der Blendenöffnung der Wärmeblende mit der geometrischen Form der Blendenöffnung der Aperturblende überein. Unter geometrischen Formen werden wie allgemein üblich kreisförmige, ovale, elliptische, rechteckige, quadratische, polygonale, ... Formen, aber auch Freiformen verstanden. Unter einer übereinstimmenden geometrischen Form wird z.B. verstanden, dass die Blendenöffnung bzw. die Kante der Blendenöffnung der Aperturblende und der Wärmeblende ovale bzw. elliptische Formen oder in der Geometrie (ggf. abgesehen von einer Skalierung, s.u.) übereinstimmende Freiformen aufweisen. Die Abmessungen der jeweiligen geometrischen Form bzw. der Blendenöffnung sind bei der Wärmeblende in der Regel größer als bei der Aperturblende. Unter derselben geometrischen Form wird auch verstanden, dass die beiden Blendenöffnungen ggf. in zwei zueinander senkrechten Richtungen unterschiedlich skaliert sind, beispielsweise wenn sich das Verhältnis der Längen der Hauptachsen einer Blendenöffnung mit ovaler bzw. elliptischer Geometrie der Wärmeblende und der Aperturblende voneinander unterscheiden. Dies ist typischerweise der Fall, wenn die Aperturblende und die Wärmeblende nicht parallel zueinander ausgerichtet sind.
Bei einer Ausführungsform ist die Wärmeblende unter einem Winkel zur Aperturblende ausgerichtet, der typischerweise zwischen ca. 8° und ca. 20° liegt. Während die Aperturblende in der Regel in bzw. in der Nähe einer definierten Ebene (Pupillenebene) angeordnet ist, ist dies bei der Wärmeblende nicht erforderlich, da diese keine optische Funktion übernimmt. Es kann günstig sein, die Wärmeblende in einer definierten Ausrichtung, z.B. in einer horizontalen Ebene anzuordnen, während die Aperturblende bezüglich dieser Ebene geneigt, d.h. unter einem Winkel, ausgerichtet ist. Die Möglichkeit, die Wärmeblende nahezu beliebig im Raum ausrichten zu können kann insbesondere dazu verwendet werden, die Kühlung der Wärmeblende zu vereinfachen. Die Ausrichtung der Wärmeblende in einer z.B. horizontalen Ebene kann auch dazu verwendet werden, um die Wärmeblende als Referenzfläche für ein Blenden-Modul zu verwenden, in das die Aperturblende sowie weitere Blenden, z.B. eine Obskurationsblende bzw. ein Obskurationsblenden-Rahmen, integriert ist und in dem die Aperturblende positioniert wird. Die Wärmeblende kann in ihrer lateralen Position durch Anschläge an einer geeigneten Schnittstelle fixiert bzw. positioniert werden. Das Blenden-Modul kann mit Hilfe von Abstandshaltern in einer gewünschten Position relativ zum Strahlengang innerhalb des optischen Systems gehalten werden, dies ist aber nicht zwingend erforderlich.
Bei einer weiteren Ausführungsform umfasst das optische System eine Obskurationsblende zum Ausblenden eines inneren Teilbereichs des Strahlengangs. Wie weiter oben beschrieben wurde, ist die Obskurationsblende ausgebildet, einen inneren Teilbereich des Querschnitts des Strahlengangs auszublenden bzw. abzuschatten. Die Obskurationsblende wird typischerweise verwendet, um eine Obskuration, beispielsweise einen Durchbruch in einem Spiegel oder dergleichen, durch den der Strahlengang des optischen Systems führt, zu verdecken. Eine Obskuration bzw. ein obskuriertes Design kann insbesondere bei Projektionssystemen bzw. Projektionsobjektiven für die EUV-Lithographie verwendet werden, die eine hohe numerische Apertur aufweisen.
Bei einem Projektionssystem mit einem obskurierten Design bleibt ein kleiner Teilbereich der Austrittspupille dunkel, ein solches Design ermöglicht es aber, erhebliche Vorteile hinsichtlich der Transmission zu realisieren. Projektionssysteme mit einem obskurierten optischen Design, genauer gesagt mit einer obskurierten Pupille, sind beispielsweise in der WO2006/069725 A1 beschrieben, welche in ihrer Gesamtheit durch Bezugnahme zum Inhalt dieser Anmeldung gemacht wird.
Die Aperturblende kann als Halterung für die Obskurationsblende dienen, wie dies beispielsweise in der DE 10 2016 221 823 A1 beschrieben ist, welche durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit zum Inhalt dieser Anmeldung gemacht wird.
Bei einer Weiterbildung ist die Obskurationsblende im Strahlengang zwischen der Aperturblende und der Wärmeblende angeordnet. In diesem Fall ist die Obskurationsblende typischerweise in geringem Abstand zur Aperturblende angeordnet und in der Regel im Wesentlichen parallel zur Aperturblende ausgerichtet. Dies ist günstig, da sowohl die Aperturblende als auch die Obskurationsblende in dem optischen System in der Regel in bzw. in der Nähe einer Pupillenebene angeordnet sind. Die Aperturblende dient in diesem Fall nicht als Halterung für die Obskurationsblende, die z.B. über Stege oder dergleichen an einer eigenen Halterung befestigt ist. Bei der Halterung kann es sich um einen Tragrahmen des optischen Systems oder um ein Blenden-Modul handeln, an dem typischerweise auch die Aperturblende befestigt ist.
Bei einer weiteren Ausführungsform umfasst das optische System eine Halterung zum Halten der Obskurationsblende im Strahlengang, sowie bevorzugt eine Entkopplungseinrichtung, die ausgebildet ist, eine Wärmeausdehnung der Obskurationsblende von der Halterung zu entkoppeln. Die Obskurationsblende bildet ein Blendenelement, welches beispielsweise über Stege an der Halterung befestigt ist. Wie dies in der eingangs zitierten DE 10 2016 221 823 A1 beschrieben ist, kann das optische System eine Entkopplungseinrichtung aufweisen, um die Wärmeausdehnung der Obskurationsblende von der Halterung zu entkoppeln. Die Entkopplungseinrichtung kann zu diesem Zweck beispielsweise eine oder mehrere Federn aufweisen, die z.B. zwischen der Obskurationsblende und der Halterung oder zwischen einem jeweiligen Steg und der Halterung, angeordnet sind. Bei der Halterung der Obskurationsblende kann es sich um einen Tragrahmen des optischen Systems handeln, an dem typischerweise auch die Aperturblende befestigt ist, oder um ein Bauteil, welches mit dem Tragrahmen verbunden ist, z.B. um ein Blenden-Modul.
Aufgrund des typischerweise geringen Abstands zwischen der Aperturblende und der Obskurationsblende führt eine Erwärmung der Aperturblende zur Emission von Wärmestrahlung und daher zu einem ggf. erheblichen Wärmeeintrag in die Obskurationsblende. Durch die weiter oben beschriebene Wärmeblende wird die Wärmelast der Aperturblende reduziert, so dass weniger Wärmestrahlung von der Aperturblende zur Obskurationsblende gelangt und auch deren Wärmelast reduziert wird.
Bei einer weiteren Ausführungsform umfasst das optische System eine Kühleinrichtung zur Kühlung der Wärmeblende. Da die Wärmeblende den Hauptteil der Wärmelast trägt, der ansonsten auf die Aperturblende treffen würde, ist es günstig, wenn die Wärmelast von der Wärmeblende schnell bzw. leicht abgeführt werden kann. Auf diese Weise ist sichergestellt, dass die thermische Ausdehnung der Kante bzw. der Kontur der Wärmeblende bei der Erwärmung im Betrieb des optischen Systems nicht zu groß ist, wodurch die Kante der Blendenöffnung der Wärmeblende näher am äußeren Umfang des Strahlengangs angeordnet werden kann. Entsprechend kann die Wärmelast, die auf die Aperturblende trifft, reduziert werden, da ein größerer Anteil der Wärmelast von der Wärmeblende aufgenommen wird. Die Kühleinrichtung kann zur direkten Kühlung der Wärmeblende oder zur indirekten Kühlung der Wärmeblende, z.B. durch die Kühlung einer Halterung der Wärmeblende, ausgebildet sein. Die Kühleinrichtung selbst kann beispielsweise ein Peltierelement oder eine Fluid- und/oder Gaskühlung umfassen. Im Falle einer Fluidkühlung kann beispielsweise die Wärmeblende selbst, eine Halterung der Wärmeblende oder ein anderes Bauelement, welches mit der Wärmeblende bzw. mit der Halterung bevorzugt in flächigem Kontakt steht, mit Hilfe eines Kühlfluids, beispielsweise mit Hilfe von Kühlwasser, gekühlt werden.
Bei einer Weiterbildung steht die Wärmeblende in Kontakt mit einer Oberfläche eines Vakuum-Gehäuses des optischen Systems und die Kühleinrichtung ist zur Kühlung des Vakuum-Gehäuses ausgebildet. Durch den bevorzugt flächigen Kontakt der Oberfläche des Vakuum-Gehäuses mit der Wärmeblende, bei der es sich typischerweise um ein im Wesentlichen plattenförmiges Bauteil handelt, kann eine effiziente Kühlung der Wärmeblende erfolgen.
Bei dem Vakuum-Gehäuse kann es sich insbesondere um ein Gehäuse handeln, welches ein so genanntes „mini-environment“ begrenzt, in dem mindestens ein optisches Element angeordnet ist, wie dies beispielsweise in der WO2008/034582 A1 beschrieben ist, welche in ihrer Gesamtheit durch Bezugnahme zum Inhalt dieser Anmeldung gemacht wird. Die Kühleinrichtung kann beispielsweise ausgebildet sein, das Vakuum-Gehäuse mittels einer Fluidkühlung, beispielsweise mittels einer Wasserkühlung, zu kühlen. Zu diesem Zweck können in dem Vakuum-Gehäuse oder in einem mit dem Vakuum-Gehäuse in Kontakt stehenden Bauteil Kühlkanäle vorgesehen sein.
Bei einer weiteren Ausführungsform ist/sind die Aperturblende und/oder die Wärmeblende aus einem metallischen Material gebildet, welches bevorzugt ausgewählt ist aus der Gruppe umfassend: Aluminium, Kupfer und Stahl. Die Aperturblende, die Wärmeblende und/oder die ggf. vorhandene Obskurationsblende sind bevorzugt plattenförmig und aus einem metallischen Material, beispielsweise aus einem Metallblech, gebildet. Die Verwendung metallischer Materialien, insbesondere von Aluminium oder von Kupfer, welche eine hohe thermische Leitfähigkeit aufweisen, hat sich als günstig für die Kühlung der Blenden erwiesen. Allerdings ist auch bei der Verwendung von Aluminium oder Kupfer als Blenden-Material der Aperturblende die durch die thermische Ausdehnung hervorgerufene Positionsabweichung ohne die Verwendung der Wärmeblende erheblich.
Bei einer weiteren Ausführungsform umfasst das optische System ein Projektionssystem zur Abbildung einer Photomaske auf einen Wafer, wobei die Aperturblende im Bereich einer Pupillenebene des Projektionssystems angeordnet ist. In diesem Fall ist das optische System als Lithographieanlage ausgebildet und weist zusätzlich zu dem Projektionssystem ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem auf. In Abhängigkeit von der abzubildenden Struktur auf der Maske werden die Beleuchtungseinstellungen des Strahlformungs- und Beleuchtungssystems verändert, was eine Auswirkung auf die Strahlungsleistung bzw. auf die Wärmelast an der Aperturblende hat. Wie weiter oben beschrieben wurde, kann - falls diese benötigt wird - auch die Obskurationsblende in bzw. in unmittelbarer Nähe zur Pupillenebene angeordnet sein.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung, anhand der Figuren der Zeichnung, die erfindungswesentliche Einzelheiten zeigen, und aus den Ansprüchen. Die einzelnen Merkmale können je einzeln für sich oder zu mehreren in beliebiger Kombination bei einer Variante der Erfindung verwirklicht sein.
Figurenliste
Ausführungsbeispiele sind in der schematischen Zeichnung dargestellt und werden in der nachfolgenden Beschreibung erläutert. Es zeigt

1a eine schematische Darstellung einer EUV-Lithographieanlage,
1b eine schematische Darstellung einer DUV-Lithographieanlage,
2 eine schematische Darstellung einer Aperturblende zur Begrenzung eines äußeren Umfangs eines Strahlengangs der EUV-Lithographieanlage von 1 sowie einer Wärmeblende zur teilweisen Abschattung der Aperturblende, sowie
3a,b schematische Darstellungen einer Draufsicht auf die Aperturblende bzw. auf die Aperturblende mit der vorgelagerten Wärmeblende.

In der folgenden Beschreibung der Zeichnungen werden für gleiche bzw. funktionsgleiche Bauteile identische Bezugszeichen verwendet.
1a zeigt schematisch den Aufbau einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem in 1a angedeuteten Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mit Hilfe einer nicht dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem die Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren bzw. Einstellen der optischen Elemente vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein.
Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Synchrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich, z.B. im Wellenlängenbereich zwischen 5 nm und 20 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt und die gewünschte Betriebswellenlänge aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind.
Das in 1a dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf die Photomaske (engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel M1-M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel i.d.R. an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
1b zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, die ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 können - wie bereits mit Bezug zu 1a beschrieben - in einem Vakuumgehäuse angeordnet und/oder von einem Maschinenraum mit entsprechenden Antriebsvorrichtungen umgeben sein.
Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert.
Das in 1b dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen und Spiegel der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen und/oder Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte Auflösung bei der Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf.
2 zeigt ein Detail der EUV-Lithographieanlage 100A von 1a, genauer gesagt des Projektionssystems 104. Der erste Spiegel M1, der in 2 dargestellt ist, und der zweite Spiegel M2 (vgl. 1a) definieren einen Abschnitt des Strahlengangs 200 des Projektionssystems 104 bzw. der EUV-Lithographieanlage 100A. Zwischen dem ersten Spiegel M1 und dem zweiten Spiegel M2 ist eine Aperturblende 202 angeordnet, die eine Blendenöffnung 204 mit einer umlaufenden Kante 206 zur Begrenzung des Strahlengangs 200 der EUV-Lithographieanlage 100A an seinem äußeren Umfang 200a aufweist. Die Aperturblende 202 dient dazu, den Strahlengang 200 randseitig zu beschneiden bzw. präzise zu definieren, um die (eintrittsseitige) numerische Apertur des Projektionssystems 104 festzulegen.
Ein Anteil der EUV-Strahlung 108A der EUV-Lithographieanlage, der auf einen an die Kante 206 angrenzenden Bereich der Aperturblende 202 trifft, wird vom Material der Aperturblende 202 absorbiert, wodurch diese sich erwärmt. Die Aperturblende 202 ist bei dem in 2 gezeigten Beispiel plattenförmig ausgebildet und besteht aus einem metallischen Material, d.h. es handelt sich um ein Metall-Blech. Insbesondere metallische Materialien mit einem hohen Wärmeleitkoeffizienten, z.B. Aluminium, Kupfer oder Stahl, haben sich als Materialien für die Aperturblende 202 (und auch für die Wärmeblende 208 (s.u.)) als günstig erwiesen, da dies eine direkte Kühlung ermöglicht.
Es hat sich gezeigt, dass sich die Aperturblende 202 trotz der Tatsache, dass diese aus einem Material mit einem hohen Wärmeleitkoeffizienten gebildet ist, im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 100A ggf. erheblich erwärmt, da diese einer Wärmelast von ggf. mehreren Watt ausgesetzt ist, so dass diese sich auf Temperaturen von mehr als ca. 30-40°C aufheizt. Durch die Erwärmung der Aperturblende 202 im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 100A dehnt diese sich (ggf. inhomogen) aus, was eine Fehlpositionierung der Blendenöffnung 204 relativ zum Strahlengang 200 und/oder eine Veränderung der Geometrie, insbesondere eine Verringerung der Größe der Blendenöffnung 204, zur Folge haben kann. Dies führt zu optischen Fehlern bei der Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124.
Um die Wärmelast auf die Aperturblende 202 zu verringern, ist im Strahlweg der EUV-Strahlung 108A vor der Aperturblende 202 eine Wärmeblende 208 angeordnet. Die Wärmeblende 208 dient dazu, die Aperturblende 202 teilweise von der EUV-Strahlung 108A abzuschatten, wobei die Kante 206 der Aperturblende 202 von der Abschattung ausgenommen ist. Auf diese Weise ist sichergestellt, dass allein die Aperturblende 202 und nicht die Wärmeblende 208 die Funktion der Festlegung der numerischen Apertur des Projektionssystems 104 übernimmt. Um dies zu erreichen, weist die Wärmeblende 208 eine Blendenöffnung 210 mit einer Kante 212 auf, die vom äußeren Umfang 200a des Strahlengangs 200 beabstandet ist.
Die Wärmeblende 208 wird von EUV-Strahlung 108A getroffen, die innerhalb des Projektionssystems 104, aber außerhalb des Strahlengangs 200 propagiert und die daher nicht zur Abbildung beiträgt. Die EUV-Strahlung 108A, die auf die Wärmeblende 208 trifft, kann auch an Bauteilen der EUV-Lithographieanlage 100A außerhalb des Strahlengangs 200 gestreut worden sein. Wie in 2 zu erkennen ist, ist die Wärmeblende 208 vollständig außerhalb des Strahlengangs 200 der Nutzstrahlung angeordnet, d.h. der Strahlung, die zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 beiträgt. Die Wärmeblende 208 wird aber von so genanntem Falschlicht getroffen, das nicht zum Wafer 124 gelangt und das von der Wärmeblende 208 absorbiert wird.
Bei dem in 2 gezeigten Beispiel weist die Kante 212 der Blendenöffnung 210 der Wärmeblende 208 im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 100A bei ihrer maximal möglichen Betriebstemperatur von z.B. ca. 40°C einen (minimalen) Abstand A von mindestens 50 µm, insbesondere von mindestens 1 µm vom äußeren Umfang des Strahlengangs 200a auf. Der Abstand A der Kante 212 der Blendenöffnung 210 ist einerseits so groß bemessen, dass die Wärmeblende 208 auch bei maximaler zu erwartender Wärmelast sich nicht so weit ausdehnt, dass die Kante 212 der Wärmeblende 208 den äußeren Umfang 200a des Strahlengang 200 erreicht und andererseits so klein bemessen, dass die Aperturblende 202 eine möglichst große Abschattung durch die Wärmeblende 208 erfährt. Der Abstand A zwischen der Kante 212 der Blendenöffnung 210 der Wärmeblende 208 und dem äußeren Umfang 200a des Strahlengangs 200 muss nicht konstant sein, vielmehr kann der Abstand A in Umfangsrichtung der Kante 212 variieren. Typische Werte für den Abstand A zwischen der Kante 212 der Wärmeblende 208 und dem äußeren Umfang 200a des Strahlengangs 200 in der Ebene der Wärmeblende 208 liegen zwischen ca. 1 µm und ca. 2 mm, insbesondere zwischen ca. 50 µm und ca. 1 mm.
Bei dem in 2 gezeigten Beispiel ist die Aperturblende 202 in bzw. in unmittelbarer Nachbarschaft zu einer Pupillenebene 132 des Strahlengangs 200 des Projektionssystems 104 angeordnet. Diese Anordnung bedingt, dass die Aperturblende 202 unter einem Winkel α zu einer horizontalen Ebene geneigt angeordnet ist, welche die XY-Ebene eines XYZ-Koordinatensystems bildet. Im Gegensatz zur Aperturblende 202 ist die Wärmeblende 208 horizontal, d.h. parallel zur XY-Ebene, ausgerichtet. Typische Werte für den Winkel α zwischen der Aperturblende 202 und der Wärmeblende 208 liegen zwischen ca. 8° und ca. 20°, wobei die Größe des Winkels α unter anderem vom Design des Projektionssystems 104 abhängig ist.
3a zeigt eine Draufsicht auf die Aperturblende 202 in Richtung der optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 bzw. der EUV-Lithographieanlage 100A von 1a. 3b zeigt eine Draufsicht auf die Aperturblende 202 und auf die Wärmeblende 208 in Richtung der optischen Achse 126 in Propagationsrichtung der EUV-Strahlung 108A bzw. entlang der optischen Achse 126. Wie in 3a,b zu erkennen ist, weisen sowohl die Blendenöffnung 204 der Aperturblende 202 als auch die - größere - Blendenöffnung 210 der Wärmeblende 208 eine ovale geometrische Form auf. Gleichwohl ist jede andere Geometrie - kreisförmig oder nicht kreisförmig - der Blendenöffnung 204 der Aperturblende 202, auch eine Freiform-Geometrie, möglich. Die Blendenöffnung 210 der Wärmeblende 208 ist typischerweise an die geometrische Form der Blendenöffnung der Aperturblende 202 angepasst bzw. stimmt mit dieser überein.
Wie anhand von 3b zu erkennen ist, ist die Kante 206 der Aperturblende 202 in der Projektion entlang des optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 von der Kante 212 der Wärmeblende 208 um einen Abstand A beabstandet, der wie weiter oben beschrieben bei mindestens 50 µm, insbesondere bei mindestens 1 µm liegt. Der Abstand A bzw. die Breite des Spalts zwischen der Kante 206 der Aperturblende 208 und der Kante 212 der Wärmeblende 208 in einer Ebene senkrecht zur optischen Achse 126 liegt im gezeigten Beispiel zwischen ca. 1 µm und 2 mm, insbesondere zwischen ca. 50 µm und ca. 1 mm.
Das Projektionssystem 104 umfasst eine nicht gezeigte Obskuration, bspw. einen Durchbruch in einem der Spiegel M1 bis M6, durch welchen der Strahlengang 200 des Projektionssystems 104 führt. Die Obskuration soll mit Hilfe einer Obskurationsblende 214 verdeckt werden, insbesondere um eine Feldabhängigkeit einer entsprechenden Abschattung (in der Ebene des Wafers 124) zu reduzieren. Die Obskurationsblende 214 ist dazu ausgebildet, einen inneren Teilbereich 200b des Strahlengangs 200 abzudecken bzw. auszublenden. Das heißt, ein Teil der EUV-Strahlung 108A wird auf seinem Weg durch den Strahlengang 200 von dem ersten Spiegel M1 zu dem zweiten Spiegel M2 von der Obskurationsblende 214 reflektiert oder absorbiert. Die Obskurationsblende 214 ist vollständig innerhalb des Strahlengangs 200 in bzw. in der Nähe der Pupillenebene 132 angeordnet, und zwar zwischen der Aperturblende 202 und der Wärmeblende 208. Die Obskurationsblende 214 kann eine reflektierende Beschichtung (nicht gezeigt) aufweisen, so dass ein Wärmeeintrag in die Obskurationsblende 214 reduziert ist. Im gezeigten Beispiel ist die Obskurationsblende 214 als ovale bzw. ellipsenförmige Scheibe ausgebildet und weist eine äußere, umlaufende Kante auf, welche als lichtbestimmende Kante für die Abschattung des inneren Teilbereichs 200b des Strahlengangs 200 dient.
Das Projektionssystem 104 umfasst auch eine Halterung 216, welche die Obskurationsblende 214 im Strahlengang 200 hält. Die Halterung 216 ist im gezeigten Beispiel an einem Blenden-Modul 228 des Projektionssystems 104, genauer gesagt an einer Seitenwand des Blenden-Moduls 228, befestigt. Es ist auch möglich, dass die Halterung 216 selbst einen Teil des Blenden-Moduls 228 bildet oder dass die Halterung 216 als ein Tragrahmen des Projektionssystems 104 ausgebildet ist, der zur Halterung der Spiegel M1 bis M6 dient. Die Halterung der Spiegel M1 bis M6 kann insbesondere mittels Aktuatoren (beispielsweise Gewichtskraftkompensatoren und/oder Lorentz Aktuatoren) erfolgen. Alternativ zu dem in 2 gezeigten Beispiel kann die Aperturblende 202 selbst als Halterung für die Obskurationsblende 214 dienen.
Die Obskurationsblende 214 ist bei dem in 2 gezeigten Beispiel über Stege 218 an der Halterung 216 befestigt. Zur thermischen Entkopplung der Wärmeausdehnung der Obskurationsblende 214 von der Halterung 216 weist das Projektionssystem 104 im gezeigten Beispiel eine Entkopplungseinrichtung 220 auf. Die Entkopplungseinrichtung 220 ist zwischen der Halterung 216 und der Obskurationsblende 214 angeordnet und ist bei dem gezeigten Beispiel als elastisch federnder Steg 218 ausgebildet. Auch andere Ausgestaltungen der Entkopplungseinrichtung 220 sind möglich, beispielsweise kann die Entkopplungseinrichtung eine oder mehrere Federn umfassen, die zwischen einem jeweiligen Steg 218 und der Halterung 216 angebracht sind, wie dies beispielsweise in der eingangs zitierten DE 10 2016 221 823 A1 näher beschrieben ist.
Wie in 2 zu erkennen ist, sind die Aperturblende 202, die Obskurationsblende 214 und die Wärmeblende 208 in einem gemeinsamen Blenden-Modul 228 untergebracht, das selbst Teil eines nicht bildlich dargestellten Vakuum-Gehäuses ist, das die (Vakuum-)Umgebung des zweiten Spiegels M2 (vgl. 1a) umgibt bzw. diesen kapselt. Das Blenden-Modul 228 ist an der Oberseite eines in 2 dargestellten Vakuum-Gehäuses 224 angebracht, welches den ersten Spiegel M1 umgibt bzw. kapselt.
Das Blenden-Modul 228, genauer gesagt die Wärmeblende 208, liegt mit ihrer Unterseite flächig an einer in horizontaler Richtung verlaufenden Oberfläche 226 an der Oberseite des Vakuum-Gehäuses 224 auf bzw. an dem Vakuum-Gehäuse 224 an. Das Vakuum-Gehäuse 224 wird mit Hilfe einer Kühleinrichtung 222 gekühlt, die im gezeigten Beispiel zur Wasserkühlung des Vakuum-Gehäuses 224 ausgebildet ist. In bzw. an dem Vakuum-Gehäuse 224 sind zu diesem Zweck nicht bildlich dargestellte Kühlkanäle angebracht. Der flächige Kontakt zwischen der Wärmeblende 208 und dem Vakuum-Gehäuse 224 vereinfacht deren Kühlung. Um die Wärmeblende 208 effektiv kühlen zu können, ist diese ebenso wie die Aperturblende 202 aus einem metallischen Material gebildet, welches eine hohe Wärmeleitfähigkeit aufweist, beispielsweise aus Aluminium, Kupfer oder Stahl. Aufgrund ihrer horizontalen Ausrichtung eignet sich die Wärmeblende 208 auch als Referenz bzw. als Ausgangsposition für nicht bildlich dargestellte Abstandshalter, welche die Aperturblende 202 und die Obskurationsblende 214 innerhalb des Blenden-Moduls 228 halten.
Es versteht sich, dass die Aperturblende 202 nicht nur bei dem weiter oben beschriebenen EUV-Lithographiesystem 100A, sondern auch bei anderen optischen Systemen mit Hilfe einer Wärmeblende 208 abgeschattet werden kann, um die Wärmelast zu reduzieren. Bei dem optischen System kann es sich insbesondere um die in 1b dargestellte DUV-Lithographieanlage 100B handeln. Bei dem optischen System kann es sich auch um ein Mikroskop, insbesondere um ein Elektronenmikroskop, handeln. Insbesondere kann es sich bei dem optischen System auch um einen Ausschnitt, d. h. eine Anordnung mehrerer Bauteile, aus der EUV-Lithographieanlage 100A von 1a oder der DUV-Lithographieanlage 100B von 1b handeln. Es versteht sich, dass die Aperturblende 202 nicht zwingend im Strahlengang 200 zwischen zwei Spiegeln M1, M2 angebracht werden muss, sondern dass diese auch im Strahlengang zwischen anderen optischen Elementen angeordnet werden kann, bei denen es sich grundsätzlich um Linsen, Verzögerungsplatten, optische Gitter oder dergleichen handeln kann.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

DE 102015201253 A1 [0006]
DE 102016221823 A1 [0007, 0023, 0025, 0055]
WO 2006/069725 A1 [0022]
WO 2008/034582 A1 [0029]

Claims

Optisches System, insbesondere Lithographiesystem (100A, 100B), umfassend: eine Aperturblende (202), die eine Blendenöffnung (204) mit einer Kante (206) zur Begrenzung eines Strahlengangs (200) des optischen Systems an seinem äußeren Umfang (200a) aufweist, gekennzeichnet durch eine vor der Aperturblende (202) angeordnete Wärmeblende (208) zur teilweisen Abschattung der Aperturblende (202), wobei die Kante (206) der Aperturblende (202) von der Abschattung ausgenommen ist.
Optisches System nach Anspruch 1, bei dem die Wärmeblende (208) eine Blendenöffnung (210) mit einer Kante (212) aufweist, die vom äußeren Umfang (200a) des Strahlengangs (200) beabstandet ist.
Optisches System nach Anspruch 2, bei dem die Kante (212) der Blendenöffnung (210) der Wärmeblende (20) im Betrieb des optischen Systems einen Abstand (A) von mindestens 50 µm, insbesondere von mindestens 1 µm vom äußeren Umfang (200a) des Strahlengangs (200) aufweist.
Optisches System nach Anspruch 2 oder 3, bei dem die Kante (212) der Blendenöffnung (210) der Wärmeblende (20) im Betrieb des optischen Systems einen Abstand (A) von nicht mehr als 2 mm, insbesondere von nicht mehr als 1 mm vom äußeren Umfang (200a) des Strahlengangs (200) aufweist.
Optisches System nach einem der Ansprüche 2 bis 4, bei welcher eine geometrische Form der Blendenöffnung (210) der Wärmeblende (208) mit einer geometrischen Form der Blendenöffnung (204) der Aperturblende (202) übereinstimmt.
Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Wärmeblende (208) unter einem Winkel (α) zur Aperturblende (202) ausgerichtet ist.
Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter umfassend: eine Obskurationsblende (214) zum Ausblenden eines inneren Teilbereichs (200b) des Strahlengangs (200).
Optisches System nach Anspruch 7, bei dem die Obskurationsblende (214) im Strahlengang (200) zwischen der Aperturblende (202) und der Wärmeblende (208) angeordnet ist.
Optisches System nach Anspruch 7 oder 8, weiter umfassend: eine Halterung (216) zum Halten der Obskurationsblende (214) im Strahlengang (200), sowie bevorzugt eine Entkopplungseinrichtung (220), die ausgebildet ist, eine Wärmeausdehnung der Obskurationsblende (214) von der Halterung (216) zu entkoppeln.
Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter umfassend: eine Kühleinrichtung (222) zur Kühlung der Wärmeblende (202).
Optisches System nach Anspruch 10, bei dem die Wärmeblende (202) in Kontakt mit einer Oberfläche (226) eines Vakuum-Gehäuses (224) des optischen Systems steht, und bei dem die Kühleinrichtung (222) ausgebildet ist, das Vakuum-Gehäuse (224) zu kühlen.
Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Aperturblende (202) und/oder die Wärmeblende (208) aus einem metallischen Material gebildet ist/sind, welches bevorzugt ausgewählt ist aus der Gruppe umfassend: Aluminium, Kupfer und Stahl.
Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter umfassend: ein Projektionssystem (104) zur Abbildung einer Photomaske (120) auf einen Wafer (124), wobei die Aperturblende (202) im Bereich einer Pupillenebene (132) des Projektionssystems (104) angeordnet ist.